一种基于脉冲调制技术的薄膜沉积射频装置制造方法及图纸

本技术公开了一种基于脉冲调制技术的薄膜沉积射频装置，涉及薄膜沉积射频技术领域，包括装置柜组和辅助组件，所述装置柜组的底部左右两侧对称安装有三角架，且三角架靠近装置柜组垂直中轴线的一些安装有移动组件，而且装置柜组的顶部安装有射频组件，所述辅助组件连接于射频组件的一侧。该基于脉冲调制技术的薄膜沉积射频装置，通过在射频组件一侧连接有辅助组件，可以将加工时所产生的气化余料以及废气进行集中回收处理，避免影响外界环境的同时还能回收余料，另外通过在装置柜组底部安装的三角架与移动组件，可以利用结构的活动性，根据需要灵活移动整个装置，或是将装置稳定的停放于地面，以保障装置使用的灵活性与稳定性。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及薄膜沉积射频，具体为一种基于脉冲调制技术的薄膜沉积射频装置。

技术介绍

1、脉冲调制有两种含义。一是指脉冲本身的参数(幅度、宽度、相位)随信号发生变化的过程。脉冲幅度随信号变化，称为脉冲振幅调制；脉冲相位随信号变化，称为脉冲相位调制；同理还有脉冲宽度调制、双脉冲间隔调制、脉冲编码调制等,两种含义的不同点是：前者脉冲本身是载波，后者高频振荡是载波。一般说的脉冲调制通常指前者；

2、而薄膜沉积射频装置使溅射工艺中所用的一种常规设备，溅射工艺中一般采用直流溅射和射频溅射两种加工方式，直流溅射和射频溅射两种方法都是使用电场将离子加速，然后让这些离子撞击目标材料，从而使目标材料的原子被“溅射”出来，沉积在基板上形成薄膜。这两种方法的主要区别在于所使用的电场类型，即直流电场和射频电场

3、其中射频溅射则可以用于绝缘体目标材料，利用射频放电等离子体中的正离子轰击靶材、溅射出靶材原子从而沉积在接地的基板表面，在射频溅射中，使用的是射频电场，电场的方向会周期性地改变。这意味着即使目标材料是绝缘体，也可以在电场的作用下产生足够的电子和离子，从本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于脉冲调制技术的薄膜沉积射频装置，包括装置柜组(1)和辅助组件(6)，其特征在于：所述装置柜组(1)的底部左右两侧对称安装有三角架(2)，且三角架(2)靠近装置柜组(1)垂直中轴线的一些安装有移动组件(3)，而且装置柜组(1)的顶部安装有射频组件(4)，且射频组件(4)的内部安装有固定架组(5)，所述辅助组件(6)连接于射频组件(4)的一侧，所述辅助组件(6)包括回收滤箱(601)、单向阀管(602)和真空泵(603)，所述回收滤箱(601)的一侧垂直连接有单向阀管(602)，且回收滤箱(601)的底部连接有真空泵(603)。

2.根据权利要求1所述的一种基于脉冲调...

【技术特征摘要】

1.一种基于脉冲调制技术的薄膜沉积射频装置，包括装置柜组(1)和辅助组件(6)，其特征在于：所述装置柜组(1)的底部左右两侧对称安装有三角架(2)，且三角架(2)靠近装置柜组(1)垂直中轴线的一些安装有移动组件(3)，而且装置柜组(1)的顶部安装有射频组件(4)，且射频组件(4)的内部安装有固定架组(5)，所述辅助组件(6)连接于射频组件(4)的一侧，所述辅助组件(6)包括回收滤箱(601)、单向阀管(602)和真空泵(603)，所述回收滤箱(601)的一侧垂直连接有单向阀管(602)，且回收滤箱(601)的底部连接有真空泵(603)。

2.根据权利要求1所述的一种基于脉冲调制技术的薄膜沉积射频装置，其特征在于，所述装置柜组(1)包括电控柜组(101)、导轨(102)和防护门(103)，所述电控柜组(101)的正侧立面上下对称安装有导轨(102)，且导轨(102)之间滑动连接有防护门(103)。

3.根据权利要求1所述的一种基于脉冲调制技术的薄膜沉积射频装置，其特征在于，所述移动组件(3)包括支撑桩(301)、阻尼转架(302)和自锁万向轮(303)，所述支撑桩(301)的下端左右两侧对称安装有阻尼转架(302)，且阻尼转架(302)的底部安装有自锁万向轮(303)。

4.根据权利要求1所述的一种基于脉冲调制技术的薄膜沉积射频装置，其特征在于，所述射频组件(4...

【专利技术属性】
技术研发人员：王硕，
申请(专利权)人：苏州光筑激光设备有限公司，
类型：新型
国别省市：