【技术实现步骤摘要】
一种集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备
[0001]本技术涉及化学气相沉积
，特别涉及一种集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备。
技术介绍
[0002]原子层沉积是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。
[0003]现有的集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备在使用的时候不方便将薄膜上的灰尘进行吸附，以及不方便调节薄膜的张力，加工的时候容易出现褶皱，降低收卷的质量。
技术实现思路
[0004]针对
技术介绍
中提到的问题，本技术的目的是提供一种集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备，以解决
技术介绍
中提到的问题。
[0005]本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：
[0006]一种集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备，包括气相沉积炉，所述气相沉积炉进料口上安装有第一框架，所述第一框架上通过轴承转动安装有两个吸附辊，两个所述吸附辊的一端均通过设有的转动接头连接有负压机构，所述第一框架上设置有倾斜的滑槽，所述滑槽内滑...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备，包括气相沉积炉(1)，其特征在于：所述气相沉积炉(1)进料口上安装有第一框架(2)，所述第一框架(2)上通过轴承转动安装有两个吸附辊(3)，两个所述吸附辊(3)的一端均通过设有的转动接头(14)连接有负压机构(4)，所述第一框架(2)上设置有倾斜的滑槽(5)，所述滑槽(5)内滑动安装有张力辊(6)，所述张力辊(6)的两端均通过轴承转动安装有固定块(7)，所述固定块(7)上连接有第一伺服电缸(8)，所述第一伺服电缸(8)固定安装在所述第一框架(2)上；所述气相沉积炉(1)的出料口上安装有第二框架(9)，所述第二框架(9)上安装有第二伺服电缸(10)，所述第二伺服电缸(10)的输出端上有第一卡爪(11)，所述第二框架(9)的一侧固定安装有伺服电机(12)，所述伺服电机(12)通过轴承转动安装有第二卡爪(13)。2.根据权利要求1所述的一种集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备，其特征在于：所述负压机构(4)包括负压风泵(41)和吸附管(42)，所述负压风泵(41)位于所述气相沉积炉(1)的一侧，所述吸附管(42)的一端安装...
【专利技术属性】
技术研发人员：王硕，
申请(专利权)人：苏州光筑激光设备有限公司，
类型：新型
国别省市：
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