一种传料纠偏式原子沉积设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种传料纠偏式原子沉积设备，其技术方案要点是：包括气相沉积炉和设置在所述气相沉积炉的进入口处的底座，还包括：检测机构，所述检测机构设置在所述底座上移动机构，所述移动机构固定设置在所述底座上；纠偏辊，所述纠偏辊设置在所述移动机构的顶部；第一转轴，所述纠偏辊通过所述第一转轴与所述移动机构转动连接；张力调节机构，所述张力调节机构固定设置在所述底座上；侧板，所述侧板固定设置在所述张力调节机构的顶部；张力辊，所述张力辊设置在所述张力调节机构的顶部；通过设置检测机构，能够检测基材是否发生偏移，同时通过设置纠偏机构，能够在检测基材发生偏移后，对基材进行纠偏处理。对基材进行纠偏处理。对基材进行纠偏处理。

【技术实现步骤摘要】
一种传料纠偏式原子沉积设备


[0001]本技术涉及原子层沉积
，特别涉及一种传料纠偏式原子沉积设备。

技术介绍

[0002]现有技术中，原子层沉积工艺是在基材的传送过程中，在基材表面不断沉积单层原子层；基材从放卷装置传送到收卷装置的过程中，可能出现位置偏置以及出现松弛。而现有技术中并相应的纠偏方案中，不方便在传送过程中进行纠偏以及不方便对张力进行调节。

技术实现思路

[0003]针对
技术介绍
中提到的问题，本技术的目的是提供一种传料纠偏式原子沉积设备，以解决
技术介绍
中提到的问题。
[0004]本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：
[0005]一种传料纠偏式原子沉积设备，包括气相沉积炉和设置在所述气相沉积炉的进入口处的底座，还包括：
[0006]检测机构，所述检测机构设置在所述底座上；
[0007]移动机构，所述移动机构固定设置在所述底座上；
[0008]纠偏辊，所述纠偏辊设置在所述移动机构的顶部；
[0009]第一转轴，所述纠偏辊通过所述第一转轴与所述移动机构转动连接；
[0010]张力调节机构，所述张力调节机构固定设置在所述底座上；
[0011]侧板，所述侧板固定设置在所述张力调节机构的顶部；
[0012]张力辊，所述张力辊设置在所述张力调节机构的顶部；
[0013]以及第二转轴，所述张力辊通过所述第二转轴与所述侧板转动连接。
[0014]通过采用上述技术方案，通过设置检测机构，能够检测基材是否发生偏移，同时通过设置纠偏机构，能够在检测基材发生偏移后，对基材进行纠偏处理；通过设置张力调节机构，能够对张力进行调节，降低在传送过程中，出现松弛的情况。
[0015]较佳的，所述检测机构包括龙门架，所述龙门架的底部焊接在所述底座的上表面；
[0016]光电传感器，所述光电传感器设置有两组，两组所述光电传感器对称设置在所述龙门架的两侧，所述光电传感器包括发射器和接收器，所述发射器安装在所述龙门架的下表面，所述接收器安装在所述底座的上表面。
[0017]通过采用上述技术方案，通过发射器发生信号，接收器接收信号，在接收器接收不到发射器发射的信号时，则信号被遮挡，此时检测时位置发生偏移，进行纠偏处理。
[0018]较佳的，所述第二转轴与所述侧板之间设置有张力传感器。
[0019]通过采用上述技术方案，方便对张力进行检测，降低出现松弛的情况。
[0020]较佳的，所述移动机构包括固定板，所述固定板设置有两组，两组所述固定板焊接在所述底座上；
[0021]伺服电机，所述伺服电机安装在其中一组所述固定板的外表面；
[0022]丝杆，所述丝杆转动设置在两组所述固定板之间，且所述丝杆的一端与所述伺服电机的输出端传动连接；
[0023]滑板，所述滑板设置有两组，两组所述滑板的底部均螺纹连接在所述丝杆上，所述第一转轴与所述滑板转动连接。
[0024]通过采用上述技术方案，通过伺服电机带动丝杆转动，丝杆带动滑板移动，滑板带动纠偏辊移动，从而方便对纠偏辊的位置进行移动，完成纠偏处理。
[0025]较佳的，两组所述滑板的底部均焊接有导向块，所述底座上开设有导向槽，所述导向块滑动设置在所述导向槽内。
[0026]通过采用上述技术方案，增加滑板滑动的稳定性。
[0027]较佳的，所述张力调节机构包括支撑板，所述支撑板设置有两组，两组所述支撑板焊接在所述底座上；
[0028]调节板，所述调节板设置在两组所述支撑板之间；
[0029]卡板，所述卡板焊接在所述调节板的端部；
[0030]滑槽，所述滑槽开设在所述支撑板上，所述卡板滑动设置在所述滑槽内；
[0031]升降杆，所述升降杆焊接在所述卡板的上表面，所述侧板焊接在所述升降杆的顶部；
[0032]伺服电缸，所述伺服电缸安装在所述底座上，且所述伺服电缸的输出端与所述调节板固定连接。
[0033]通过采用上述技术方案，通过伺服电缸推动调节板移动，调节板带动卡板在滑槽内滑动，卡板带动升降杆移动，升降杆带动张力辊进行升降，从而方便完成张力调节。
[0034]较佳的，所述支撑板的上表面滑动设置有导杆，所述导杆的顶部焊接在所述侧板的下表面。
[0035]通过采用上述技术方案，增加侧板移动时的稳定性。
[0036]综上所述，本技术主要具有以下有益效果：
[0037]第一、通过设置检测机构，能够检测基材是否发生偏移，同时通过设置纠偏机构，能够在检测基材发生偏移后，对基材进行纠偏处理；
[0038]第二、通过设置张力调节机构，能够对张力进行调节，降低在传送过程中，出现松弛的情况。
附图说明
[0039]图1是本技术的结构示意图；
[0040]图2是本技术检测机构部分结构示意图；
[0041]图3是本技术移动机构部分结构示意图；
[0042]图4是本技术张力调节机构部分结构示意图。
[0043]附图标记：1、底座；2、检测机构；21、龙门架；22、光电传感器；221、发射器；222、接收器；3、移动机构；31、固定板；32、伺服电机；33、丝杆；34、滑板；35、导向块；36、导向槽；4、纠偏辊；5、第一转轴；6、张力调节机构；61、支撑板；62、调节板；63、卡板；64、滑槽；65、升降杆；66、伺服电缸；67、导杆；7、侧板；8、张力辊；9、第二转轴；10、张力传感器。
具体实施方式
[0044]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0045]实施例1
[0046]参考图1
‑
4，一种传料纠偏式原子沉积设备，包括气相沉积炉和设置在所述气相沉积炉的进入口处的底座1，还包括：
[0047]检测机构2，所述检测机构2设置在所述底座1上；
[0048]移动机构3，所述移动机构3固定设置在所述底座1上；
[0049]纠偏辊4，所述纠偏辊4设置在所述移动机构3的顶部；
[0050]第一转轴5，所述纠偏辊4通过所述第一转轴5与所述移动机构3转动连接；
[0051]张力调节机构6，所述张力调节机构6固定设置在所述底座1上；
[0052]侧板7，所述侧板7固定设置在所述张力调节机构6的顶部；
[0053]张力辊8，所述张力辊8设置在所述张力调节机构6的顶部；
[0054]以及第二转轴9，所述张力辊8通过所述第二转轴9与所述侧板7转动连接。
[0055]参考图1
‑
2，所述检测机构2包括龙门架21，所述龙本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种传料纠偏式原子沉积设备，包括气相沉积炉和设置在所述气相沉积炉的进入口处的底座(1)，其特征在于，还包括：检测机构(2)，所述检测机构(2)设置在所述底座(1)上；移动机构(3)，所述移动机构(3)固定设置在所述底座(1)上；纠偏辊(4)，所述纠偏辊(4)设置在所述移动机构(3)的顶部；第一转轴(5)，所述纠偏辊(4)通过所述第一转轴(5)与所述移动机构(3)转动连接；张力调节机构(6)，所述张力调节机构(6)固定设置在所述底座(1)上；侧板(7)，所述侧板(7)固定设置在所述张力调节机构(6)的顶部；张力辊(8)，所述张力辊(8)设置在所述张力调节机构(6)的顶部；以及第二转轴(9)，所述张力辊(8)通过所述第二转轴(9)与所述侧板(7)转动连接。2.根据权利要求1所述的一种传料纠偏式原子沉积设备，其特征在于：所述检测机构(2)包括龙门架(21)，所述龙门架(21)的底部焊接在所述底座(1)的上表面；光电传感器(22)，所述光电传感器(22)设置有两组，两组所述光电传感器(22)对称设置在所述龙门架(21)的两侧，所述光电传感器(22)包括发射器(221)和接收器(222)，所述发射器(221)安装在所述龙门架(21)的下表面，所述接收器(222)安装在所述底座(1)的上表面。3.根据权利要求2所述的一种传料纠偏式原子沉积设备，其特征在于：所述第二转轴(9)与所述侧板(7)之间设置有张力传感器(10)。4.根据权利要求1所述的一种传料纠偏式原子沉积设备，其特征在于：所述移动机构(3)包括固定板(31)，所述固定板(31)设置有两组，两组所述固定板(31)焊接在所述底座(1)上...

【专利技术属性】
技术研发人员：王硕，
申请(专利权)人：苏州光筑激光设备有限公司，
类型：新型
国别省市：