真空处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种处理室的更换容易的真空处理装置，本发明专利技术的真空处理装置（１）具有处理室（２０）和输出输入室（１０）。输出输入室（１０）固定在处理室（２０）的上方位置。另一方面，处理室（２０）可通过升降机构（５０）下降，所以若使处理室（２０）下降，则处理室（２０）从输出输入室（１０）分离。此外，在处理室（２０）上连接有搬运机构（３０），所以在从输出输入室（１０）拆下处理室（２０）后，也容易搬运处理室（２０）。这样，根据本发明专利技术，与以往相比更换处理室（２０）的操作变得简单容易。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及真空处理装置的

技术介绍
图5的附图标记101表示现有技术的真空处理装置。该真空处理装置101具有输出输入室110、和处理室130。处理室130在输出输入室110上方的位置上与输出输入室110气密地连接，可将配置于输出输入室110内部的基板在不暴露于外部空气的情况下向处理室130内部输入或从处理室130内部输出。在输出输入室110的内部可配置多张基板，在处理室130内部进行了蚀刻处理的基板从处理室130返回输出输入室110，蚀刻处理前的基板被新输入到处理室130内部。若反复多次进行蚀刻处理，则处理室130的内部被处理气体污染，所以在进行了设定次数的蚀刻处理后，中断蚀刻处理，将处理室130从输出输入室110拆下，并将新的处理室130安装到输出输入室110上，重新开始蚀刻处理。将安装在处理室130外壁上的部件拆下、而使处理室130从输出输入室110分离的操作是人以手工操作进行的。由于处理室130配置在输出输入室110的上方，所以人需使用梯凳等进行拆下操作，但是由于处理室130的重量非常重，所以位于较高位置的处理室130的拆下操作危险。特别是近年来伴随基板尺寸的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空处理装置，具有：处理室，在真空气氛中处理基板；输出输入室，在前述处理室上方的位置连接于前述处理室，基板从外部气氛输入其中；前述基板在前述输出输入室和前述处理室之间被输送，能在维持前述处理室和前述输出输 入室的上下位置关系的状态下，将前述处理室从前述输出输入室拆下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：高桥诚一，宫谷武尚，林秀夫，佐藤真幸，堤贤吾，小野洋平，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：JP[日本]