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本实用新型公开了一种集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备，其技术方案要点是：包括气相沉积炉，所述气相沉积炉进料口上安装有第一框架，所述第一框架上通过轴承转动安装有两个吸附辊，两个所述吸附辊的一端均通过设有的转动接头连接有负压机构，所述第一...
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