【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及例如在用于制造半导体元件、液晶显示元件、等离子显示元件或薄膜磁头等器件的印刷工序中将掩模图形转印到基板上时使用的曝光方法及其装置、以及与之关连的技术。对制造半导体元件等时使用的汇总曝光型(逐次移动型)、或扫描曝光型(分步扫描方式等)曝光装置，要求其有很高的曝光精度。因此，在曝光装置中，对确定作为掩模的线网的位置的线网载置台系统、以及二维移动作为基板的晶片的晶片载置台系统，必须分别采用能高精度地确定位置以及能高精度地进行扫描的构成。以往的线网载置台系统以及晶片载置台系统是相对于确定的框架机构顺序地直接安装的。而在最近的曝光装置中，正陆续使用用于进一步提高解像度的比KrF准分子激光器(波长248nm)波长更短的ArF准分子激光器(波长193nm)作为曝光光束，同时，还在探讨使用更短波长的F2激光(波长157nm)光等。但是，由于在普通的空气(特别是氧气)中这些波长200nm以下程度的真空紫外光(VUV光)的吸收率很高，故在使用该真空紫外光作为曝光光束时，需要分别按各载置台室(子室)密闭各个载置台系统，并对这些载置台室内供给氮气或氦气这样的对真空紫外...
【技术保护点】
一种曝光方法，是使用备有配置了可动载置台并具有气密性的载置台室的曝光装置，利用曝光光束经由第１物体及第２物体的一方曝光另一方的曝光方法，其特征在于包含以下过程：将第２物体搬入载置台室内；在载置台室内相对于可动载置台进行第２物体的位置 对准；将经过位置对准的第２物体设置在可动载置台上；移动可动载置台并相对于曝光位置对准第２物体的位置；利用曝光光束经由第１物体以及第２物体之一方曝光另一方。
【技术特征摘要】
JP 2001-2-5 027940/2001;JP 2000-2-15 041435/20001．一种曝光方法，是使用备有配置了可动载置台并具有气密性的载置台室的曝光装置，利用曝光光束经由第1物体及第2物体的一方曝光另一方的曝光方法，其特征在于包含以下过程将第2物体搬入载置台室内；在载置台室内相对于可动载置台进行第2物体的位置对准；将经过位置对准的第2物体设置在可动载置台上；移动可动载置台并相对于曝光位置对准第2物体的位置；利用曝光光束经由第1物体以及第2物体之一方曝光另一方。2．权利要求1所记载的曝光方法，其特征在于上述曝光装置具有将上述被曝光物体搬入上述载置台室内的搬运系统和收容该搬运系统并具有气密性的搬运室；上述载置台室和上述搬运室之间的空间被实质性地与外气隔离开；在上述载置台室以及上述搬运室内供给有透过上述曝光光束的气体，且与上述载置台室内相比，上述搬运室内的相对于上述气体的不纯物的浓度的允许值被管理得更高一些。3．权利要求1所记载的曝光方法，其特征在于上述曝光装置具有与上述可动载置台不同的可动载置台，和收容该不同的载置台并具有气密性的不同于上述载置台室的载置台室；上述曝光装置还进一步包括以下过程将第1物体搬入上述不同的载置台室；在不同的载置台室内进行相对于不同的可动载置台的第1物体的位置对准；将经过对准的第1物体设置在不同的载置台上；移动不同的可动载置台并相对于曝光位置对准第1物体的位置。4．权利要求1所记载的曝光方法，其特征在于装配载置台室以及可动载置台被以组件方式组入在曝光装置中。5．权利要求1所记载的曝光方法，其特征在于第1物体是形成有图形的掩模，第2物体是被转印该图形的像的基板。6．一种曝光方法，该曝光方法是利用曝光光束经由第1物体及第2物体之一方曝光其他方的曝光方法，其特征在于包含以下过程利用搬运系统将第2物体搬运到可动载置台；在利用搬运系统将第2物体搬运到可动载置台的过程中按外形基准进行第2物体的相对于搬运系统的位置对准；利用曝光光束经由被搬送到可动载置台上的第1物体以及第2物体之一方曝光另一方。7．权利要求6所记载的曝光方法，其特征在于在进行了相对于搬运系统的位置对准后，进行第2物体的相对于可动载置台的位置对准并将其载置在可动载置台上；以形成在第2物体上的位置对准标记为基准，相对于曝光光束对准载置在可动载置台上的第2物体的位置。8．权利要求7所记载的曝光方法，其特征在于第2物体的相对于搬运系统或可动载置台的位置对准是按第2物体的外形基准进行的。9．权利要求6所记载的曝光方法，其特征在于第1物体是形成有图形的掩模，第2物体是被转印该图形的像的基板，在相对于上述搬运系统对准第2物体的位置和相对于上述可动载置台对准第2物体的位置过程中，进一步包含进行第2物体的温度调整的过程。10．权利要求6所记载的曝光方法，其特征在于用组件方式在曝光装置中装配有上述可动载置台。11．一种曝光装置，该曝光装置是利用曝光光束经由第1物体及第2物体之一方曝光另一方的曝光装置，其特征在于具有移动第2物体的可动载置台；收纳可动载置台的载置台室；将第2物体搬入上述载置台室内的搬运系统；在载置台室内相对于可动载置台进行第2物体的位置对准的第1对准系统；将设置在可动载置台上的第2物体的位置对准到曝光位置上的第2对准系统。12．权利要求11所记载的曝光装置，其特征在于上述第1对准系统包含检测上述第2物体的外形的位置信息的外形检测系统；上述第2对准系统包含检测上述第2物体上的位置对准用标记的位置信息的标记检测系统。13．权利要求11所记载的曝光装置，其特征在于上述搬运系统包含按外形基准进行上述第2物体的位置对准的第3对准系统。14．权利要求11所记载的曝光装置，其特征在于在利用上述搬运系统搬运上述第2物体的搬运路途上，配备有进行上述第2物体的温度控制的温度控制系统。15．权利要求11所记载的曝光装置，其特征在于上述第1对准系统进一步具有搬入用的第1臂和搬出用的第2臂；上述第1及第2臂具有可分别在上述可动载置台的移动方向上自由滑动的保持部。16．权利要求11所记载的曝光装置，其特征在于上述第2物体包含第1基板和第2基板，上述可动载置台具有移动第1基板的第1可动载置台和移动第2基板的第2可动载置台；上述第1对准系统包含上述第1可动载置台用的对准系统和第2可动载置台用的对准系统，上述第2对准系统也包含上述第1可动载置台用的对准系统和第2可动载置台用的对准系统。17．权利要求11所记载的曝光装置，其特征在于具有实质性地从外气中隔离上述载置台室和上述搬运室之间的空间的具有可挠性的覆盖部件；向上述载置台室以及上述搬运室内供给透过上述曝光光束的气体的气体供给装置。18．权利要求17所记载的曝光装置，其特征在于进一步上述载置台室以及搬运室的至少一方配备有氧气浓度传感器。19．权利要求15所记载的曝光装置，其特征进一步在于可动载置台上具有保持第2物体的保持架，保持架形成有对应上述臂的保持部的缺口。20．权利要求11所记载的曝光装置，其特征在于进一步具有第2物体的支撑板，并在搬出第2物体时，通过突然停止移动并载置第2物体的可动载置台将第2物体搬出到支撑板上。21．权利要求11所记载的曝光装置，其特征在于进一步具有按一定的间隔配备保持第2物体的爪部的保持环；支撑并搬运保持环的搬运臂。22．权利要求11所记载的曝光装置，其特征在于上述载置台室和可动载置台以组件方式装配在曝光装置中。23．一种曝光装置，该曝光装置是利用曝光光束经由第1物体以及第2物体之一方曝光另一方的曝光装置，其特征在于具有进行第2物体的位置确定的可动载置台；将第2物体搬运到可动载置台上的搬运系统；搬运系统具有用于从外部取入该第2物体的具有2个以上位移自由度的搬运机构；检测保持在搬运机构上的该第2物体的外形的位置信息的外形检测系统；用于向该可动载置台方向搬运由搬运机构交接的该第2物体的至少具有一个位移自由度的框架机构。24．权利要求23所记载的曝光装置，其特征在于上述该搬运机构具有旋转台和可自由旋转地固定在该旋转台上的第1手柄以及可自由旋转地设置在该第1手柄前端部并在前端部保持上述第2物体的第2手柄。上述框架机构具有保持上述第2物体的臂和在上述可动载置台的方向驱动该臂的驱动装置。25．权利要求23所记载的曝光装置，其特征在于进一步具有对从上述搬运机构交接过来的上述第2物体进行温度调整的温度控制系统。26．权利要求23所记载的曝光装置，其特征在于进一步具有收纳上述可动载置台并具有气密性的载置台室；收纳上述搬运机构并具有气密性的第1搬运室；收纳上述臂机构并具有气密性的第2搬运室；在上述第2搬运室和上述载置台室之间、上述第1搬运室和上述第2物体的搬运线之间、以及上述第1搬运室和上述第2...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。