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本实用新型涉及等离子刻蚀机技术领域，且公开了一种ICP低温等离子体刻蚀设备，包括机身缓震装置，所述缓震装置的顶部固定连接有机身，所述机身的右侧活动连接有电控柜，所述电控柜的底部固定连接有缓震轮，所述缓震装置包括顶座、第一弹簧块、缓震杆、缓震...
该专利属于苏州光筑激光设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州光筑激光设备有限公司授权不得商用。

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