本实用新型专利技术公开了一种PECVD沉积腔体和PECVD沉积装置，所述主体一侧设有所述电动机，所述电动机固定连接所述旋转杆，所述旋转杆的一端转动连接所述第一连接杆的一端，所述第一连接杆的另一端转动连接所述第一沉积腔体，所述主体内部设有所述支架，所述主体一侧设有所述密封阀门，所述密封阀门固定连接所述真空机，所述主体顶部设有所述气体扩散器，所述气体扩散器固定连接所述气管的一端，所述气管的另一端固定连接所述化学气瓶，本实用新型专利技术通过转动旋转杆与连接联动第一沉积腔体与第二沉积腔体，实现对基片的翻转，使得基片在沉积时效果更均匀，同时沉积腔体内部采用弧形槽设计，使得上表面与下表面温度误差不会太大，同时加强了效率。时加强了效率。时加强了效率。
【技术实现步骤摘要】
一种PECVD沉积腔体和PECVD沉积装置
[0001]本技术涉及化学
，具体而言，是一种PECVD沉积腔体和PECVD沉积装置。
技术介绍
[0002]化学气相沉积(CVD)装置在做维护时，需要将气体分配盒重新安装到腔室本体上，并用至少两颗螺丝将其锁紧在腔室本体上，其中，所述气体分配盒用于使传输至反应腔内的反应气体在反应腔室内的分布更均匀，所述腔室本体用于支撑形成反应腔的零件，所述反应气体在所述反应腔内发生反应，目前化学气相沉积装置在沉积时，容易使得基片上表面接触反应气体时间长，容易造成基片上表面与下表面的沉积效果不同，造成沉积效果低下。
技术实现思路
[0003]为了解决现有技术中的例如上述技术问题，本技术公开了一种PECVD沉积腔体和PECVD沉积装置，包括：主体、电动机、旋转杆、第一连接杆、第一沉积腔体、第二连接杆、第二沉积腔体、支架、密封阀门、真空机、气体扩散器、气管、化学气瓶、弧形槽、限位板、气瓶架、控制器；
[0004]所述主体一侧设有所述电动机，所述电动机固定连接所述旋转杆，所述旋转杆的一端转动连接所述第一连接杆的一端，所述第一连接杆的另一端转动连接所述第一沉积腔体，所述旋转杆的另一端转动连接所述第二连接杆的一端，所述第二连接杆的另一端转动连接所述第二沉积腔体，所述旋转杆、所述第一沉积腔体、所述第二沉积腔体转动连接在所述主体内部，所述主体内部设有所述支架，所述主体一侧设有所述密封阀门，所述密封阀门固定连接所述真空机，所述主体顶部设有所述气体扩散器，所述气体扩散器固定连接所述气管的一端，所述气管的另一端固定连接所述化学气瓶。
[0005]优选的，所述第一沉积腔体所述第二沉积腔体表面设有所述弧形槽，所述第一沉积腔体所述第二沉积腔体上设有所述限位板。
[0006]优选的，所述主体一侧设有所述气瓶架。
[0007]优选的，所述电动机、所述真空机电性连接所述控制器。
[0008]本技术通过转动旋转杆与连接联动第一沉积腔体与第二沉积腔体，实现对基片的翻转，使得基片在沉积时效果更均匀，同时沉积腔体内部采用弧形槽设计，使得上表面与下表面温度误差不会太大，同时加强了效率。
附图说明
[0009]图1是本技术所述一种PECVD沉积腔体和PECVD沉积装置主视结构示意图；
[0010]图2是本技术沉积腔体翻转时结构示意图；
[0011]图3是本技术沉积腔体侧视结构示意图。
[0012]附图标识：
[0013]1、主体；2、电动机；3、旋转杆；4、第一连接杆；5、第一沉积腔体；6、第二连接杆；7、第二沉积腔体；8、支架；9、密封阀门；10、真空机；11、气体扩散器；12、气管；13、化学气瓶；14、弧形槽；15、限位板；16、气瓶架；17、控制器。
具体实施方式
[0014]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0015]实施例：
[0016]根据附图1
‑
3所示，本技术的实施例提供一种PECVD沉积腔体和PECVD沉积装置，包括：主体1、电动机2、旋转杆3、第一连接杆4、第一沉积腔体5、第二连接杆6、第二沉积腔体7、支架8、密封阀门9、真空机10、气体扩散器11、气管12、化学气瓶13、弧形槽14、限位板15、气瓶架16、控制器17；
[0017]所述主体1一侧设有所述电动机2，所述电动机2固定连接所述旋转杆3，所述旋转杆3的一端转动连接所述第一连接杆4的一端，所述第一连接杆4的另一端转动连接所述第一沉积腔体5，所述旋转杆3的另一端转动连接所述第二连接杆6的一端，所述第二连接杆6的另一端转动连接所述第二沉积腔体7，所述旋转杆3、所述第一沉积腔体5、所述第二沉积腔体7转动连接在所述主体1内部，所述主体1内部设有所述支架8，所述主体1一侧设有所述密封阀门9，所述密封阀门9固定连接所述真空机10，所述主体1顶部设有所述气体扩散器11，所述气体扩散器11固定连接所述气管12的一端，所述气管12的另一端固定连接所述化学气瓶13。
[0018]作为优选方案，更进一步的，所述第一沉积腔体5所述第二沉积腔体7表面设有所述弧形槽14，所述第一沉积腔体5所述第二沉积腔体7上设有所述限位板15。
[0019]作为优选方案，更进一步的，所述主体1一侧设有所述气瓶架16。
[0020]作为优选方案，更进一步的，所述电动机2、所述真空机10电性连接所述控制器17。
[0021]由以上技术方案可知，本技术实施例提供的一种PECVD沉积腔体和PECVD沉积装置，首先打开所述密封阀门，所述主体内部卸压，然后将基片放在所述第一沉积腔体内部的所述弧形槽上，然后打开所述真空机，将所述主体内部气体抽空，然后启动所述化学气瓶，化学气体通过所述气管经过所述气体扩散器进入到所述主体内，然后启动所述电动机，所述电动机带动所述旋转杆转动，所述旋转杆带动所述第一连接杆与所述第二连接杆带动所述第一沉积腔体与所述第二沉积腔体周期运动，起到自动翻转基片的作用。
[0022]需要说明的是，在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下。由语句“包括一个......限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素”。
[0023]尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，
可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种PECVD沉积腔体和PECVD沉积装置，其特征在于，包括：主体(1)、电动机(2)、旋转杆(3)、第一连接杆(4)、第一沉积腔体(5)、第二连接杆(6)、第二沉积腔体(7)、支架(8)、密封阀门(9)、真空机(10)、气体扩散器(11)、气管(12)、化学气瓶(13)、弧形槽(14)、限位板(15)、气瓶架(16)、控制器(17)；所述主体(1)一侧设有所述电动机(2)，所述电动机(2)固定连接所述旋转杆(3)，所述旋转杆(3)的一端转动连接所述第一连接杆(4)的一端，所述第一连接杆(4)的另一端转动连接所述第一沉积腔体(5)，所述旋转杆(3)的另一端转动连接所述第二连接杆(6)的一端，所述第二连接杆(6)的另一端转动连接所述第二沉积腔体(7)，所述旋转杆(3)、所述第一沉积腔体(5)、所述第二沉积腔体(7)转动连接在所述主体(1)内部，所述主体(1...
【专利技术属性】
技术研发人员：姜兴辉，
申请(专利权)人：大连诺豪联恒电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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