一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控装置制造方法及图纸

技术编号:33522286 阅读:8 留言:0更新日期:2022-05-19 01:30
本实用新型专利技术涉及一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控装置,包括刻蚀机主体结构,所述刻蚀机主体结构的内部固定连接有监控结构,所述刻蚀机主体结构的外部固定连接有警报结构;所述刻蚀机主体结构包括刻蚀机本体,所述刻蚀机本体的外部固定连接有支撑块;所述监控结构包括支撑架,所述支撑架的外部固定连接有监控摄像头。该ICP高密度等离子刻蚀机的监控装置,通过设置支撑架、监控摄像头和显示屏,方便监测机器工作时的状态,通过设置温度传感器,方便检测机器内部的温度变化通过设置控制器和温度警报灯,方便该等离子刻蚀机内部温度出现变化时发出警报,通过设置固定块、警报器和警报灯,方便该等离子刻蚀机工作时发生失误时而发出警报。警报。警报。

【技术实现步骤摘要】
一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控装置


[0001]本技术涉及等离子刻蚀机
,具体为一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控装置。

技术介绍

[0002]等离子刻蚀机,又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等,等离子刻蚀,是干法刻蚀中最常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体,从而形成了等离子或离子,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。
[0003]现有的等离子刻蚀机在工作时,等离子刻蚀机内部的温度必要处于恒温状态,机器内部的温度和机器工作时的状态,都需要依靠人工来进行监测,人工监测存在疏忽,容易导致等离子刻蚀机工作出现失误,造成巨大的经济损失,且人工监测费时费力,一个工作人员只能负责一台等离子刻蚀机的监测,效率低下,增加了人工成本,故而提出了一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控装置来解决上述中的问题。

技术实现思路

[0004]针对现有技术的不足,本技术提供了一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控装置,具备能够及时检测到机器内部的温度变化和机器工作时的状态,并且当机器内部出现温度变化时和机器工作出现失误时,可以及时发出警报,方便工作人员及时进行补救,避免造成巨大的经济损失,监测效果好,降低人工成本等优点,解决了现有的等离子刻蚀机在工作时,机器内部的温度和机器工作时的状态,都需要依靠人工来进行监测,人工监测存在疏忽,容易导致等离子刻蚀机工作出现失误,造成巨大的经济损失,且人工监测费时费力,一个工作人员只能负责一台等离子刻蚀机的监测,效率低下,增加了人工成本的问题。
[0005]为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控装置,包括刻蚀机主体结构,所述刻蚀机主体结构的内部固定连接有监控结构,所述刻蚀机主体结构的外部固定连接有警报结构;
[0006]所述刻蚀机主体结构包括刻蚀机本体,所述刻蚀机本体的外部固定连接有支撑块,所述支撑块的内部活动连接有滑轮,所述刻蚀机本体的内部开设有安装室,所述刻蚀机本体的外部固定连接有链接块,所述链接块的外部活动连接有安装室门,所述安装室门的内部固定连接有观察镜,所述安装室门的外部固定连接有卡扣,所述刻蚀机本体的内部开设有卡口;
[0007]所述监控结构包括支撑架,所述支撑架的外部固定连接有监控摄像头,所述刻蚀机本体的内部固定连接有温度传感器,所述刻蚀机本体的外部固定连接有显示屏,所述刻蚀机本体的外部固定连接有开关,所述刻蚀机本体的外部固定连接有指示灯;
[0008]所述警报结构包括控制器,所述刻蚀机本体的外部固定连接有温度警报灯,所述
刻蚀机本体的外部固定连接有固定块,所述固定块的外部固定连接有警报器,所述警报器的外部固定连接有警报灯。
[0009]进一步,所述刻蚀机本体的形状为长方形,所述支撑块的数量为四个,四个所述支撑块中每两个相邻的为一组,两组所述支撑块呈对称分布在刻蚀机本体底部的左右两侧,四个所述支撑块的顶部分别与刻蚀机本体的底部固定连接。
[0010]进一步,所述滑轮的数量为四个,四个所述滑轮分别与四个支撑块相对应,四个所述滑轮的外部分别与四个支撑块的内部转动连接,所述安装室开设在刻蚀机本体的靠顶部内侧,所述链接块的数量为两个,所述安装室门的形状为长方形,两个所述链接块呈对称分布在安装室门左侧外部的上下两侧,所述安装室门的左侧通过两个链接块与刻蚀机本体铰接。
[0011]进一步,所述观察镜为透明玻璃镜,且形状为圆形,所述观察镜的外部与安装室门的内部固定连接,所述卡扣的左侧与安装室门的右侧固定连接,所述卡口与卡扣相对应,所述安装室门的右侧通过卡扣和卡口与刻蚀机本体卡合连接。
[0012]进一步,所述支撑架的形状为长方形,所述支撑架的外部与刻蚀机本体的内部固定连接,所述支撑架的顶部与监控摄像头的底部固定连接,所述温度传感器的顶部与刻蚀机本体的内顶壁固定连接,所述支撑架、监控摄像头和温度传感器均位于安装室的内部。
[0013]进一步,所述显示屏的形状为长方形,所述显示屏的后侧与刻蚀机本体的前侧固定连接,且显示屏位于安装室门的右侧,所述开关的后侧与刻蚀机本体的前侧固定连接,且开关位于显示屏的底部,所述指示灯为绿色指示灯,所述指示灯的后侧与刻蚀机本体的前侧固定连接,且指示灯位于开关的右侧。
[0014]进一步,所述控制器的形状为长方形,所述控制器的底部与刻蚀机本体的顶部固定连接,所述温度警报灯的底部与刻蚀机本体的顶部固定连接,且温度警报灯位于控制器的左侧,所述固定块的底部与刻蚀机本体的顶部固定连接,且固定块位于控制器的右侧,所述警报器的底部与固定块的顶部固定连接,所述警报器的顶部与警报灯的底部固定连接。
[0015]与现有技术相比,本申请的技术方案具备以下有益效果:
[0016]1、该ICP高密度等离子刻蚀机的监控装置,通过设置刻蚀机本体,方便该等离子刻蚀机进行工作,且连接所有结构,通过设置支撑块和滑轮,方便该等离子刻蚀机随意移动,通过设置安装室,方便安装监控摄像头和监控摄像头,通过设置链接块和安装室门,方便保护该等离子刻蚀机内部结构,通过设置观察镜,方便从外面观察到该等离子刻蚀机内部的情况,通过设置卡扣和卡口,方便关闭安装室门,通过设置支撑架、监控摄像头和显示屏,方便监测机器工作时的状态,通过设置温度传感器,方便检测机器内部的温度变化,通过设置开关,方便打开关闭监控结构,通过设置指示灯,方便观察该等离子刻蚀机是否正常工作,通过设置控制器和温度警报灯,方便该等离子刻蚀机内部温度出现变化时发出警报,通过设置固定块、警报器和警报灯,方便该等离子刻蚀机工作时发生失误时而发出警报。
[0017]2、该ICP高密度等离子刻蚀机的监控装置,首先移动滑轮到指定位置,然后通过卡合上卡扣和卡口,关闭安装室门,再按动开关,启动监控结构,最后当机器内部的温度出现变化或机器工作时出现失误,温度警报灯或警报器和警报灯发出警报。
附图说明
[0018]图1为本技术正面结构示意图;
[0019]图2为本技术正面展开结构示意图;
[0020]图3为本技术侧面结构示意图。
[0021]图中:1刻蚀机主体结构、2监控结构、3警报结构、101刻蚀机本体、102支撑块、103滑轮、104安装室、105链接块、106安装室门、107观察镜、108卡扣、109卡口、201支撑架、202监控摄像头、203温度传感器、204显示屏、205开关、206指示灯、301控制器、302温度警报灯、303固定块、304警报器、305警报灯。
具体实施方式
[0022]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控装置,包括刻蚀机主体结构(1),其特征在于:所述刻蚀机主体结构(1)的内部固定连接有监控结构(2),所述刻蚀机主体结构(1)的外部固定连接有警报结构(3);所述刻蚀机主体结构(1)包括刻蚀机本体(101),所述刻蚀机本体(101)的外部固定连接有支撑块(102),所述支撑块(102)的内部活动连接有滑轮(103),所述刻蚀机本体(101)的内部开设有安装室(104),所述刻蚀机本体(101)的外部固定连接有链接块(105),所述链接块(105)的外部活动连接有安装室门(106),所述安装室门(106)的内部固定连接有观察镜(107),所述安装室门(106)的外部固定连接有卡扣(108),所述刻蚀机本体(101)的内部开设有卡口(109);所述监控结构(2)包括支撑架(201),所述支撑架(201)的外部固定连接有监控摄像头(202),所述刻蚀机本体(101)的内部固定连接有温度传感器(203),所述刻蚀机本体(101)的外部固定连接有显示屏(204),所述刻蚀机本体(101)的外部固定连接有开关(205),所述刻蚀机本体(101)的外部固定连接有指示灯(206);所述警报结构(3)包括控制器(301),所述刻蚀机本体(101)的外部固定连接有温度警报灯(302),所述刻蚀机本体(101)的外部固定连接有固定块(303),所述固定块(303)的外部固定连接有警报器(304),所述警报器(304)的外部固定连接有警报灯(305)。2.根据权利要求1所述的一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控装置,其特征在于:所述刻蚀机本体(101)的形状为长方形,所述支撑块(102)的数量为四个,四个所述支撑块(102)中每两个相邻的为一组,两组所述支撑块(102)呈对称分布在刻蚀机本体(101)底部的左右两侧,四个所述支撑块(102)的顶部分别与刻蚀机本体(101)的底部固定连接。3.根据权利要求1所述的一种ICP高密度等离子刻蚀机的监控装置,其特征在于:所述滑轮(103)的数量为四个,四个所述滑轮(103)分别与四个支撑块(102)相对应,四个所述滑轮(103)的外部分别与四个支撑块(102)的内部转动连接,所述安装室(104)开设在刻蚀机本体(101)的靠顶部内侧,所述链接块(105)的数量为两个,所述安装室门(106)的...

【专利技术属性】
技术研发人员:王硕
申请(专利权)人:苏州光筑激光设备有限公司
类型:新型
国别省市:

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