一种ICP低温等离子体刻蚀设备制造技术

本实用新型专利技术涉及等离子刻蚀机技术领域，且公开了一种ICP低温等离子体刻蚀设备，包括机身缓震装置，所述缓震装置的顶部固定连接有机身，所述机身的右侧活动连接有电控柜，所述电控柜的底部固定连接有缓震轮，所述缓震装置包括顶座、第一弹簧块、缓震杆、缓震橡胶和底座，所述机身的底部固定连接有顶座，所述顶座的底部固定连接有缓震杆，所述缓震杆的底部固定连接有缓震橡胶，所述缓震轮包括连接座、第二弹簧块、连接块和转轮。该ICP低温等离子体刻蚀设备，通过控制面板打开该ICP低温等离子体刻蚀设备，设备运作时产生震动，震动传递到顶座，顶座推动第一弹簧块收缩，减缓设备作业产生的震动，就可以起到缓震功能好，使用寿命长的效果。使用寿命长的效果。使用寿命长的效果。

An ICP low temperature plasma etching equipment

【技术实现步骤摘要】
一种ICP低温等离子体刻蚀设备


[0001]本技术涉及等离子体刻蚀机
，具体为一种ICP低温等离子体刻蚀设备。

技术介绍

[0002]等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪和等离子清洗系统等，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。
[0003]主要针对目前市场上现有的等离子刻蚀机的功能性方面进行改进，普通的等离子刻蚀机有对材料进行等离子清洗的作用，但其在作业过程中机器产生的震动幅度较大，机器震动导致内部零件松动，导致机器零部件损坏，影响机器使用寿命，延误作业进度，故而提出一种ICP低温等离子体刻蚀设备来解决上述所提出的问题。

技术实现思路

[0004]针对现有技术的不足，本技术提供了一种ICP低温等离子体刻蚀设备，具备缓震功能好，使用寿命长等优点，解决了普通等离子刻蚀机在作业过程中机器产生的震动幅度较大，机器震动导致内部零件松动，导致机器零部件损坏，影响机器使用寿命，延误作业进度的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种ICP低温等离子体刻蚀设备，包括缓震装置，所述缓震装置的顶部固定连接有机身，所述机身的右侧活动连接有电控柜，所述电控柜的底部固定连接有缓震轮；
[0006]所述缓震装置包括顶座、第一弹簧块、缓震杆、缓震橡胶和底座，所述机身的底部固定连接有顶座，所述顶座的底部固定连接有缓震杆，所述缓震杆的底部固定连接有缓震橡胶；
[0007]所述缓震轮包括连接座、第二弹簧块、连接块和转轮，所述电控柜的底部固定连接有连接座，所述连接座的底部固定连接有第二弹簧块，所述第二弹簧块的底部固定连接有连接块，所述连接块的内部转动连接有转轮。
[0008]进一步，所述缓震装置的数量为四个，四个所述缓震装置分别分布在机身的底部四角，所述缓震轮的数量为四个，四个所述缓震轮分别分布在电控柜的底部四角。
[0009]进一步，所述缓震杆的外部活动连接有第一弹簧块，所述第一弹簧块的底部固定连接有底座，所述弹簧块位于顶座和底座之间，所述弹簧块的顶部与顶座固定连接。
[0010]进一步，所述缓震杆贯穿第一弹簧块，所述缓震杆的底部由第一弹簧块的内部延伸至底座的内部，所述缓震杆与底座滑动连接。
[0011]进一步，所述机身的顶部固定连接有真空室，所述真空室的顶部固定连接有射频
电源，所述机身的顶部固定连接有支座，所述支座的顶部固定连接有显示屏，所述显示屏位于射频电源和真空室的左侧。
[0012]进一步，所述机身的内部铰接有箱门，所述箱门的内部固定连接有真空阀开关，所述箱门的内部固定连接有把手，所述把手位于真空阀开关的下方，所述机身的内部固定连接有控制面板，所述控制面板位于箱门的右侧。
[0013]与现有技术相比，本申请的技术方案具备以下有益效果：
[0014]1、该ICP低温等离子体刻蚀设备，通过设置的机身，机身起到固定该ICP 低温等离子体刻蚀设备各个结构的作用，通过设置的电控柜，电控柜起到控制电力的作用，通过设置的缓震装置，缓震装置起到减缓该ICP低温等离子体刻蚀设备作业时产生的震动的作用，通过设置的顶座，顶座起到扩大缓震装置与机身的接触面积的作用，通过设置的第一弹簧块和第二弹簧块，第一弹簧块和第二弹簧块起到缓冲震动的作用，通过设置的缓震杆，缓震杆起到限制第一弹簧块的活动位置的作用，通过设置的缓震橡胶，缓震橡胶起到减轻缓震杆撞击底座产生的震动的作用，通过设置的底座，底座起到限制缓震杆的活动位置的作用，通过设置的缓震轮，缓震轮起到减缓震动，方便移动电控柜的作用，通过设置的连接座，连接座起到将第二弹簧块与电控柜连接的作用，通过设置的连接块，连接块起到固定转轮的作用，通过设置的转轮，转轮起到方便移动电控柜的作用，通过设置的射频电源，射频电源起到产生固定频率的正弦波电压的作用，通过设置的真空室，真空室起到提供真空环境的作用，通过设置的显示屏，显示屏起到显示该ICP低温等离子体刻蚀设备作业信息的作用，通过设置的支座，支座起到支撑显示屏的作用，通过设置的真空阀开关，真空阀开关起到打开关闭真空阀的作用，通过设置的把手，把手起到打开关闭箱门的作用，通过设置的箱门，箱门起到打开关闭机身的作用，通过设置的控制面板，控制面板起到操控该ICP低温等离子体刻蚀设备的作用。
[0015]2、该ICP低温等离子体刻蚀设备，通过控制面板打开该ICP低温等离子体刻蚀设备，设备运作时产生震动，震动传递到顶座，顶座推动第一弹簧块收缩，减缓设备作业产生的震动，就可以起到缓震功能好，使用寿命长的效果。
附图说明
[0016]图1为本技术正视结构示意图；
[0017]图2为本技术缓震装置放大结构示意图；
[0018]图3为本技术缓震轮放大结构示意图。
[0019]图中：1机身、2电控柜、3缓震装置、301顶座、302第一弹簧块、303 缓震杆、304缓震橡胶、305底座、4缓震轮、401连接座、402第二弹簧块、 403连接块、404转轮、5射频电源、6真空室、7显示屏、8支座、9真空阀开关、10把手、11箱门、12控制面板。
具体实施方式
[0020]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0021]请参阅图1
‑
3，一种ICP低温等离子体刻蚀设备，包括缓震装置3，通过设置的缓震装置3，缓震装置3起到减缓该ICP低温等离子体刻蚀设备作业时产生的震动的作用，缓震装置3的顶部固定连接有机身1，通过设置的机身1，机身1起到固定该ICP低温等离子体刻蚀设备各个结构的作用，机身1的右侧活动连接有电控柜2，通过设置的电控柜2，电控柜2起到控制电力的作用，电控柜2的底部固定连接有缓震轮4，通过设置的缓震轮4，缓震轮4起到减缓震动，方便移动电控柜2的作用；
[0022]缓震装置3包括顶座301、第一弹簧块302、缓震杆303、缓震橡胶304 和底座305，机身1的底部固定连接有顶座301，通过设置的顶座301，顶座 301起到扩大缓震装置3与机身1的接触面积的作用，顶座301的底部固定连接有缓震杆303，通过设置的缓震杆303，缓震杆303起到限制第一弹簧块302 的活动位置的作用，缓震杆303的底部固定连接有缓震橡胶304，通过设置的缓震橡胶304，缓震橡胶304起到减轻缓震杆303撞击底座305产生的震动的作用；
[0023]缓震轮4包括连接座401、第二弹簧块402、连接块403和转轮404，电控柜本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种ICP低温等离子体刻蚀设备，包括缓震装置(3)，其特征在于：所述缓震装置(3)的顶部固定连接有机身(1)，所述机身(1)的右侧活动连接有电控柜(2)，所述电控柜(2)的底部固定连接有缓震轮(4)；所述缓震装置(3)包括顶座(301)、第一弹簧块(302)、缓震杆(303)、缓震橡胶(304)和底座(305)，所述机身(1)的底部固定连接有顶座(301)，所述顶座(301)的底部固定连接有缓震杆(303)，所述缓震杆(303)的底部固定连接有缓震橡胶(304)；所述缓震轮(4)包括连接座(401)、第二弹簧块(402)、连接块(403)和转轮(404)，所述电控柜(2)的底部固定连接有连接座(401)，所述连接座(401)的底部固定连接有第二弹簧块(402)，所述第二弹簧块(402)的底部固定连接有连接块(403)，所述连接块(403)的内部转动连接有转轮(404)。2.根据权利要求1所述的一种ICP低温等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述缓震装置(3)的数量为四个，四个所述缓震装置(3)分别分布在机身(1)的底部四角，所述缓震轮(4)的数量为四个，四个所述缓震轮(4)分别分布在电控柜(2)的底部四角。3.根据权利要求1所述的一种ICP低温等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述缓震杆(30...

【专利技术属性】
技术研发人员：王硕，
申请(专利权)人：苏州光筑激光设备有限公司，
类型：新型
国别省市：