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本实用新型公开了一种传料纠偏式原子沉积设备，其技术方案要点是：包括气相沉积炉和设置在所述气相沉积炉的进入口处的底座，还包括：检测机构，所述检测机构设置在所述底座上移动机构，所述移动机构固定设置在所述底座上；纠偏辊，所述纠偏辊设置在所述移动机...
该专利属于苏州光筑激光设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州光筑激光设备有限公司授权不得商用。

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