一种半导体废气处理设备新型水箱冷却装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种半导体废气处理设备新型水箱冷却装置,包括水槽体，所述水槽体的内部设置有冷却装置一，所述冷却装置一包括主水管和若干根副水管，所述主水管的内部设置有水泵，所述副水管上和主水管上均设置有若干雾化喷头。本实用新型专利技术通过冷却装置一和冷却装置二，可以有效的降低水槽体内废气的温度，提高了处理的效率。高了处理的效率。高了处理的效率。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体废气处理设备新型水箱冷却装置


[0001]本技术涉及废气处理设备
，具体为一种半导体废气处理设备新型水箱冷却装置。

技术介绍

[0002]在半导体废气处理设备的运行过程中，废气首先需要经过高温处理(电加热、燃烧式、等离子式)，再经过排水装置连接后端管道装置(冷却、过滤、吸附等作用)，最后排出设备。
[0003]然而，现有的半导体废气处理设备新型水箱冷却装置在使用的过程中存在以下的问题：由于现有的废气处理设备在废气进入到水槽内后温度较高，无法及时的降低温度，导致处理效率较低。为此，需要设计相应的技术方案解决存在的技术问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种半导体废气处理设备新型水箱冷却装置，解决了因现有的废气处理设备在废气进入到水槽内后温度较高，无法及时的降低温度导致的处理效率较低的技术问题，提高了处理效率，满足实际使用需求。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：包括水槽体，所述水槽体的内部设置有冷却装置一，所述冷却装置一包括主水管和若干根副水管，所述主水管的内部设置有水泵，所述副水管上和主水管上均设置有若干雾化喷头。
[0006]作为本技术的一种优选实施方式，所述水槽体的两侧及一端之间设置有冷却装置二，所述冷却装置二包括两块均热板和两个循环水泵，所述均热板的内部设置有循环水管，所述均热板的一端与循环水泵之间设置有两个连接管。
[0007]作为本技术的一种优选实施方式，所述水槽体的内部设有隔板，所述水槽体的底部一端设有出水口。
[0008]作为本技术的一种优选实施方式，所述主水管垂直与水槽体的内部，所述副水管位于主水管上。
[0009]作为本技术的一种优选实施方式，所述均热板呈矩形结构且位于水槽体的两侧，所述均热板的内部和循环水管的内部均装有冷却液，所述循环水泵位于水槽体的两端上，所述连接管与循环水管和循环水泵之间相通。
[0010]与现有技术相比，本技术的有益效果如下：
[0011]1.通过冷却装置一，可以在废气进入水槽体内后，有效的降低温度，水槽体内部的主水管和副水管，对若干喷雾头进行供水，可以在废气经过水槽体时，充分的与水雾接触，达到处理废气和降温的效果，废气经过水槽体时无死角的与喷出的水雾接触，提高处理效率,从而解决了处理效率较低的问题。
[0012]2.通过冷却装置二，可以有效的降低水槽体的温度，均热板将热量进行吸收，内部的循环水管通过循环水泵对内部的冷却水进行循环，不断的将热量进行传递吸收，辅助降
低水槽体的整体的温度,从而解决了处理效率较低的问题。
附图说明
[0013]图1为本技术的整体示意图；
[0014]图2为本技术所述冷却装置一结构图；
[0015]图3为本技术所述冷却装置二结构图。
[0016]图中:水槽体
‑
1，冷却装置一
‑
2，冷却装置二
‑
3，主水管
‑
4，副水管
‑
5，雾化喷头
‑
6，水泵
‑
7，循环水泵
‑
8，连接管
‑
9，均热板
‑
10，循环水管
‑
11。
具体实施方式
[0017]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0018]请参阅图1
‑
3，本技术提供一种技术方案：一种半导体废气处理设备新型水箱冷却装置，包括：水槽体1，水槽体1的内部设置有冷却装置一2，冷却装置一2包括主水管4和若干根副水管5，主水管4的内部设置有水泵7，副水管5上和主水管4上均设置有若干雾化喷头6，水槽体1的内部设有隔板，水槽体1的底部一端设有出水口，主水管4垂直与水槽体1的内部，副水管5位于主水管4上，通过冷却装置一2，可以有效的降低水槽体内废气的温度，提高了处理的效率。
[0019]进一步改进地，如图3所示：水槽体1的两侧及一端之间设置有冷却装置二3，冷却装置二3包括两块均热板10和两个循环水泵8，均热板10的内部设置有循环水管11，均热板10的一端与循环水泵8之间设置有两个连接管9，均热板10呈矩形结构且位于水槽体1的两侧，均热板10的内部和循环水管11的内部均装有冷却液，循环水泵8位于水槽体1的两端上，连接管9与循环水管11和循环水泵8之间相通，通过冷却装置二3，可以在冷却装置一2对废气进行降温的同时，辅助降低水槽体1的问题，提高了处理的效率。
[0020]在使用时：本技术在废气进入到水槽体1内后，水槽体1内部的主水管4和副水管5，通过水泵7进行供水，进一步通过雾化喷头6将水雾喷在水槽体1内，可以在废气经过水槽体1时，充分的与水雾接触，达到处理废气和降温的效果，废气经过水槽体1时无死角的与喷出的水雾接触，提高处理效率，同时，均热板10将热量进行吸收，内部的循环水管11通过循环水泵8对内部的冷却水进行循环，不断的将热量进行传递吸收，辅助降低水槽体1的整体的温度。
[0021]最后应说明的是：以上所述仅为本技术的优选实施例而已，并不用于限制本技术，尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体废气处理设备新型水箱冷却装置，其特征在于：包括水槽体(1)，所述水槽体(1)的内部设置有冷却装置一(2)，所述冷却装置一(2)包括主水管(4)和若干根副水管(5)，所述主水管(4)的内部设置有水泵(7)，所述副水管(5)上和主水管(4)上均设置有若干雾化喷头(6)。2.根据权利要求1所述的一种半导体废气处理设备新型水箱冷却装置，其特征在于：所述水槽体(1)的两侧及一端之间设置有冷却装置二(3)，所述冷却装置二(3)包括两块均热板(10)和两个循环水泵(8)，所述均热板(10)的内部设置有循环水管(11)，所述均热板(10)的一端与循环水泵(8)之间设置有两个连接管(9)。3.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔汉博，崔汉宽，
申请(专利权)人：上海高生集成电路设备有限公司，
类型：新型
国别省市：