一种集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备，其技术方案要点是：包括气相沉积炉，所述气相沉积炉进料口上安装有第一框架，所述第一框架上通过轴承转动安装有两个吸附辊，两个所述吸附辊的一端均通过设有的转动接头连接有负压机构，所述第一框架上设置有倾斜的滑槽，所述滑槽内滑动安装有张力辊，所述张力辊的两端均通过轴承转动安装有固定块，所述固定块上连接有第一伺服电缸，所述第一伺服电缸固定安装在所述第一框架上；通过两个吸附辊有利于通过转动接头与负压机构相连接，方便将薄膜上的灰尘进行吸出，减小灰尘，通过第一伺服电缸调节张力辊的位置，方便对薄膜的张力进行调节，减小褶皱。减小褶皱。减小褶皱。

【技术实现步骤摘要】
一种集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备


[0001]本技术涉及化学气相沉积
，特别涉及一种集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备。

技术介绍

[0002]原子层沉积是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。
[0003]现有的集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备在使用的时候不方便将薄膜上的灰尘进行吸附，以及不方便调节薄膜的张力，加工的时候容易出现褶皱，降低收卷的质量。

技术实现思路

[0004]针对
技术介绍
中提到的问题，本技术的目的是提供一种集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备，以解决
技术介绍
中提到的问题。
[0005]本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：
[0006]一种集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备，包括气相沉积炉，所述气相沉积炉进料口上安装有第一框架，所述第一框架上通过轴承转动安装有两个吸附辊，两个所述吸附辊的一端均通过设有的转动接头连接有负压机构，所述第一框架上设置有倾斜的滑槽，所述滑槽内滑动安装有张力辊，所述张力辊的两端均通过轴承转动安装有固定块，所述固定块上连接有第一伺服电缸，所述第一伺服电缸固定安装在所述第一框架上；
[0007]所述气相沉积炉的出料口上安装有第二框架，所述第二框架上安装有第二伺服电缸，所述第二伺服电缸的输出端上有第一卡爪，所述第二框架的一侧固定安装有伺服电机，所述伺服电机通过轴承转动安装有第二卡爪。
[0008]通过采用上述技术方案，通过两个吸附辊有利于通过转动接头与负压机构相连接，方便将薄膜上的灰尘进行吸出，减小灰尘，通过第一伺服电缸调节张力辊的位置，方便对薄膜的张力进行调节，减小褶皱，提高加工质量，通过第二框架上安装的第二伺服电缸方便调节第一卡爪的水平位置，通过伺服电机方便带动第二卡爪转动，通过第一卡爪和第二卡爪对收卷辊进行夹紧，方便收卷。
[0009]较佳的，所述负压机构包括负压风泵和吸附管，所述负压风泵位于所述气相沉积炉的一侧，所述吸附管的一端安装在所述负压风泵上，所述吸附管的另一端安装在两个所述转动接头上。
[0010]通过采用上述技术方案，通过负压风泵产生的吸附力，通过吸附管输出到与转动接头转动连接的吸附辊上，方便将灰尘进行吸附。
[0011]较佳的，所述第一框架上通过轴承转动安装有三个第一导向辊，所述第一导向辊位于所述张力辊的一侧。
[0012]通过采用上述技术方案，通过三个第一导向辊方便薄膜运输时起到导向作用，以
及运输的平稳性。
[0013]较佳的，所述第二框架上通过轴承转动安装有第二导向辊，
[0014]通过采用上述技术方案，通过第二导向辊提高薄膜收料的稳定性。
[0015]较佳的，所述第二导向辊与三个所述第一导向辊的两端均固定安装有限位块。
[0016]通过采用上述技术方案，通过限位块有利于限制薄膜水平移动的位置。
[0017]较佳的，所述第二框架和所述第一框架均与所述气相沉积炉之间固定安装有多个三角加强肋板。
[0018]通过采用上述技术方案，通过多个三角加强肋板有利于提高第二框架和第一框架与气相沉积炉之间的结构强度。
[0019]较佳的，所述第一卡爪与所述第二卡爪的结构相同，所述第一卡爪与所述第二卡爪上均设置有十字形凸块。
[0020]通过采用上述技术方案，通过第一卡爪与第二卡爪上均设置的十字形凸块方便卡合在收卷辊上。
[0021]综上所述，本技术主要具有以下有益效果：
[0022]第一、该集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备中，通过两个吸附辊有利于通过转动接头与负压机构相连接，方便将薄膜上的灰尘进行吸出，减小灰尘，通过第一伺服电缸调节张力辊的位置，方便对薄膜的张力进行调节，减小褶皱，提高加工质量；
[0023]第二、该集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备中，通过第二框架上安装的第二伺服电缸方便调节第一卡爪的水平位置，通过伺服电机方便带动第二卡爪转动，通过第一卡爪和第二卡爪对收卷辊进行夹紧，方便收卷。
附图说明
[0024]图1是本技术的结构示意图之一；
[0025]图2是本技术的结构示意图之二；
[0026]图3是本技术的结构示意图之三。
[0027]附图标记：1、气相沉积炉；2、第一框架；3、吸附辊；4、负压机构；41、负压风泵；42、吸附管；5、滑槽；6、张力辊；7、固定块；8、第一伺服电缸；9、第二框架；10、第二伺服电缸；11、第一卡爪；12、伺服电机；13、第二卡爪；14、转动接头；15、第一导向辊；16、第二导向辊；17、限位块；18、三角加强肋板；19、十字形凸块。
具体实施方式
[0028]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0029]参考图1
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图3，一种集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备，包括气相沉积炉1，气相沉积炉1进料口上安装有第一框架2，第一框架2上通过轴承转动安装有两个吸附辊3，两个吸附辊3的一端均通过设有的转动接头14连接有负压机构4，第一框架2上设置有倾斜的滑槽5，滑槽5内滑动安装有张力辊6，张力辊6的两端均通过轴承转动安装有固定块7，
固定块7上连接有第一伺服电缸8，第一伺服电缸8固定安装在第一框架2上，气相沉积炉1为现有技术，采用型号为KJ
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PECVD
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DZ化学气相沉积炉，化学气相沉积炉是CVI工艺的专用设备，是在一定的真空或惰性气氛条件下，利用电阻发热的原理将炉内工件加热到一定温度后，通入碳源性气体，气体在高温下裂解后产生含碳物质，沉积于工件表面，达到组织增密的目的；
[0030]气相沉积炉1的出料口上安装有第二框架9，第二框架9上安装有第二伺服电缸10，第二伺服电缸10的输出端上有第一卡爪11，第二框架9的一侧固定安装有伺服电机12，伺服电机12通过轴承转动安装有第二卡爪13。
[0031]参考图2，负压机构4包括负压风泵41和吸附管42，负压风泵41位于气相沉积炉1的一侧，吸附管42的一端安装在负压风泵41上，吸附管42的另一端安装在两个转动接头14上，通过负压风泵41产生的吸附力，通过吸附管42输出到与转动接头14转动连接的吸附辊3上，方便将灰尘进行吸附。
[0032]参考图1，第一框架2上通过轴承转动安装有三个第一导向辊15，第一导向辊15位于张力辊6的一侧，通过三个第一导向辊15方便薄膜运输时起到导向作用，以及运输的平稳性。
[0033]参考图3，第二框架9上通过轴承转动安装有第二导向辊16，通过第二导向辊16提高薄膜收料的稳定性本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备，包括气相沉积炉(1)，其特征在于：所述气相沉积炉(1)进料口上安装有第一框架(2)，所述第一框架(2)上通过轴承转动安装有两个吸附辊(3)，两个所述吸附辊(3)的一端均通过设有的转动接头(14)连接有负压机构(4)，所述第一框架(2)上设置有倾斜的滑槽(5)，所述滑槽(5)内滑动安装有张力辊(6)，所述张力辊(6)的两端均通过轴承转动安装有固定块(7)，所述固定块(7)上连接有第一伺服电缸(8)，所述第一伺服电缸(8)固定安装在所述第一框架(2)上；所述气相沉积炉(1)的出料口上安装有第二框架(9)，所述第二框架(9)上安装有第二伺服电缸(10)，所述第二伺服电缸(10)的输出端上有第一卡爪(11)，所述第二框架(9)的一侧固定安装有伺服电机(12)，所述伺服电机(12)通过轴承转动安装有第二卡爪(13)。2.根据权利要求1所述的一种集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备，其特征在于：所述负压机构(4)包括负压风泵(41)和吸附管(42)，所述负压风泵(41)位于所述气相沉积炉(1)的一侧，所述吸附管(42)的一端安装...

【专利技术属性】
技术研发人员：王硕，
申请(专利权)人：苏州光筑激光设备有限公司，
类型：新型
国别省市：