一种半导体废气处理设备新型水汽分离装置制造方法及图纸

技术编号:36000276 阅读:16 留言:0更新日期:2022-12-17 23:17
本实用新型专利技术公开了一种半导体废气处理设备新型水汽分离装置,包括:装置本体,装置本体呈方形结构且两端分别设置有连接口,连接口处安装有法兰,装置本体的内壁两侧共安装有三个初次分离板,三个初次分离板倾斜设置且交替分布,装置本体的内部上端接近开口处安装有二次分离板,二次分离板包括固定框和挡水板,挡水板为向上凸起的球面结构。本实用新型专利技术在装置内部安装有三个交替分布的初次分离板,使废气经过时,急剧的变换气流方向,使水停留在流向初次分离板上,最终自动流向下方排出,废气经过初次分离板后再经二次分离板来进行二次分离,二次分离时空气与挡水环接触,使空气中残留的水停留在流向挡水环上,提高水汽分离的效果。提高水汽分离的效果。提高水汽分离的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体废气处理设备新型水汽分离装置


[0001]本技术涉及水汽分离
,更具体为一种半导体废气处理设备新型水汽分离装置。

技术介绍

[0002]废水处理就是利用物理、化学和生物的方法对废水进行处理,使废水净化,减少污染,以至达到废水回收、复用,充分利用水资源。汽水分离器为压力容器结构碳钢或不锈钢设备,接口型式是法兰结构DN16/DN25/DN40;汽水分离器必须安装于水平管线上,排水口垂直向下,所有口径的汽水分离器均带安装支架,以减小管道承载。为确保被分离的液体迅速排放,应在汽水分离器底部的排水口连接合适的一套疏水阀组合。
[0003]目前,现有水汽分离装置对水汽捕捉不足,排出气体中仍有较大含水量,对废气后续处理造成一定的影响。为此,需要设计一个新的方案给予改进。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种半导体废气处理设备新型水汽分离装置,解决了现有的水汽分离装置对水汽捕捉不足,排出气体中仍有较大含水量,对废气后续处理造成一定的影响的问题,满足实际使用需求。
[0005]为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种半导体废气处理设备新型水汽分离装置,包括:装置本体,所述装置本体呈方形结构且两端分别设置有连接口,所述连接口处安装有法兰,所述装置本体的内壁两侧共安装有三个初次分离板,三个所述初次分离板倾斜设置且交替分布,所述装置本体的内部上端接近开口处安装有二次分离板,所述二次分离板包括固定框和挡水板,所述挡水板为向上凸起的球面结构。
[0006]作为本技术的一种优选实施方式,所述初次分离板的底面开设有向内凹陷的导水槽,所述导水槽内均匀固定有导水块,所述导水块呈长条状且截面为半圆形结构。
[0007]作为本技术的一种优选实施方式,所述导水槽内部且位于相邻的导水块之间均匀安装有若干个导水柱,所述导水柱的下端呈球面。
[0008]作为本技术的一种优选实施方式,所述挡水板的侧壁与固定框内壁固定连接,所述固定框的外壁与装置本体的内壁固定连接,所述挡水板的底面安装有三个挡水环,所述挡水板的表面中部开设有主孔,挡水板表面且位于相邻挡水环之间均匀开设有若干个支孔。
[0009]作为本技术的一种优选实施方式,三个所述挡水环的直径由内之外依次增加,且挡水环的表面均匀开设有若干个缺口。
[0010]与现有技术相比,本技术的有益效果如下:
[0011]本技术,在装置内部安装有三个交替分布的初次分离板,使废气经过时,急剧的变换气流方向,使水停留在流向初次分离板上,最终自动流向下方排出,废气经过初次分离板后再经二次分离板来进行二次分离,二次分离时空气与挡水环接触,使空气中残留的
水停留在流向挡水环上,提高水汽分离的效果。
附图说明
[0012]图1为本技术所述半导体废气处理设备新型水汽分离装置的结构图;
[0013]图2为本技术所述半导体废气处理设备新型水汽分离装置的内部结构图;
[0014]图3为本技术所述二次分离板的结构图;
[0015]图4为图2中A的放大图。
[0016]图中:1、装置本体;2、法兰;3、连接口;4、二次分离板;5、分离板;6、固定框;7、支孔;8、主孔;9、挡水环;10、挡水板;11、导水块;12、导水槽;13、导水柱。
具体实施方式
[0017]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
[0018]请参阅图1

4,本技术提供一种技术方案:一种半导体废气处理设备新型水汽分离装置,包括:装置本体1,装置本体1呈方形结构且两端分别设置有连接口3,连接口3处安装有法兰2,通过法兰2来将分离装置与其他设备连接,装置本体1的内壁两侧共安装有三个初次分离板5,三个初次分离板5倾斜设置且交替分布,急剧的变换气流方向,使水停留在流向分离板上,沿分离板向下滴落流出,装置本体1的内部上端接近开口处安装有二次分离板4,二次分离板4包括固定框6和挡水板10,挡水板10为向上凸起的球面结构,提高与空气的接触面。
[0019]进一步改进地,初次分离板5的底面开设有向内凹陷的导水槽12,导水槽12内均匀固定有导水块11,导水块11呈长条状且截面为半圆形结构,长条状的导水块11起到阻水和导流的效果。
[0020]进一步改进地,导水槽12内部且位于相邻的导水块11之间均匀安装有若干个导水柱13,导水柱13的下端呈球面,导水柱13和导水块11起到导水的效果。
[0021]进一步改进地,挡水板10的侧壁与固定框6内壁固定连接,固定框6的外壁与装置本体1的内壁固定连接,挡水板10的底面安装有三个挡水环9,挡水板10的表面中部开设有主孔8,挡水板10表面且位于相邻挡水环9之间均匀开设有若干个支孔7。
[0022]具体地,三个挡水环9的直径由内之外依次增加,且挡水环9的表面均匀开设有若干个缺口,部分空气通过缺口进入到挡水环9内侧,再由主孔8和支孔7导出。
[0023]本技术在使用时,在装置内部安装有三个交替分布的初次分离板5,使废气经过时,急剧的变换气流方向,使水停留在流向初次分离板5上,最终自动流向下方排出,废气经过初次分离板5后再经二次分离板4来进行二次分离,二次分离时空气与挡水环9接触,使空气中残留的水停留在流向挡水环9上,提高水汽分离的效果。
[0024]最后应说明的是:以上所述仅为本技术的优选实施例而已,并不用于限制本技术,尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征
进行等同替换。凡在本技术的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体废气处理设备新型水汽分离装置,包括:装置本体(1),其特征在于:所述装置本体(1)呈方形结构且两端分别设置有连接口(3),所述连接口(3)处安装有法兰(2),所述装置本体(1)的内壁两侧共安装有三个初次分离板(5),三个所述初次分离板(5)倾斜设置且交替分布,所述装置本体(1)的内部上端接近开口处安装有二次分离板(4),所述二次分离板(4)包括固定框(6)和挡水板(10),所述挡水板(10)为向上凸起的球面结构。2.根据权利要求1所述的一种半导体废气处理设备新型水汽分离装置,其特征在于:所述初次分离板(5)的底面开设有向内凹陷的导水槽(12),所述导水槽(12)内均匀固定有导水块(11),所述导水块(11)呈长条状且截面为半圆形结构。3.根据权利要求2所述的一种半...

【专利技术属性】
技术研发人员:崔汉博崔汉宽
申请(专利权)人:上海高生集成电路设备有限公司
类型:新型
国别省市:

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