【技术实现步骤摘要】
本技术涉及晶体硅太阳能电池，尤紫步及单晶硅太阳能电鹏戎面腐蚀槽。技术背景单晶硅太阳能电池表面陷光效果与太阳能电池的金字塔绒面均匀性有直接关系。目前，单晶硅太阳能电池绒面都是通过腐蚀法来获得金字塔绒面的，现在常用的方 法是将硅片竖直地放在硅片承载器中，然后将硅片承载器放置在装有腐蚀液的腐蚀槽 中，腐蚀液由氢氧化钠或氢氧化钾、水、消泡剂混合而成。目前，单晶硅太阳能电池绒 面腐蚀槽由槽体、加热管、支撑平板、硅片承，组成，加热管设置在槽体的底部，支撑平板架设在加热管的上面，在支撑平板上均匀地设有若干渗液孔，硅片承载器放置在 支撑平社，加热后的腐蚀船人支撑平板的渗液孔中冒出，流动的腐蚀液与硅片接触， 使单晶硅太阳能电池形成绒面。这种结构的腐蚀槽，腐蚀液的流向硅片底部流至赔 片的上部，再沿槽壁流下，不断循环。由于在支撑平板上有若干个均匀分布的渗液孔 在设有渗液孔的腐蚀液流动快，没有渗液孔的{體腐蚀液流动慢，这硅片底部腐 蚀液的流动不均匀，造成了硅片表面腐蚀不均，所获得的绒面表面不均匀，难以达到人们的预期要求
技术实现思路
为了克服缺陷，提高单晶硅太阳能电池绒面均匀性，本技术跑共了一种新 型单晶硅太阳能电池绒面腐蚀槽。本技术所采用的技术方案是所述单晶硅太阳能电池绒面腐蚀槽，包括槽体、加热管、支撑平板、硅片承载器，支撑平板架设在槽体内，并与槽体底面形成一个空腔，硅片承载器放置在支撑平板上，硅片插驗硅片承繊上，辦征是在雜平板的左右两端分别开有左缺口和右缺口，戶/i^加热管安^&槽体内壁上，且位于左缺口^&缺口的上方。戶;M^缺口和右缺口的微为D字形，齡支撑平板...
【技术保护点】
一种单晶硅太阳能电池绒面腐蚀槽，包括槽体（１）、加热管（２）、支撑平板（３）、硅片承载器（４），支撑平板（３）架设在槽体（１）内，并与槽体底面（７）形成一个空腔（９），硅片承载器（４）放置在支撑平板（３）上，硅片（１０）插装在硅片承载器（４）上，其特征是：在支撑平板（３）的两端开有左缺口（５）和右缺口（６），所述加热管（２）安装在槽体内壁（８）上，且位于左缺口（５）或右缺口（６）的上方。
【技术特征摘要】
1、一种单晶硅太阳能电池绒面腐蚀槽，包括槽体(1)、加热管(2)、支撑平板(3)、硅片承载器(4)，支撑平板(3)架设在槽体(1)内，并与槽体底面(7)形成一个空腔(9)，硅片承载器(4)放置在支撑平板(3)上，硅片(10)插装在硅片承载器(4)上，其特征是在支撑平板...
【专利技术属性】
技术研发人员：荀建华，刘志刚，
申请(专利权)人：荀建华，刘志刚，
类型：实用新型
国别省市：32[中国|江苏]
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