【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种超临界流体工艺的原位监控，特别是涉及用于监控和分析在采用超临界流体或高压液体的半导体制造工艺中的实时操作参数的方法和装置。
技术介绍
半导体集成电路(IC)通过一系列工艺步骤制造，这些步骤中的多数涉及到使用气体和液体材料。这些工艺包括刻蚀、扩散、化学汽相沉积(CVD)、离子注入等。一个重要的制造步骤是使用超临界流体或高压液体来清洁半导体晶片和其它集成电路，而且工艺条件的监控对于工艺的优化是重要的。例如，如果将共溶剂与超临界流体/高压液体一起使用，则重要的是要知道在加工过程中混合物中共溶剂的量，以便使混合物可以保持于优化的预定浓度。另外，测量流出物的成分以在其它事情之中确定工艺终点也是重要的。通过监控输入的混合物和流出物以及超临界流体或高压液体的成分，可以确定用于工艺中的共溶剂的量以及取决于浓度的多个其它操作参数。当对终点的确认进行监控时，流出物的成分将反映出材料从工件中去除的停止，或者在沉积工艺的情况下，(来自于共溶剂的)沉积材料和流出物浓度将增大，其反映了在工件表面上沉积作用的停止。本专利技术的研发应用于半导体和微电子制造工业，特别是，应用...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于在电子器件制造过程中原位监控和分析参数的方法，包括以下步骤提供带有对置的窗口的压力容器，该对置的窗口用于将红外光束传输进容器中和从容器中输出，光束通过容器内部；提供要在容器中处理的工件；提供在容器中的用于处理衬底的一种或多种材料，所述材料包括超临界流体、高压液体，并且可选择地含有一种或多种溶剂；提供红外分光计，用于生成和传输一波长范围内的红外光束通过所述窗口中的一个进入压力容器中，通过包含在容器中的材料，并且从对置的窗口输出；提供反射性传输镜；提供接收器，用于从反射性传输镜接收被反射的红外光；将特定波长的红外光束通过所述窗口中的一个进入容器中，在反射性传输镜处将光束通过容器并从对置的窗口输出，以及将被反射的光束接收在接收器中；检测和分析被反射的红外光；在所需要的波长范围内重复上述操作；以及根据被反射的光束的检测和分析结果，确定容器中材料的成分和其它参数。2.根据权利要求1所述的方法，其中工件为集成电路。3.根据权利要求2所述的方法，其中容器中的材料包括CO2。4.根据权利要求3所述的方法，其中所述CO2处于超临界状态。5.根据权利要求1所述的方法，其中反射光束返回通过压力容器，然后被接收器接收。6.根据权利要求1所述的方法，其中材料的成分在容器的入口处得以确定。...
【专利技术属性】
技术研发人员：约翰·M·科特，肯尼思·J·麦卡洛，韦恩·M·莫罗，基思·R·波普，罗伯特·J·珀特尔，约翰·P·西蒙斯，查尔斯·J·塔夫特，
申请(专利权)人：国际商业机器公司，
类型：发明
国别省市：
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