【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及液晶显示器(LCD)，更为特别地，涉及。
技术介绍
通常，液晶显示器(LCD)包括两个被间隔开并彼此面对的基板、以及介于两个基板之间的液晶层。每个基板包括电极，且各基板的电极也彼此面对。向各电极施加电压，因此在电极之间产生电场。通过改变电场的强度或方向来改变液晶分子排列。LCD器件通过根据液晶分子的排列改变光透射率来显示图像。下文中将参考附图详细描述现有技术的LCD器件。图1是示出现有技术LCD器件11的分解透视图。现有技术的LCD器件11具有被间隔开并彼此面对的上和下基板5和22，且还具有介于上基板5和下基板22之间的液晶15。上基板5包括依序在其内侧(即面对下基板22的一侧)上形成的黑底6、滤色器层7和公共电极9。黑底6具有多个开口。滤色器层7对应于黑底6中的开口并包括红(R)、绿(G)和蓝(B)三个子滤色器。公共电极9形成在滤色器7上且为透明的。在下基板22的内表面(即面对上基板5的一侧)上形成至少一个选通线12和至少一个数据线34。选通线12和数据线34彼此交叉以限定像素区域P。在选通线12和数据线34的交叉处形成作为开关元件的薄膜晶体管...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于液晶显示器的阵列基板，包括基板上的选通线和选通焊盘；基板上的数据线和数据焊盘，数据线与选通线交叉以限定像素区域；薄膜晶体管，位于选通线和数据线交叉处，并包括栅电极、有源层、源电极和漏电极；钝化层，设置在包括薄膜晶体管的基板的整个表面上，其中钝化层被蚀刻以暴露像素区域中的基板、部分漏电极、选通焊盘、以及数据焊盘；和在包括钝化层的基板上的像素电极、选通焊盘端子和数据焊盘端子，像素电极直接接触漏电极的暴露部分，选通焊盘端子接触暴露的选通焊盘，而数据焊盘端子接触数据焊盘。2.根据权利要求1的阵列基板，其中钝化层具有相反的逐渐变细的侧部。3.根据权利要求1的阵列基板，其中钝化层具有圆弧表面。4.根据权利要求1的阵列基板，其中钝化层被构图，且像素电极、选通焊盘端子和数据焊盘端子设置在钝化层的图形之间。5.根据权利要求1的阵列基板，其中像素电极接触像素区域中暴露的基板。6.根据权利要求1的阵列基板，其中非晶硅层和掺杂非晶硅层层叠在数据线和数据焊盘的下方。7.根据权利要求6的阵列基板，其中非晶硅层的边缘被暴露。8.根据权利要求1的阵列基板，进一步包括选通线上方的岛状的金属图形。9.根据权利要求8的阵列基板，其中钝化层进一步暴露一部分金属图形。10.根据权利要求9的阵列基板，其中像素电极直接接触金属图形的暴露部分，由此金属图形与选通线一起形成存储电容器。11.根据权利要求1的阵列基板，进一步包括钝化层上的导电图形，其中该导电图形由与像素电极相同的材料制成。12.根据权利要求1的阵列基板，其中有源层具有与源和漏电极相同的形状且还包括源和漏电极之间的附加部分。13.根据权利要求1的阵列基板，进一步包括钝化层与薄膜晶体管、选通线和数据线之间的无机绝缘图形，其中该无机绝缘图形具有与钝化层相同的形状。14.一种制造用于液晶显示器的阵列基板的方法，包括在基板上通过第一掩模工艺形成选通线、选通焊盘和栅电极；通过第二掩模工艺在包括选通线、选通焊盘和栅电极的基板上形成数据线、数据焊盘、源电极、漏电极和有源层，其中数据线与选通线交叉以限定像素区域，源电极从数据线延伸，漏电极与源电极隔离开，且有源层设置在栅电极与源和漏电极之间；通过第三掩模工艺在包括数据线、源电极和漏电极的基板的整个表面上形成钝化层，蚀刻钝化层以暴露像素区域中的基板、部分漏电极、选通焊盘和数...
【专利技术属性】
技术研发人员：张允琼，赵兴烈，柳洵城，
申请(专利权)人：LG飞利浦LCD有限公司，
类型：发明
国别省市：
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