一种提拉装置及硅片清洗系统制造方法及图纸

技术编号:32595039 阅读:18 留言:0更新日期:2022-03-09 17:35
本实用新型专利技术公开一种提拉装置及硅片清洗系统,涉及光伏技术领域,以最大程度减少硅片清洗结束后表面黏附的清洗溶液,从而提高烘干效果,有效提高成品率。所述提拉装置包括机械连接的提拉机构和承载结构;其中,所述承载结构包括底座以及翘板机构,所述底座机械连接于所述提拉机构,所述翘板机构安装在所述底座;所述翘板机构用于承载所述花篮,使所述提拉机构从所述清洗槽内以第一预设角度倾斜提起所述花篮。所述硅片清洗系统包括上述技术方案所提的提拉装置。本实用新型专利技术提供的提拉装置用于提拉浸没在清洗槽内的花篮。提拉浸没在清洗槽内的花篮。提拉浸没在清洗槽内的花篮。

【技术实现步骤摘要】
一种提拉装置及硅片清洗系统


[0001]本技术涉及光伏
,尤其涉及一种提拉装置及硅片清洗系统。

技术介绍

[0002]硅片生产是光伏产业链中的一个重要环节。通常,硅片由硅锭或硅棒切割而成,切割好的硅片需要进行清洗,然后再进入下一工段。
[0003]目前,在清洗开始前,硅片被竖直放入花篮的插片槽内,然后利用清洗机清洗硅片。当清洗机清洗硅片后,提拉装置提拉承载硅片的花篮脱离清洗机。但是,在提拉承载硅片的花篮时,硅片之间容易出现粘连,导致硅片从清洗机脱离后,硅片表面残留有大量清洗溶液。因此,硅片清洗后进行烘干时,不易烘干,还会出现湿片等问题,降低了烘干效率,影响了硅片质量。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种提拉装置及硅片清洗系统,以最大程度减少硅片清洗结束后表面黏附的清洗溶液,从而提高烘干效果,有效提高成品率。
[0005]第一方面,本技术提供一种提拉装置。该提拉装置用于提拉浸没在清洗槽内的花篮。本技术提供的提拉装置包括机械连接的提拉机构和承载结构。承载结构包括底座以及翘板机构。底座机械连接于提拉机构。翘板机构安装在底座。翘板机构用于承载花篮,使提拉机构从清洗槽内以第一预设角度倾斜提起花篮。
[0006]采用上述技术方案的情况下,底座机械连接于提拉机构,翘板机构安装在底座,而翘板机构用于承载花篮,因此,在提拉机构提拉承载结构的过程中,翘板机构可以以第一预设角度倾斜提起花篮,使得花篮所承载的各个硅片可以沿着一个方向倾斜,进而避免出现相邻两个硅片粘连在一起的问题。基于此,当提拉机构提拉承载结构离开清洗溶液的液面时,花篮所承载的各个硅片附着的清洗溶液可以顺利的从硅片表面滴落到清洗槽内,从而减少硅片表面残留的清洗溶液,以方便烘干硅片,并减少硅片出现湿片、脏污等问题的几率,进而保证硅片质量。
[0007]在一种可能的实现方式中,上述翘板机构包括承载部以及转动连接组件。承载部通过转动连接组件设在上述底座上。转动连接组件和承载部分别具有中心轴。转动连接组件的中心轴偏离承载部的中心轴。承载部远离底座的表面与底座靠近承载部的表面形成上述第一预设角度。
[0008]采用上述技术方案的情况下,承载部通过转动连接组件设在底座上,而转动连接组件的中心轴偏离承载部的中心轴,使得承载部在无外力作用下总是处于向一侧倾斜的状态,因此,在提拉机构提拉承载结构的过程中,承载部可保证所承载的花篮也处在倾斜状态,花篮内的硅片均向同一方向倾斜,从而避免了相邻的硅片粘连在一起,硅片脱去液体更彻底。
[0009]在一种可能的实现方式中,上述第一预设角度大于0
°
且小于或等于30
°
。在这个角
度范围内硅片的倾斜角度合适,一方面可以减少相邻硅片的粘连,另一方面避免了角度过大造成的硅片倾倒,甚至碰撞等不良后果。
[0010]在一种可能的实现方式中,上述第一预设角度大于0
°
且小于或等于20
°

[0011]在一种可能的实现方式中,当上述提拉机构提拉花篮时,花篮内的硅片靠近清洗槽的底部的至少一条棱边与液面具有第二预设角度。第二预设角度为 0
°
~90
°

[0012]采用上述技术方案的情况下,当上述第二预设角度为0
°
时,硅片的延伸面与清洗溶液的延伸面会相交于一条直线,花篮内的硅片靠近清洗槽的底部的至少一条棱边与清洗溶液的液面平行。此时,在上述提拉机构提拉花篮至离开液面的过程中,花篮内的硅片保持倾斜的状态缓慢上升,硅片与清洗溶液液面的接触面积由平面逐渐变成线接触,最终硅片离开液面。而且,当花篮内的硅片靠近清洗槽的底部的至少一条棱边与清洗溶液的液面为线接触,在重力和清洗溶液表面张力的作用下,硅片表面残留的清洗溶液最后汇聚到硅片靠近清洗槽的底部的棱边,形成沿着棱边分布的液滴。
[0013]当上述第二预设角度为大于0
°
且小于等于90
°
时,在离开清洗溶液时,花篮内的硅片靠近清洗槽的底部的至少一条棱边与清洗溶液的液面为点接触,二者的交点为硅片底部的一个顶点,此时,在上述提拉机构提拉花篮至离开液面的过程中,花篮内的硅片保持倾斜的状态缓慢上升,硅片与清洗溶液液面的接触面积由平面逐渐变成点接触,最终硅片离开液面。基于此,当花篮内的硅片靠近清洗槽的底部的至少一条棱边与清洗溶液的液面为点接触,在重力和清洗溶液表面张力的作用下,硅片上残留的清洗溶液沿着硅片靠近清洗槽的底部的至少一条棱边向下流,最终汇聚在硅片底部的一个顶点,形成液滴。在硅片表面残留的清洗溶液体积相同的情况下,相对于沿着棱边分布的液滴来说,汇聚在硅片底部顶点的液滴尺寸比较大,因此,在重力和表面张力的作用下,汇聚在硅片底部顶点的液滴比较容易掉落到清洗槽内。
[0014]由上可见,当第二预设角度为大于0
°
且小于等于90
°
时,硅片从清洗溶液中脱离后,最终所残留的清洗溶液相对较少,可以缩短后续烘干时间,降低烘干后硅片表面残留液体痕迹的可能性,有效提高了硅片成品率。
[0015]在一种可能的实现方式中,上述转动连接组件包括转轴以及活动套设在转轴上的至少一个套筒。转轴设在底座上。承载部背离底座的一侧具有承载面。各个套筒设在承载部远离承载面的一侧。套筒的径向尺寸大于转轴的径向尺寸。基于此,上述承载部通过转轴与设在承载部远离承载面的一侧上的至少一个套筒来实现转动,活动套设在转轴上的套筒与转轴相配合旋转,降低了摩擦带来的影响,便于提拉机构倾斜花篮。
[0016]在一种可能的实现方式中,上述承载部具有相对的两个侧边。在相对的侧边设有花篮定位结构。基于此,花篮在承载部上可以被固定在花篮定位机构上,使得花篮在提拉时保持稳定,避免了花篮因意外滑动或颤动导致的硅片粘连或除去液体不彻底等后果,进而影响到硅片质量。
[0017]在一种可能的实现方式中,上述底座靠近承载部的一面具有多组安装部。多组安装部沿着垂直于转轴的方向分布。上述转动连接组件设在相应组安装部上。由于多组安装部沿着垂直于转轴的方向分布,使得在需要不同倾斜角度提拉承载结构时,可以调整转动连接组件所含有的转轴与不同安装部的距离,进而改变第一预设角度。
[0018]在一种可能的实现方式中,每组安装部包括至少一个设在底座上的安装槽或安装
架。
[0019]在一种可能的实现方式中,各组安装部的高度相同或不同。
[0020]在一种可能的实现方式中,上述翘板机构还包括多组可拆卸连接件,每组可拆卸连接件将转轴固定在相应组安装部上。转轴通过可拆卸连接件可拆卸地安装于相应组安装部上上的安装架或安装槽上,从而实现了整个翘板机构的可拆卸,便于更换。
[0021]在一种可能的实现方式中,上述承载结构还包括两个限位件。两个限位件沿着上述提拉装置的提拉方向分布在清洗槽侧壁。上述翘板机构位于两个限位件之间。两个限位件与翘板机构配合,使得翘板机本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种提拉装置,其特征在于,用于提拉浸没在清洗槽内的花篮,所述提拉装置包括机械连接的提拉机构和承载结构;其中,所述承载结构包括底座以及翘板机构,所述底座机械连接于所述提拉机构,所述翘板机构安装在所述底座;所述翘板机构用于承载所述花篮,使所述提拉机构从所述清洗槽内以第一预设角度倾斜提起所述花篮。2.根据权利要求1所述的提拉装置,其特征在于,所述翘板机构包括承载部以及转动连接组件,所述承载部通过所述转动连接组件设在所述底座上,所述转动连接组件和所述承载部分别具有中心轴,所述转动连接组件的中心轴偏离承载部的中心轴,所述承载部远离所述底座的表面与所述底座靠近所述承载部的表面形成所述第一预设角度。3.根据权利要求1所述的提拉装置,其特征在于,所述第一预设角度大于0
°
且小于或等于30
°
;或,所述第一预设角度大于0
°
且小于或等于20
°
。4.根据权利要求1所述的提拉装置,其特征在于,当所述提拉机构提拉所述花篮时,所述花篮内的硅片靠近所述清洗槽的底部的至少一条棱边与液面具有第二预设角度,所述第二预设角度为0
°
~90
°
。5.根据权利要求2所述的提拉装置,其特征在于,所述转动连接组件包括转轴以及活动套设在所述转轴上的至少一个套筒,所述转...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙前高
申请(专利权)人:禄丰隆基硅材料有限公司
类型:新型
国别省市:

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