铈类研磨材料及研磨材料浆液和铈类研磨材料的制造方法技术

本发明专利技术是以氧化铈为主成分的铈类研磨材料，它具有如下特征：构成研磨材料的研磨材料粒子由含有硅或硅化合物构成的硅成分和铝或铝化合物构成的铝成分中的至少一种的覆盖层覆盖。该铈类研磨材料，是将铈类研磨材料湿式分散于分散介质中，制成浆液，在该浆液中添加含有硅化合物或铝化合物中至少一种的处理溶液，进行表面处理而制成。另外，也可以在以往的铈类研磨材料的制造工序中，在粉碎工序中或粉碎工序后在上述的浆液中添加含有硅化合物或铝化合物中至少一种的处理溶液，进行表面处理后，进行焙烧、分级而制成。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及铈类研磨材料。更详细说，涉及流动性及分散性良好、研磨特性优异的铈类研磨材料。
技术介绍
含有作为主成分的铈类粒子的铈类研磨材料的用途正因其优异的研磨效果和添加到研磨材料中的各种添加剂功能的增多而飞速扩大。现在，它不仅用于以往的光学用玻璃的研磨，而且还用于研磨液晶用玻璃、硬盘等磁记录介质用玻璃、LSI等电子回路制造的领域。该铈类研磨材料的制造方法一般为如下的制造方法即，将原料进行浆化，湿式粉碎、必要时利用无机酸等进行处理后，再利用氢氟酸和氟化铵等进行化学处理。然后将所得的浆液进行过滤，干燥，焙烧后，进行粉碎和分级，就可得到具有所希望粒径的研磨材料粒子。另外，作为该铈类研磨材料的原料，可用碳酸稀土、氢氧化稀土、草酸稀土等稀土原料或利用将它们焙烧所得的氧化稀土原料。一般可经公知的化学处理将一部分的稀土金属(Nd、Pr等)及放射性元素等从氟碳铈矿类稀土原料或含铈稀土类原料中除去来制得这些稀土原料。然而，对于铈类研磨材料的要求是以能发挥其高研磨速度为前提的，另外，还要求其能制成具有优异镜面性的研磨面。不仅铈类研磨材料须具有这些特性而且一般的研磨材料也须具有这些特性，另一方面来本文档来自技高网...

【技术保护点】
铈类研磨材料，它是以氧化铈为主成分的铈类研磨材料，其特征在于，构成研磨材料的研磨材料粒子被含有硅或硅无机化合物构成的硅成分和铝或铝无机化合物构成的铝成分中的至少一种的覆盖层覆盖。

【技术特征摘要】
JP 2001-3-9 065952/011.铈类研磨材料，它是以氧化铈为主成分的铈类研磨材料，其特征在于，构成研磨材料的研磨材料粒子被含有硅或硅无机化合物构成的硅成分和铝或铝无机化合物构成的铝成分中的至少一种的覆盖层覆盖。2.根据权利要求1所述的铈类研磨材料，其特征在于，覆盖层是硅成分和铝成分混合而成的单层。3.根据权利要求1所述的铈类研磨材料，其特征在于，覆盖层具有覆盖研磨材料粒子的第1覆盖层和覆盖该第1覆盖层的第2覆盖层的2层结构，该第1覆盖层由硅成分构成，该第2覆盖层由铝成分构成。4.根据权利要求1所述的铈类研磨材料，其特征在于，覆盖层具有覆盖研磨材料粒子的第1覆盖层和覆盖该第1覆盖层的第2覆盖层的2层结构，该第1覆盖层由铝成分构成，该第2覆盖层由硅成分构成。5.根据权利要求1-4中任一项所述的铈类研磨材料，其特征在于，覆盖层所含硅成分及铝成分的含量以硅元素及铝元素的总重量计，是相对于研磨材料粒子重量的0.01-5wt％。6.根据权利要求1-5中任一项所述的铈类研磨材料，其特征在于，研磨材料粒子的覆盖层的表面还具有由偶合剂所形成的偶合处理剂层。7.根据权利要求6所述的铈类研磨材料，其特征在于，形成偶合处理剂层的偶合剂含有硅烷偶合剂、铝偶合剂、氧化锆偶合剂、钛酸盐偶合剂中的至少一种。8.铈类研磨材料浆液，其特征在于，含有权利要求1-7中任一项所述的铈类研磨材料。9.权利要求1-5中任一项所述的铈类研磨材料的制造方法，其特征在于，包括使铈类研磨材料湿式分散于分散介质中制成浆液，在该浆液中添加含硅化合物或铝化合物中的至少一种的处理溶液，进行表面处理的工序。10.根据权利要求9所述的铈类研磨材料粒子的制造方...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊藤昭文，望月直义，牛山和哉，渡边广幸，
申请(专利权)人：三井金属鉱业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]