涂胶、显影单元的方便维修结构制造技术

本实用新型专利技术涉及涂胶、显影单元的改进技术，具体为一种用以在半导体晶片上进行涂胶、显影的涂胶单元及显影单元的方便维修结构，解决涂胶、显影单元维修或更换时存在的笨重又不方便，容易造成部件的局部划伤，从而产生机械尘粒，不利于涂胶、显影工艺过程等问题。涂胶或显影单元的基座置于安装板上，基座底部安装凸轮随动器，安装板上开有与凸轮随动器配合的凹槽。当单元发生故障需要进行维修或更换时，便可以拆除单元与机架的固定螺栓，借助凸轮随动器的滚动作用将单元整体沿直线凹槽向外拉出，可以实现对涂胶（显影）单元的方便、快捷的维修与及时更换，即插即用。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及涂胶、显影单元的改进技术，具体为一种用以在半导体晶片 上进行涂胶、显影的涂胶单元及显影单元的方便维修结构。
技术介绍
目前，巿场上相关半导体设备的涂胶、显影单元都是固定在机架上的，当单 元发生故障需要维修或更换时，需要人工将整体单元从狭小的空间搬出进行维修，单元整体重量要超过30公斤，即笨重又不方便，容易造成部件的局部划伤，从而 产生机械尘粒，不利于涂胶、显影工艺过程。随着巿场的需求相关设备需要更新换代，合理简单的结构不仅能够降低成本, 节省时间，而且能够降低劳动强度。如今半导体设备已经发展到一定程度，半导 体厂商对设备产能的要求仍是居高不下。那么，追求单元结构的精简化，节约设 备维修时间也是很重要的。
技术实现思路
为了克服上述的不足，本技术的目的在于提供一种涂胶、显影单元的方 便维修结构，解决涂胶、显影单元维修或更换时存在的笨重又不方便，容易造成 部件的局部划伤，从而产生^U戎尘粒，不利于涂胶、显影工艺过程等问题。釆用 本技术可以缩短工艺单元故障的维修时间，可以为保证设备的正常产能争取 时间。本技术的技术方案是一种涂胶、显影单元的方便维修结构，涂胶或显影单元的基座置于安装板本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂胶、显影单元的方便维修结构，其特征在于：涂胶或显影单元的基座（１）置于安装板（３）上，基座（１）底部安装凸轮随动器（２），安装板（３）上开有与凸轮随动器（２）配合的凹槽。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：魏猛，
申请(专利权)人：沈阳芯源微电子设备有限公司，
类型：实用新型
国别省市：89[中国|沈阳]