一种多路独立供气式PECVD供气沉积系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种多路独立供气式PECVD供气沉积系统，其技术方案要点是：包括气相沉积炉，所述气相沉积炉的出料口的一侧安装有烘干箱，所述气相沉积炉的一侧安装有通风组件，所述通风组件的一端连接有加热箱，所述加热箱安装在所述烘干箱的下表面上，所述加热箱内安装有加热丝，所述烘干箱的内侧下表面上安装有第一出风管，所述烘干箱内壁上安装有第一温度传感器，通过加热箱内安装的加热丝有利于对通风组件产生的风进行加热，通过第一出风管从烘干箱的底部散发，通过第二出风管从烘干箱的上方散发，大大提高烘干效率，通过第一温度传感器有利于对烘干箱内部的温度进行监测，提高烘干的精度。高烘干的精度。高烘干的精度。

【技术实现步骤摘要】
一种多路独立供气式PECVD供气沉积系统


[0001]本技术涉及镀膜
，特别涉及一种多路独立供气式PECVD供气沉积系统。

技术介绍

[0002]PECVD：是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积。
[0003]现有的多路独立供气式PECVD供气沉积系统在使用的时候对镀膜产品进行烘干效率低，且温度控制不精准，容易降低产品质量。

技术实现思路

[0004]针对
技术介绍
中提到的问题，本技术的目的是提供一种多路独立供气式PECVD供气沉积系统，以解决
技术介绍
中提到的问题。
[0005]本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：
[0006]一种多路独立供气式PECVD供气沉积系统，包括气相沉积炉，所述气相沉积炉的出料口的一侧安装有烘干箱，所述气相沉积炉的一侧安装有通风组件，所述通风组件的一端连接有本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种多路独立供气式PECVD供气沉积系统，包括气相沉积炉(1)，其特征在于：所述气相沉积炉(1)的出料口的一侧安装有烘干箱(2)，所述气相沉积炉(1)的一侧安装有通风组件(3)，所述通风组件(3)的一端连接有加热箱(4)，所述加热箱(4)安装在所述烘干箱(2)的下表面上，所述加热箱(4)内安装有加热丝(5)，所述烘干箱(2)的内侧下表面上安装有第一出风管(6)，所述烘干箱(2)内壁上安装有第一温度传感器(11)，所述烘干箱(2)的内壁上表面上安装有第二出风管(7)，所述第二出风管(7)通过设有的输送管与所述加热箱(4)相连通；所述烘干箱(2)的一侧安装有降温箱(8)，所述降温箱(8)上通过设有的第一铰接座(9)铰接有风冷机(10)，所述降温箱(8)上安装有第二温度传感器(12)。2.根据权利要求1所述的一种多路独立供气式PECVD供气沉积系统，其特征在于：所述通风组件(3)包括风机(31)和连接管(32)，所述风机(31)通过所述连接管(3...

【专利技术属性】
技术研发人员：王硕，
申请(专利权)人：苏州光筑激光设备有限公司，
类型：新型
国别省市：