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曝光方法及其曝光装置、以及器件制造方法制造方法及图纸
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文档序号:3217839
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利用曝光光束经由掩模来曝光基板的曝光装置具有:移动基板的可动载置台;收纳可动载台的载置台室;在载置台室内搬运基板的搬运系统;在载置台室内相对于可动载置台对准基板位置的第1对准系统。用第1对准系统可以对准由搬运系统交接到载置台室内的被曝光体的...
该专利属于株式会社尼康所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社尼康授权不得商用。
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