基板处理方法和基板处理装置制造方法及图纸

提供一种在把冲洗液供给到基板的表面而处理基板的场合，可以减少冲洗液（纯水）的使用量的方法。在基板（Ｗ）被向水洗处理部（１０）的处理腔（１２）内搬入的当初，从入口喷嘴（２０）与上部喷雾嘴（２２）向基板供给冲洗液，然后，在基板被从处理腔（１２）内搬出之前，从上部喷雾嘴（２２）与下部喷雾嘴（２４）向基板供给冲洗液。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及，把冲洗液供给到半导体晶片、液晶显示装置用玻璃基板、等离子体显示用玻璃基板、印制基板等的基板的表面而处理基板的基板处理方法和基板处理装置。
技术介绍
为在半导体晶片等的基板的表面上，利用光刻技术用铜、铝、银等金属材料形成布线图形，首先，在基板的表面上形成铜、铝、银等的金属膜，在该金属膜上形成抗蚀剂膜后，对基板施行曝光、显影和蚀刻各项处理而制作所希望的布线图形，然后从基板表面剥离去除残留在基板上的抗蚀剂的被膜。这一系列的处理当中，在从基板上去除抗蚀剂被膜的工序中，使用例如含胺的有机剥离液。然后，剥离处理后的基板，使用纯水进行冲洗处理后，进行干燥处理。这里，在使用含胺的有机剥离液剥离处理基板后，如果把纯水供给到附着有剥离液的基板的表面进行冲洗处理，则含胺剥离液与纯水混合生成强碱性溶液。结果，发生形成布线图形的金属膜被腐蚀或溶解这样的问题。因此，为了解决这种问题，提出了在剥离处理后的冲洗处理中，使用溶解了二氧化碳的纯水这样的方法。也就是说，提出了通过对附着有含胺剥离液的基板的表面大量地喷出溶解了二氧化碳的纯水，中和胺引起的碱性而防止生成强碱性的溶液这样的方法(例如，参照专本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理方法，在处理腔内一边搬送基板，一边从配置于前述处理腔的入口附近向基板的上面幕状地喷出冲洗液的入口喷嘴，以及，夹着基板搬送路在其上方和下方分别沿着基板搬送路连续设置并向基板的上面和下面喷出冲洗液的上部喷雾嘴和下部喷雾嘴，分别对基板供给冲洗液而处理基板，其特征在于，其中备有：（ａ）在基板被搬入前述处理腔内的当初，从前述入口喷嘴与前述上部喷雾嘴向基板供给冲洗液的工序，（ｂ）在前述（ａ）工序结束后，直到基板被从前述处理腔内搬出前，从前述上部喷嘴与前述下部喷 雾嘴向基板供给冲洗液的工序，（ｃ）在从基板被搬入处理腔内以后到经过规定时间前，废弃从前述处理腔的底部所排...

【技术特征摘要】
JP 2003-3-12 66299/031.一种基板处理方法，在处理腔内一边搬送基板，一边从配置于前述处理腔的入口附近向基板的上面幕状地喷出冲洗液的入口喷嘴，以及，夹着基板搬送路在其上方和下方分别沿着基板搬送路连续设置并向基板的上面和下面喷出冲洗液的上部喷雾嘴和下部喷雾嘴，分别对基板供给冲洗液而处理基板，其特征在于，其中备有(a)在基板被搬入前述处理腔内的当初，从前述入口喷嘴与前述上部喷雾嘴向基板供给冲洗液的工序，(b)在前述(a)工序结束后，直到基板被从前述处理腔内搬出前，从前述上部喷雾嘴与前述下部喷雾嘴向基板供给冲洗液的工序，(c)在从基板被搬入处理腔内以后到经过规定时间前，废弃从前述处理腔的底部所排出的使用过的冲洗液的工序，以及(d)在前述(c)工序结束后，直到基板被从处理腔内搬出前，向回收槽回收使用过的冲洗液而再使用的工序，向前述处理腔所搬送的基板，是剥离处理后的基板，并在上面附着有含胺剥离液，前述冲洗液是二氧化碳溶解于纯水中的冲洗液。2.一种基板处理方法，在处理腔内一边搬送基板，一边从配置于前述处理腔的入口附近并向基板的上面幕状地喷出冲洗液的入口喷嘴，以及，夹着基板搬送路在其上方和下方分别沿着基板搬送路连续设置并向基板的上面和下面喷出冲洗液的上部喷雾嘴和下部喷雾嘴，分别对基板供给冲洗液而处理基板，其特征在于，其中备有(a)在基板被搬入前述处理腔内的当初，从前述入口喷嘴与前述上部喷雾嘴向基板供给冲洗液的工序，(b)在前述(a)工序结束后，直到基板被从前述处理腔内搬出前，从前述上部喷雾嘴与前述下部喷雾嘴向基板供给冲洗液的工序，(c)连续地测量表示从前述处理腔的底部所排出的使用过的冲洗液中所含胺的量的指示值，直到所测量的指示值成为满足规定的条件前，废弃使用过的冲洗液的工序，以及(d)在前述所测量的指示值成为满足前述规定的条件并且直到基板被从处理腔内搬出前，向回收槽回收使用过的冲洗液而再使用的工序，向前述处理腔所搬送的基板，是剥离处理后的基板，并在上面附着有含胺剥离液，前述冲洗液是二氧化碳溶解于纯水中的冲洗液。3.权利要求2中所述的基板处理方法，其特征在于，前述指示值是pH值，前述(c)工序，是直到所测量的pH值成为规定值以下之前废弃使用过的冲洗液的工序，前述(d)工序，是在所测量的pH值成为规定值以下并且直到前述基板被从前述处理腔内搬出前，向回收槽回收使用过的冲洗液而再使用的工序。4.一种基板处理装置，备有进行基板的处理的处理腔，在处理腔内搬送基板的基板搬送机构，配置于前述处理腔的入口附近并向基板的上面幕状地喷出冲洗液的入口喷嘴，在前述处理腔内，夹着基板搬送路在其上方和下方分别沿着基板搬送路连续设置、并向基板的上面和下面喷出冲洗液的上部喷雾嘴和下部喷雾嘴，分别连通连接于前述入口喷嘴及前述上部喷雾嘴和下部喷雾嘴的第1至第3冲洗液供给配管，以及通过前述各冲洗液供给配管分别把冲洗液供给到前述入口喷嘴及前述上部喷雾嘴和下部喷雾嘴的冲洗液供给机构，其特征在于，其中还备有(a)分别介插于前述第1至第3冲洗液供给配管中的第1至第3开闭控制阀，(b)废弃从前述处理腔的底部所排出的使用过的冲洗液的排液用配管，(c)介插...

【专利技术属性】
技术研发人员：铃木聪，富藤幸雄，
申请(专利权)人：大日本屏影象制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]