测试结构版图的形成方法及系统、测试结构的形成方法技术方案

测试结构版图的形成方法，包括：形成至少两个虚拟引线焊垫图案；形成包含所述虚拟引线焊垫图案的虚框图案；在所述虚框图案的虚拟引线焊垫图案之间形成单个测试结构图案，并将所述单个测试结构图案与虚拟引线焊垫图案通过互连线图案连接，形成包含虚框、虚拟引线焊垫图案和单个测试结构图案的标准单元图案；形成引线焊垫图案；形成包含所述引线焊垫图案的框架图案；将所述标准单元图案插入到所述框架图案中，并使所述标准单元图案中的虚拟引线焊垫图案与框架图案中的引线焊垫图案对准，形成测试结构版图。本发明专利技术还提供一种形成测试结构版图的系统、测试结构的形成方法及版图的形成方法。本发明专利技术可提高形成版图的效率，节省时间，降低出错几率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体
，特别涉及一种测试结构版图的形成方 法及系统、测试结构的形成方法。
技术介绍
在半导体集成电路版图设计和制造工艺中，常常需要测试结构来验证设计和制造工艺的好坏。例如，专利号为ZL200620046824.3的中国专 利公开了一种金属-绝缘体-金属射频测试结构，在所述的专利中，通过在 金属-绝缘体-金属射频测试结构顶层金属上增设多个测试触点，使其在测 试时形成电阻并联的形式，从而大大降低了金属-绝缘体-金属电容的电阻 值，并提高了品质因素值。测试结构同形成器件的结构一样，也是通过电路设计、版图设计、 版图分解、器件制造等工序而形成。如果在版图设计阶段产生缺陷，那 么在半导体村底上形成测试结构之后，将导致形成的测试结构产生缺陷，而该缺陷是无法分辨由电路设计及制造工艺形成的，还是由于版图设计 时产生的。因而，测试结构的版图设计是形成测试结构的关键环节。图1至图2为现有的一种测试结构版图的形成方法各步骤相应的示意图。如图l所示，首先形成多个引线焊垫图案100a、 100b......，接着形成包含所述引线焊垫图案100a、画......的框架图案100。其中，所述引线焊垫图案100a、 100b......用于形成引线焊垫，所述引线焊垫图案通过互连线图案与测试结构图案连接。所述框架图案100用于定义形成测试结构版 图的区域。如图2所示，根据需要，在所述引线焊垫图案100a、 100b其中的两个 之间形成测试结构图案102,并通过互连线104将测试结构图案102与相应 的引线焊垫图案连接；在不同的引线焊垫图案之间可以形成多个测试结 构图案，从而形成包含多个测试结构图案的测试结构版图。将所述测试结构版图分解到掩模板上，并通过半导体集成电路的制造工艺形成于半 导体衬底上，即形成测试结构。然而，所述的测试结构的形成方法中，需要在多个引线焊垫图案之 间分别形成多个测试结构图案，并将测试结构图案与相应的引线焊垫图 案连接，效率较低。
技术实现思路
本专利技术提供一种测试结构版图的形成方法及系统、测试结构的形成 方法和版图的形成方法，本专利技术可提高形成版图的效率。本专利技术提供的一种测试结构版图的形成方法，包括形成至少两个虚拟引线焊垫图案，并将所述的虚拟引线焊垫图案按. 照引线焊塾图案布局排列，该虚拟引线焊垫图案的尺寸与实际的引线焊 垫图案相同；形成框起至少两个所述虚拟引线焊垫图案的虚框图案，所述虚框图 案用于划分单个测试结构图案的区域；在所述虚框图案的虚拟引线焊垫图案之间形成单个测试结构图案， 并将所述单个测试结构图案与虚拟引线焊垫图案通过互连线图案连接， 形成包含虚框、虚拟引线焊垫图案和单个测试结构图案的标准单元图 案；形成引线焊垫图案；形成包含所迷引线焊垫图案的框架图案，用于划分测试结构版图的 区域；将所述标准单元图案插入到所述框架图案中，并使所述标准单元图 案中的虚拟引线焊垫图案与框架图案中的引线焊垫图案对准，形成测试 结构版图。可选的，所述单个测试结构图案包括栅极测试结构图案、NMOS测 试结构图案、PMOS测试结构图案或互连线测试结构图案。可选的，进一步包括在将所述标准单元图案插入到所述框架图案 之前，在所述标准单元图案中插入对测试结构的描述。可选的，还包括调整插入到所述框架图案中的标准单元的位置，步骤如下定位待调整的标准单元图案的原位置及目标位置；移动所述标准单元图案至目标位置，并使所述标准单元图案中的虚 拟引线焊垫图案与框架图案中目标位置的引线焊垫图案对准。可选的，还包括修改所述框架图案中的标准单元，步骤如下定位待修改的标准单元图案的位置；打开所述待修改的标准单元图案；修改所述标准单元图案内部的测试结构图案。可选的，进一步包括对所述测试结构版图进行设计规则检查。本专利技术还提供一种形成测试结构版图的系统，包括虚拟图案生成装置、测试结构图案生成装置、实际图案生成装置和 对准装置；其中，所述虚拟图案生成装置用于形成至少两个虚拟引线焊垫图案，并将 所述的虚拟引线焊垫图案按照引线焊垫图案布局排列，该虚拟引线焊垫 图案的尺寸与实际的引线焊垫图案相同；以及用于形成框起至少两个所 述虚拟引线焊垫图案的虚框图案，所述虚框图案用于划分单个测试结构 图案的区域；所述测试结构图案生成装置用于在所述虚拟图案生成装置生成的 虚框图案的虚拟引线焊垫图案之间形成单个测试结构图案，并将所述单 个测试结构图案与虚拟引线焊垫图案通过互连线图案连接，形成包含虚 框、虚拟引线焊垫图案和单个测试结构图案的标准单元图案；所述实际图案生成装置用于形成引线焊垫图案，以及形成包含所述 引线焊垫图案的、用于划分测试结构版图的区域的框架图案；所述对准装置用于将所述测试结构图案生成装置生成的标准单元 图案插入到所述实际图案生成装置生成的框架图案中，并使所述标准单 元图案中的虚拟引线焊垫图案与框架图案中的引线焊垫图案对准，形成 测试结构版图。可选的，还包括存储装置，用于存储所述测试结构图案生成装置、 实际图案生成装置和对准装置生成的图案。可选的，还包括输入/输出装置，所述输入/输出装置与所述存储装 置连接。可选的，所述输入输出装置包括键盘、显示器、扫描仪、打印机中 的一种或组合。本专利技术还提供一种测试结构版图的形成方法，包括 形成引线焊垫图案；形成包含所述引线焊垫图案的框架图案，用于划分测试结构版图的区域；形成至少两个虚拟引线焊垫图案，并将所述的虚拟《1线焊垫图案按 照的引线焊垫图案布局排列，该虚拟引线焊垫图案的尺寸与实际的引线 焊垫图案相同；形成框起至少两个所述虚拟引线焊垫图案的虚框图案，所述虚框图 案用于划分单个测试结构图案的区域；在所述虚框图案的虚拟引线焊垫图案之间形成单个测试结构图案， 并将所述单个测试结构图案与虚拟引线焊垫图案通过互连线图案连接， 形成包含虚框、虚拟引线焊垫图案和单个测试结构图案的标准单元图 案；将所述标准单元图案插入到所述框架图案中，并使所述标准单元图 案中的虚拟引线焊垫图案与框架图案中的引线焊垫图案对准，形成测试 结构版图。本专利技术还提供一种测试结构的形成方法，包括形成至少两个虚拟引线焊垫图案，并将所述的虚拟引线焊垫图案按 照引线焊垫图案布局排列，该虚拟引线焊垫图案的尺寸与实际的引线焊 垫图案相同；形成框起至少两个所述虚拟引线焊垫图案的虚框图案，所述虚框图 案用于划分单个测试结构图案的区域；在所述虚框图案的虚拟引线焊垫图案之间形成单个测试结构图案， 并将所述单个测试结构图案与虚拟引线焊垫图案通过互连线图案连接， 形成包含虚框、虚拟引线焊垫图案和单个测试结构图案的标准单元图案；形成引线焊垫图案；形成包含所述引线焊垫图案的框架图案，用于划分测试结构版图的 区域；将所述标准单元图案插入到所述框架图案中，并使所述标准单元图 案中的虚拟引线焊垫图案与框架图案中的引线焊垫图案对准，形成测试 结构版将所述测试结构版图分解后转移到掩模板上； 通过半导体制造工艺在半导体衬底上形成测试结构。 本专利技术还提供一种版图的形成方法，包括形成至少两个虚拟第 一结构图案，并将所述的虚拟第 一结构图案按 照实际第一结构图案布局排列，该虚拟第一结构图案的尺寸、间隔与实 际的第一结构图案相同；形成框起至少两个所述虚拟第 一结构图案的虚框图案，所述虚框图 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种测试结构版图的形成方法，其特征在于，包括：　形成至少两个虚拟引线焊垫图案，并将所述的虚拟引线焊垫图案按照引线焊垫图案布局排列，该虚拟引线焊垫图案的尺寸与实际的引线焊垫图案相同；　形成框起至少两个所述虚拟引线焊垫图案的虚框图案，所述虚框图案用于划分单个测试结构图案的区域；　在所述虚框图案的虚拟引线焊垫图案之间形成单个测试结构图案，并将所述单个测试结构图案与虚拟引线焊垫图案通过互连线图案连接，形成包含虚框、虚拟引线焊垫图案和单个测试结构图案的标准单元图案；形成引线焊垫图案；　形成包含所述引线焊垫图案的框架图案，用于划分测试结构版图的区域；　将所述标准单元图案插入到所述框架图案中，并使所述标准单元图案中的虚拟引线焊垫图案与框架图案中的引线焊垫图案对准，形成测试结构版图。

【技术特征摘要】
1、一种测试结构版图的形成方法，其特征在于，包括形成至少两个虚拟引线焊垫图案，并将所述的虚拟引线焊垫图案按照引线焊垫图案布局排列，该虚拟引线焊垫图案的尺寸与实际的引线焊垫图案相同；形成框起至少两个所述虚拟引线焊垫图案的虚框图案，所述虚框图案用于划分单个测试结构图案的区域；在所述虚框图案的虚拟引线焊垫图案之间形成单个测试结构图案，并将所述单个测试结构图案与虚拟引线焊垫图案通过互连线图案连接，形成包含虚框、虚拟引线焊垫图案和单个测试结构图案的标准单元图案；形成引线焊垫图案；形成包含所述引线焊垫图案的框架图案，用于划分测试结构版图的区域；将所述标准单元图案插入到所述框架图案中，并使所述标准单元图案中的虚拟引线焊垫图案与框架图案中的引线焊垫图案对准，形成测试结构版图。2、 如权利要求1所述的测试结构版图的形成方法，其特征在于 所述单个测试结构图案包括4册;fe测试结构图案、NMOS测试结构图案、 PMOS测试结构图案或互连线测试结构图案。3、 如权利要求1所述的测试结构版图的形成方法，其特征在于， 进一步包括在将所述标准单元图案插入到所述框架图案之前，在所述 标准单元图案中插入对测试结构的描述。4、 如权利要求1所述的测试结构版图的形成方法，其特征在于， 还包括调整插入到所述框架图案中的标准单元的位置，步骤如下定位待调整的标准单元图案的原位置及目标位置；移动所述标准单元图案至目标位置，并使所述标准单元图案中的虚 拟引线焊垫图案与框架图案中目标位置的引线焊垫图案对准。5、 如;f又利要求1所述的测试结构版图的形成方法，其特征在于，还包括修改所述框架图案中的标准单元，步骤如下 定位待修改的标准单元图案的位置； 打开所述待修改的标准单元图案； ^修改所述标准单元图案内部的测试结构图案。6、 如权利要求1所述的测试结构版图的形成方法，其特征在于， 进一步包括对所述测试结构版图进行设计规则检查。7、 一种形成测试结构版图的系统，其特征在于，包括虚拟图案生成装置、测试结构图案生成装置、实际图案生成装置和 对准装置；其中，所述虚拟图案生成装置用于形成至少两个虚拟引线焊垫图案，并将 所述的虚拟引线焊垫图案按照引线焊垫图案布局排列，该虚拟引线焊垫 图案的尺寸与实际的引线焊垫图案相同；以及用于形成框起至少两个所 述虚拟引线焊垫图案的虚框图案，所述虚框图案用于划分单个测试结构 图案的区域；所述测试结构图案生成装置用于在所述虚拟图案生成装置生成的 虚框图案的虚拟引线焊垫图案之间形成单个测试结构图案，并将所述单 个测试结构图案与虚拟引线焊垫图案通过互连线图案连接，形成包含虚 框、虚拟引线焊垫图案和单个测试结构图案的标准单元图案；所述实际图案生成装置用于形成引线焊垫图案，以及形成包含所述 引线焊垫图案的、用于划分测试结构版图的区域的框架图案；所述对准装置用于将所述测试结构图案生成装置生成的标准单元 图案插入到所述实际图案生成装置生成的框架图案中，并使所述标准单 元图案中的虚拟引线焊垫图案与框架图案中的引线焊垫图案对准，形成 测试结构版图。8...

【专利技术属性】
技术研发人员：陆黎明，龚斌，胡轶强，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]