降低第二位效应的氮化硅只读存储单元及其制造方法技术

一种降低第二位效应的氮化硅只读存储单元，由一基底、位于基底上的一氧化硅／氮化硅／氧化硅层、位于氧化硅／氮化硅／氧化硅层上的一栅极、位于基底中邻接栅极的源／漏极，以及位于源／漏极与氧化硅／氮化硅／氧化硅层之间邻接栅极的一浅口袋掺杂区域所组成，其中浅口袋掺杂区域的深度必需够小，以使流至源／漏极的电流不受干扰。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关于一种氮化硅只读存储单元(nitride read onlymemory cell，简称NROM cell)，且特别有关于一种降低第二位效应(second-bit effect)的氮化硅只读存储单元。对氮化硅只读存储单元而言，一个氮化硅只读存储单元基本上可以在接近漏极与源极的ONO层中的氮化硅层各储存一个位(bit)。然而，若是接近漏极部位已储存一位则会在进行逆向读取(reverse read)时产生第二位效应；也就是说，原先已经存在的位会影响顺向读取，而使能障(barrier)提高，导致顺向读取的启始电压(threshold voltage，简称Vt)提高。而目前的解决办法多是采取增加漏极电压(Vd)，以增加漏极电压所造成的能障降低效应(drain-induced barrier lowering，简称DIBL)，来因应上述问题，但是随着元件尺寸不断缩小，过大的漏极电压也会导致操作上的困难。本专利技术的再一目的是提供一种，可在不增加漏极电压下减少漏极电压所造成的能障降低效应(DIBL)。本专利技术的另一目的是提供一种，可同时减少漏极电压所造成的能障降低效应(DIBL)以及维持顺向读取的功效。根据上述与其它目的，本专利技术提出一种降低第二位效应的氮化硅只读存储单元，是由一基底、位于基底上的一氧化硅/氮化硅/氧化硅层、位于氧化硅/氮化硅/氧化硅层上的一栅极、位于基底中邻接栅极的源/漏极，以及位于源/漏极与氧化硅/氮化硅/氧化硅层之间邻接栅极的一浅口袋(shallow pocket)掺杂区域所组成，其中浅口袋掺杂区域的深度需小到使流至源/漏极的电流不受干扰。本专利技术另外提出一种制造降低第二位效应的氮化硅只读存储单元的方法，包括于基底上形成一氧化硅/氮化硅/氧化硅层，再于氧化硅/氮化硅/氧化硅层上形成一栅极。接着，以栅极为罩幕，对基底进行一浅口袋离子植入工艺，以于基底中形成邻接栅极的浅口袋掺杂区域，其中浅口袋掺杂区域的深度需小到足以使顺向读取的电流不受干扰。然后，于浅口袋掺杂区域外的基底中植入离子，以形成源/漏极。本专利技术因为在源/漏极与氧化硅/氮化硅/氧化硅层之间邻接栅极具有一浅口袋掺杂区域，而且浅口袋掺杂区域的深度必需够小，而不会使顺向读取的电流受到干扰。因此，可以防止漏极电压所造成的能障降低效应(DIBL)增加，进而增加逆向读取时的启始电压。而且，因为本专利技术所提出的浅口袋掺杂区域的深度不会使顺向读取的电流受到干扰，所以能够同时减少漏极电压所造成的能障降低效应(DIBL)以及维持顺向读取的功效。而且，本专利技术在不增加漏极电压下减少漏极电压所造成的能障降低效应(DIBL)，故可确保元件操作上的难易度。100，300基底101氮化硅层102，302氧化硅/氮化硅/氧化硅堆栈层103电荷陷入区106电流流动路径110a，110b，310a，310b浅口袋掺杂区域116a，116b，316a，316b源/漏极200曲线图位置306罩幕308浅口袋离子植入工艺312间隙壁314离子植入工艺请参照附图说明图1，本专利技术的实施例的氮化硅只读存储单元由一基底100、位于基底100上的一氧化硅/氮化硅/氧化硅层102、位于氧化硅/氮化硅/氧化硅(oxide-nitride-oxide，简称ONO)层102上的一栅极104、位于基底中100邻接栅极104的源/漏极(source/drain)116a、116b，以及位于源/漏极116a、116b与氧化硅/氮化硅/氧化硅层102之间邻接栅极104的浅口袋(shallow pocket)掺杂区域110a、110b所组成，其中浅口袋掺杂区域110a、110b的深度小于400埃，而较佳深度是小于200埃左右；以及其宽度例如是500埃。当氮化硅只读存储单元在进行顺向读取(forward read)时会有以下特性；也就是说，如果有电荷(charge)存在的话，进行顺向读取的电流会如图1所示的电流流动路径106，在接近漏极116b时从原本沿着源/漏极116a、116b之间的通道(channel)流向漏极116b改变成朝向基底100内部一固定深度流动，直到到达漏极116b。因此，本专利技术的氮化硅只读存储单元的浅口袋掺杂区域110a、110b深度必需够小，以使顺向读取时流至源/漏极116a、116b的电流不受其干扰，并保持其顺向读取时的启始电压(threshold voltage，简称Vt)。请继续参照图1，当漏极116b上方的氧化硅/氮化硅/氧化硅层102中具有电荷陷入区(trapping region)103的氮化硅层101已储存一位(bit)时，在进行逆向读取(reverse read)期间所产生第二位效应将因为浅口袋掺杂区域110b的存在而被降至最低，亦即能避免能障(barrier)降低所导致的漏极电压所造成的能障降低效应(drain-induced barrierlowering，简称DIBL)增加，进而提升逆向读取时的启始电压(Vt)。为使本专利技术与公知的差异更加明显，请参考图2所示。图2所示为本专利技术与公知的氮化硅只读存储单元在进行顺向与逆向读取操作上的启始电压(Vt)曲线图。请参照图2，当线宽为0.3微米、漏极电压为1.6伏特时，分别利用本专利技术的氮化硅只读存储单元与公知的氮化硅只读存储单元进行顺向与逆向读取，可以得到逆向读取时的启始电压与顺向读取时的启始电压的关系图。从图2可知在曲线图位置200之后，即逆向读取时的启始电压超过2.5伏特，且顺向读取时的启始电压超过0.1伏特之后，在相同的顺向读取启始电压下，本专利技术的氮化硅只读存储单元所测得的逆向读取启始电压将明显大于公知的数值。因此，本专利技术确实能避免漏极电压所造成的能障降低效应(DIBL)增加，进而提升逆向读取时的启始电压(Vt)。而关于本专利技术的氮化硅只读存储单元的制作方法则如图3A至图3C所示。图3A至图3C是依照本专利技术的一较佳实施例的降低第二位效应的氮化硅只读存储单元(NROM cell)的制造流程剖面图。请参照图3A，于基底300上形成氧化硅/氮化硅/氧化硅(oxide-nitride-oxide，简称ONO)堆栈层(stacked layer)302，其所构成的堆栈式结构是由一层底氧化层、一层氮化硅层与一层顶氧化层所组成的。然后，于氧化硅/氮化硅/氧化硅堆栈层302上形成一层导体层，以作为氮化硅只读存储单元的栅极304，其中材质例如是多晶硅(polysilicon layer)。接着，请参照图3B，于氧化硅/氮化硅/氧化硅层302上形成一罩幕306譬如光阻，以暴露出邻接栅极304的区域。随后，进行一浅口袋离子植入工艺308，以于基底300内形成浅口袋掺杂区域310a、310b，其深度小于400埃；而较佳深度是小于200埃左右，其中浅口袋离子植入工艺308的植入浓度例如是1.5×1018cm-3。此外，就算不在基底300上形成罩幕306，也可以将栅极304当作离子植入工艺的罩幕，直接进行浅口袋离子植入工艺308。随后，请参照图3C，去除罩幕306(请见图3B)，在于栅极304侧壁形成间隙壁312。然后，对基底进行一离子植入工艺314，以于基底300中形成邻接栅极304的源/漏极316a、316b。如上所述，本发本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种降低第二位效应的氮化硅只读存储单元，其特征是，该存储单元包括： 一基底； 一氧化硅／氮化硅／氧化硅层，位于该基底上； 一栅极，位于该氧化硅／氮化硅／氧化硅层上； 一源／漏极，位于该基底中邻接该栅极；以及 一浅口袋掺杂区域，位于该源／漏极与该氧化硅／氮化硅／氧化硅层之间邻接该栅极，其中该浅口袋掺杂区域的深度小到足以使流至该源／漏极的电流不受干扰。

【技术特征摘要】
1.一种降低第二位效应的氮化硅只读存储单元，其特征是，该存储单元包括一基底；一氧化硅/氮化硅/氧化硅层，位于该基底上；一栅极，位于该氧化硅/氮化硅/氧化硅层上；一源/漏极，位于该基底中邻接该栅极；以及一浅口袋掺杂区域，位于该源/漏极与该氧化硅/氮化硅/氧化硅层之间邻接该栅极，其中该浅口袋掺杂区域的深度小到足以使流至该源/漏极的电流不受干扰。2.如权利要求1所述的降低第二位效应的氮化硅只读存储单元，其特征是，该浅口袋掺杂区域的深度小于400埃。3.如权利要求1所述的降低第二位效应的氮化硅只读存储单元，其特征是，该栅极的材质包括多晶硅。4.如权利要求1所述的降低第二位效应的氮化硅只读存储单元，其特征是，该浅口袋掺杂区域的深度小于200埃。5.一种制造降低第二位效应的氮化硅只读存储单元的方法，其特征是，该方法包括提供一基底；于该基底上形成一氧化硅/氮化硅/氧化硅层；于该氧化硅/氮化硅/氧化硅层上形成一栅极；于该氧化硅/氮化硅/氧化硅层上形成一罩幕，以暴露出邻接该栅极的一区域；施行一浅口袋植入工艺，以于邻接该栅极的该基底内形成一浅口袋掺杂区域，其中该浅口袋掺杂区域具有一第一深度；去除该罩幕；以及于该基底中形成邻接该栅极的一源/漏极，其中顺向读取时流至该源/漏极的电流的流动路径在接近该浅口袋掺杂区域时的最浅深度为一第二深度，其中该第二深度大于该第一深度。6.如权利要求5所述的制造降低第二位效应的氮化硅只读存储单元的方法，其特征是，该浅口袋掺杂区域的深度小于400埃。7.如权利要求5所述的制造降低第二位效应的氮化硅只读存储单元的方法，其特征是，该浅口...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶彦宏，蔡文哲，刘慕义，詹光阳，范左鸿，卢道政，
申请(专利权)人：旺宏电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]