一种传料纠偏式原子沉积设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种传料纠偏式原子沉积设备，其技术方案要点是：包括气相沉积炉和设置在所述气相沉积炉的进入口处的底座，还包括：检测机构，所述检测机构设置在所述底座上移动机构，所述移动机构固定设置在所述底座上；纠偏辊，所述纠偏辊设置在所述移动机构的顶部；第一转轴，所述纠偏辊通过所述第一转轴与所述移动机构转动连接；张力调节机构，所述张力调节机构固定设置在所述底座上；侧板，所述侧板固定设置在所述张力调节机构的顶部；张力辊，所述张力辊设置在所述张力调节机构的顶部；通过设置检测机构，能够检测基材是否发生偏移，同时通过设置纠偏机构，能够在检测基材发生偏移后，对基材进行纠偏处理。对基材进行纠偏处理。对基材进行纠偏处理。

【技术实现步骤摘要】
一种传料纠偏式原子沉积设备


[0001]本技术涉及原子层沉积
，特别涉及一种传料纠偏式原子沉积设备。

技术介绍

[0002]现有技术中，原子层沉积工艺是在基材的传送过程中，在基材表面不断沉积单层原子层；基材从放卷装置传送到收卷装置的过程中，可能出现位置偏置以及出现松弛。而现有技术中并相应的纠偏方案中，不方便在传送过程中进行纠偏以及不方便对张力进行调节。

技术实现思路

[0003]针对
技术介绍
中提到的问题，本技术的目的是提供一种传料纠偏式原子沉积设备，以解决
技术介绍
中提到的问题。
[0004]本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：
[0005]一种传料纠偏式原子沉积设备，包括气相沉积炉和设置在所述气相沉积炉的进入口处的底座，还包括：
[0006]检测机构，所述检测机构设置在所述底座上；
[0007]移动机构，所述移动机构固定设置在所述底座上；
[0008]纠偏辊，所述纠偏辊设置在所述移动机构的顶部；
[0009]第一转轴，所述纠偏辊通过所述第一转轴与所述移动机构转动连接本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种传料纠偏式原子沉积设备，包括气相沉积炉和设置在所述气相沉积炉的进入口处的底座(1)，其特征在于，还包括：检测机构(2)，所述检测机构(2)设置在所述底座(1)上；移动机构(3)，所述移动机构(3)固定设置在所述底座(1)上；纠偏辊(4)，所述纠偏辊(4)设置在所述移动机构(3)的顶部；第一转轴(5)，所述纠偏辊(4)通过所述第一转轴(5)与所述移动机构(3)转动连接；张力调节机构(6)，所述张力调节机构(6)固定设置在所述底座(1)上；侧板(7)，所述侧板(7)固定设置在所述张力调节机构(6)的顶部；张力辊(8)，所述张力辊(8)设置在所述张力调节机构(6)的顶部；以及第二转轴(9)，所述张力辊(8)通过所述第二转轴(9)与所述侧板(7)转动连接。2.根据权利要求1所述的一种传料纠偏式原子沉积设备，其特征在于：所述检测机构(2)包括龙门架(21)，所述龙门架(21)的底部焊接在所述底座(1)的上表面；光电传感器(22)，所述光电传感器(22)设置有两组，两组所述光电传感器(22)对称设置在所述龙门架(21)的两侧，所述光电传感器(22)包括发射器(221)和接收器(222)，所述发射器(221)安装在所述龙门架(21)的下表面，所述接收器(222)安装在所述底座(1)的上表面。3.根据权利要求2所述的一种传料纠偏式原子沉积设备，其特征在于：所述第二转轴(9)与所述侧板(7)之间设置有张力传感器(10)。4.根据权利要求1所述的一种传料纠偏式原子沉积设备，其特征在于：所述移动机构(3)包括固定板(31)，所述固定板(31)设置有两组，两组所述固定板(31)焊接在所述底座(1)上...

【专利技术属性】
技术研发人员：王硕，
申请(专利权)人：苏州光筑激光设备有限公司，
类型：新型
国别省市：