一种新型真空镀膜设备的镀膜控制方法技术

本发明专利技术提供适用范围广且效率高的一种新型真空镀膜设备的镀膜控制方法，包括如下步骤：抽真空，抽真空装置对真空室进行抽真空；预冷却，基材传送装置通过水冷结构对驱动辊进行预冷却；预紧张力，基材传送装置通过驱动辊将基材绷紧，并将基材传送至雾化加热装置的上方；雾化，雾化装置将液态有机镀膜材料进行雾化，并将雾化后的液态有机镀膜材料喷出至加热装置的加热箱体内；汽化，加热装置的加热组件对加热箱体进行加热，从而将雾化后的有机镀膜材料进行加热以使其汽化；附着，涂覆载体组件驱动汽化后的有机镀膜材料从喷口喷出并附着于基材的表面上；冷却成型，预冷却后的驱动辊对附着于基材表面上的有机镀膜材料进行冷却成型。成型。成型。

【技术实现步骤摘要】
一种新型真空镀膜设备的镀膜控制方法


[0001]本专利技术涉及真空镀膜领域，尤其是一种新型真空镀膜设备的镀膜控制方法。

技术介绍

[0002]目前在真空状态下常用的薄膜制备方法有磁控溅射、蒸发、等离子体辅助化学气相沉积(PECVD)等，根据所用原材料的特性选取不同的镀膜方式。针对一些镀膜原材料为有机液态物的情况，在真空状态的镀膜方式一般采用PECVD的方式，也有一些采用在大气环境下在基材表面直接涂布的方式来制备薄膜。
[0003]在真空状态下采用PECVD的方式来制备薄膜，尤其是在柔性基材上进行镀膜时，此种薄膜的制备方式，对箱体(真空室)内部及传动系统都有一定的污染，从而导致基材在卷绕行走的过程造成损坏，另外其相对效率会也会降低。为了提高效率，增加一次成膜的厚度，就需要增加PECVD源，PECVD源数量的增加则会导致设备的卷绕系统变得复杂，使得薄膜在卷绕过程中容易出现褶皱，对于需要完成不同材料组成的叠加膜层，各源之间就会出现不同程度的相互干扰，而解决干扰问题带来的困扰同样也会使得设备变大，卷绕系统变得复杂，设备加工难度陡增。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种新型真空镀膜设备的镀膜控制方法，其特征在于包括如下步骤：A：抽真空，抽真空装置(101)对真空室(100)进行抽真空；B：预冷却，基材传送装置(1)通过水冷结构对驱动辊(11)进行预冷却；C：预紧张力，基材传送装置(1)通过驱动辊(11)将基材(10)绷紧，并将基材(10)传送至雾化加热装置(2)的上方；D：雾化，雾化装置(21)将液态有机镀膜材料进行雾化，并将雾化后的液态有机镀膜材料喷出至加热装置(22)的加热箱体(221)内；E：汽化，加热装置(22)的加热组件(222)对加热箱体(221)进行加热，从而将雾化后的有机镀膜材料进行加热以使其汽化；F：附着，涂覆载体组件(23)驱动汽化后的有机镀膜材料从喷口(2211)喷出并附着于基材(10)的表面上；G：冷却成型，预冷却后的驱动辊(11)对附着于基材(10)表面上的有机镀膜材料进行冷却成型。2.根据权利要求1所述的一种新型真空镀膜设备的镀膜控制方法，其特征在于还包括如下步骤：H：固化传送，基材传送装置(1)将附着有有机镀膜材料的基材(10)传送至紫外固化装置(3)的一侧；I：固化，紫外固化装置(3)向基材(10)发射紫外线，从而将冷却成型于基材(10)表面上的有机镀膜材料进行紫外固化。3.根据权利要求1或2所述的一种新型真空镀膜设备的镀膜控制方法，其特征在于在所述雾化步骤中，雾化装置(21)将液态有机镀膜材料雾化为<20μm的微小颗粒。4.根据权利要求3所述的一种新型真空镀膜设备的镀膜控制方法，其特征在于在所述雾化步骤中...

【专利技术属性】
技术研发人员：李星，张灵朝，范斌宏，
申请(专利权)人：浙江生波智能装备有限公司，
类型：发明
国别省市：