本实用新型专利技术公开了一种ALD方式制备非金属的装置，所述反应器内部两侧设有所述滑道，所述滑道内部嵌有所述滑动装置，两个所述滑动装置之间设有所述支架，所述支架上设有所述反应腔底座，所述反应腔底座底部设有所述泄气孔，所述反应腔底座上方对应位置设有所述反应腔体，所述反应腔体固定连接在所述固定杆上，所述固定杆两端固定连接在所述反应器内部，所述反应腔体顶部固定连接所述反应气管，所述反应器顶部固定连接所述冲洗气管，本实用新型专利技术通过旋转式气孔可以似的反应腔内原子层沉积更加均匀，同时加强反应效率，同时冲洗气管产生的冲洗气体冲洗反应器，同时反应器内部涂有石墨烯涂层不易残留有反应气体，增加了反应器的使用寿命。用寿命。用寿命。
【技术实现步骤摘要】
一种ALD方式制备非金属的装置
[0001]本技术涉及工业
，具体而言，是一种ALD方式制备非金属的装置。
技术介绍
[0002]反应腔室是ALD(Atomic Layer Deposition，原子层沉积)反应器的主要部件，待处理的基片被设置所述反应腔室中，原子层沉积工艺是基于间歇的、饱和的表面反应，其中所述表面控制膜的生长，反应器工作完成后，反应器内部残留有反应气体，容易腐蚀反应器内部或者与反应器发生反应，所以需要冲洗反应器，将内部反应气体排出反应器外。
技术实现思路
[0003]为了解决现有技术中的例如上述技术问题，本技术公开了一种ALD方式制备非金属的装置，包括：反应器、滑道、滑动装置、支架、反应腔底座、基座、反应腔体、反应气管、冲洗气管、排气管道、泄气孔、旋转式气孔、引流板、石墨烯涂层、固定杆；
[0004]所述反应器内部两侧设有所述滑道，所述滑道内部嵌有所述滑动装置，两个所述滑动装置之间设有所述支架，所述支架上设有所述反应腔底座，所述反应腔底座底部设有所述泄气孔，所述反应腔底座上设有所述基座，所述反应腔底座上方对应位置设有所述反应腔体，所述反应腔体固定连接在所述固定杆上，所述固定杆两端固定连接在所述反应器内部，所述反应腔体顶部固定连接所述反应气管，所述反应器顶部固定连接所述冲洗气管，所述反应器底部固定连接所述排气管道。
[0005]优选的，所述反应腔体与所述反应气管连接处设有所述旋转式气孔。
[0006]优选的，所述反应器底部设有所述引流板。
[0007]优选的，所述反应器内部设有所述石墨烯涂层。
[0008]本技术通过旋转式气孔可以似的反应腔内原子层沉积更加均匀，同时加强反应效率，同时冲洗气管产生的冲洗气体冲洗反应器，同时反应器内部涂有石墨烯涂层不易残留有反应气体，增加了反应器的使用寿命。
附图说明
[0009]图1是本技术所述一种ALD方式制备非金属的装置主视结构示意图；
[0010]图2是本技术所述反应腔体主视结构示意图；
[0011]图3是本技术所述反应腔底座主视结构示意图。
[0012]附图标识：
[0013]1、反应器；2、滑道；3、滑动装置；4、支架；5、反应腔底座；6、基座；7、反应腔体；8、反应气管；9、冲洗气管；10、排气管道；11、泄气孔；12、旋转式气孔；13、引流板；14、石墨烯涂层；15、固定杆。
具体实施方式
[0014]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0015]实施例：
[0016]根据附图1
‑
3所示，本技术的实施例提供一种ALD方式制备非金属的装置，包括：反应器1、滑道2、滑动装置3、支架4、反应腔底座5、基座6、反应腔体7、反应气管8、冲洗气管9、排气管道10、泄气孔11、旋转式气孔12、引流板13、石墨烯涂层14、固定杆15；
[0017]所述反应器1内部两侧设有所述滑道2，所述滑道2内部嵌有所述滑动装置3，两个所述滑动装置3之间设有所述支架4，所述支架4上设有所述反应腔底座5，所述反应腔底座5底部设有所述泄气孔11，所述反应腔底座5上设有所述基座6，所述反应腔底座5上方对应位置设有所述反应腔体7，所述反应腔体7固定连接在所述固定杆15上，所述固定杆15两端固定连接在所述反应器1内部，所述反应腔体7顶部固定连接所述反应气管8，所述反应器1顶部固定连接所述冲洗气管9，所述反应器1底部固定连接所述排气管道10。
[0018]作为优选方案，更进一步的，所述反应腔体7与所述反应气管8连接处设有所述旋转式气孔12。
[0019]作为优选方案，更进一步的，所述反应器1底部设有所述引流板13。
[0020]作为优选方案，更进一步的，所述反应器1内部设有所述石墨烯涂层14。
[0021]由以上技术方案可知，本技术实施例提供的一种ALD方式制备非金属的装置，首先将基片放置在所述基座上，由于所述反应腔体固定连接所述滑动装置上，所述滑动装置可以在所述滑道内上下移动，然后通过移动所述反应腔底座嵌入到所述反应腔体内，然后通过所述反应气管向所述反应腔体内部充入反应气体，经过所述旋转式气孔均匀的喷洒在基片，使得沉积更加均匀，效率更高，沉积效果更加理想，最后反应气体通过所述泄气孔排到所述反应器内部，最后通过所述排气管道排出，工作完成后打开所述冲洗气管，使用惰性气体充满所述反应器内部，使得反应气体更加有利快速的排出反应器内，防止残留反应气体腐蚀反应器内部。
[0022]需要说明的是，在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下。由语句“包括一个......限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素”。
[0023]尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种ALD方式制备非金属的装置，其特征在于，包括：反应器(1)、滑道(2)、滑动装置(3)、支架(4)、反应腔底座(5)、基座(6)、反应腔体(7)、反应气管(8)、冲洗气管(9)、排气管道(10)、泄气孔(11)、旋转式气孔(12)、引流板(13)、石墨烯涂层(14)、固定杆(15)；所述反应器(1)内部两侧设有所述滑道(2)，所述滑道(2)内部嵌有所述滑动装置(3)，两个所述滑动装置(3)之间设有所述支架(4)，所述支架(4)上设有所述反应腔底座(5)，所述反应腔底座(5)底部设有所述泄气孔(11)，所述反应腔底座(5)上设有所述基座(6)，所述反应腔底座(5)上方对应位置设有所述反应腔体(7)，所述反应腔...
【专利技术属性】
技术研发人员：姜兴辉，
申请(专利权)人：大连诺豪联恒电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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