双向转位装置制造方法及图纸

在一示例性实施方案中，双向转位装置包括多个双向转位头，多个双向转位头可以彼此独立地操作或协同操作以调节衬底处理室中的衬底和基座之间的间隙。在一些实施方案中，一种双向转位头包括：基部；能相对于所述基部旋转的可旋转板，所述可旋转板包括多个异形凹部，每个异形凹部限定在其中的凸轮表面；和多个凸轮销，每个凸轮销被设置成在被致动时作用在相应的异形凹部的所述凸轮表面上，以沿第一或第二可旋转方向移动所述可旋转板。可旋转方向移动所述可旋转板。可旋转方向移动所述可旋转板。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】双向转位装置
优先权主张
[0001]本申请要求授予Vintila等人的于2019年6月21日提交的名称为“Bidirectional Indexing Apparatus”的美国专利申请No.62/864,994的优先权，其全部公开内容都通过引用合并于此。


[0002]本公开总体上涉及一种用于衬底处理室的双向转位装置。在一示例性实施方案中，双向转位装置包括多个双向转位头，它们可以彼此独立地操作或协同操作以调节衬底处理室中的衬底和基座之间的间隙。

技术介绍

[0003]在一些衬底处理操作期间，衬底被支撑在处理室内的基座上。通常，衬底和基座之间的高度或间隙是不可调节的。然而，在现代半导体工艺中，无法进行间隙调整可能是一个重大缺陷，尤其是例如在寻求优化室条件以在等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺中创建纳米尺寸结构时。
[0004]这里提供的背景描述是为了总体呈现本公开的背景的目的。当前指定的专利技术人的工作在其在此
技术介绍
部分以及在提交申请时不能确定为现有技术的说明书的各方面中描述的范围内既不明确也不暗示地承认是针对本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种双向转位头，其包括：基部；能相对于所述基部旋转的可旋转板，所述可旋转板包括多个异形凹部，每个异形凹部限定在其中的凸轮表面；和多个凸轮销，每个凸轮销被设置成在被致动时作用在相应的异形凹部的所述凸轮表面上，以沿第一或第二可旋转方向移动所述可旋转板。2.根据权利要求1所述的双向转位头，其中所述多个异形凹部和凸轮销的各自位置是相关的以使得能连续增加转位。3.根据权利要求2所述的双向转位头，其中每个异形凹部限定具有对称平面的凸轮表面。4.根据权利要求2所述的双向转位头，其中所述多个凸轮销中的每一个被布置成以顺序方式作用在异形凹部的相应凸轮表面上。5.根据权利要求4所述的双向转位头，其中每个异形凹部的对称平面被配置为当相应的凸轮销作用于相应的凸轮表面上时赋予所述可旋转板双向旋转运动。6.根据权利要求1所述的双向转位头，其还包括连接到所述可旋转板的螺纹轴。7.根据权利要求1所述的双向转位头，其中所述异形凹部的凸轮表面的一部分在轮廓上是线性的。8.根据权利要求1所述的双向转位头，其中凸轮销的凸轮表面的一部分在轮廓上是弓形的。9.一种双向转位装置，其包括至少一个转位头，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：阿德里亚娜，
申请(专利权)人：朗姆研究公司，
类型：发明
国别省市：