温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型涉及涂胶、显影单元的改进技术，具体为一种用以在半导体晶片上进行涂胶、显影的涂胶单元及显影单元的方便维修结构，解决涂胶、显影单元维修或更换时存在的笨重又不方便，容易造成部件的局部划伤，从而产生机械尘粒，不利于涂胶、显影工艺过程等问题...
该专利属于沈阳芯源微电子设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过沈阳芯源微电子设备有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。