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超临界流体工艺条件的原位监控方法和装置制造方法及图纸
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文档序号:3208848
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一种用于在电子器件制造过程中原位监控和分析参数的方法,包括以下步骤: 提供带有对置的窗口的压力容器,该对置的窗口用于将红外光束传输进容器中和从容器中输出,光束通过容器内部; 提供要在容器中处理的工件; 提供在容器中的用于处...
该专利属于国际商业机器公司所有,仅供学习研究参考,未经过国际商业机器公司授权不得商用。
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