用于制造半导体器件的烘烤系统技术方案

本发明专利技术提供了一种烘烤系统，包括：加热管，在其顶表面上装载了将被烘烤的晶片，其中填充了预定量的工作流体，在其侧面和顶面上形成提供工作流体的芯子；加热器，其用于通过加热工作流体来加热顶表面；辅助冷却系统，其包含液体冷却液，所述液体冷却液通过循环将与来自热管的工作流体交换；连接管，用于连接加热管和辅助冷却系统以使工作流体和液体冷却液循环；和控制单元，其安装在连接管上控制经由连接管的流体流动。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于制造半导体器件的烘烤系统，更具体地讲，涉及一种带有作为冷却单元的加热管的烘烤系统。
技术介绍
光刻工艺为在制造半导体器件中执行的一种工艺类型，其包括一把光刻胶层涂敷到晶片上的涂敷工艺、一在曝光之前烘烤涂敷的光刻胶层的前烘烤工艺和一在曝光之后烘烤光刻胶层的后曝光烘烤工艺，以形成预定图案的光刻胶层。在光刻工艺中，烘烤温度根据光刻胶层的类型和烘烤工艺的类型而变化。例如，可以根据环境在150℃或90℃的温度进行烘烤工艺。因此，广泛使用的烘烤设备包括一加热系统和一冷却系统，以便根据环境调节烘烤温度。图1至3是传统烘烤设备冷却系统(在下文中称作“传统冷却系统”)的剖面图。在韩国专利申请No.2001-0015371中公开了图1所示的传统冷却系统。在该冷却系统中，在板54中安装了冷却液流通的冷却液路径56和57，冷却液循环通过并冷却加热板51。在图1中，附图标记52和53分别是加热器和顶杆，附图标记55是冷却板。附图标记60和61是冷却液供应路径，62和63是开关阀，64至69分别是排放口、温度传感器、单元控制器、温度调节器、电磁阀和电源。而且，附图标记80是用于控制整个本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种烘烤系统，包括：一加热管，在其顶表面上装载了将被烘烤的晶片，其中填充了一预定量的工作流体，在其侧面和顶面上形成用于提供所述的工作流体的芯子；一加热器，其用于通过加热所述的工作流体来加热所述的顶表面；一辅助冷却系统，其包含将通过循环与来自所述的加热管的所述的工作流体交换的一液体冷却液；一连接管，其用于连接所述的加热管和所述的辅助冷却系统，以使所述的工作流体和所述的液体冷却液循环；和一控制单元，其安装在所述的连接管上，以控制通过所述的连接管的流体的流动。

【技术特征摘要】
KR 2003-4-8 21920/031.一种烘烤系统，包括一加热管，在其预表面上装载了将被烘烤的晶片，其中填充了一预定量的工作流体，在其侧面和顶面上形成用于提供所述的工作流体的芯子；一加热器，其用于通过加热所述的工作流体来加热所述的顶表面；一辅助冷却系统，其包含将通过循环与来自所述的加热管的所述的工作流体交换的一液体冷却液；一连接管，其用于连接所述的加热管和所述的辅助冷却系统，以使所述的工作流体和所述的液体冷却液循环；和一控制单元，其安装在所述的连接管上，以控制通过所述的连接管的流体的流动。2.根据权利要求1所述的系统，其中所述的连接管包括用于连接所述的加热管和所述的辅助冷却系统的一第一流动路径和一第二流动路径。3.根据权利要求1所述的系统，其中所述的连接管包括用于连接所述的加热管的一侧和所述的辅助冷却系统的一侧的一第一连接管和用于连接所述的加热管的另一侧和所述的辅助冷却系统的另一侧的一第二连接管。4.根据权利要求2所述的系统，其中所述的辅助冷却系统包括一冷却液存储槽，其用于存储所述的液体冷却液，在其内部形成一芯子，以完成一加热管功能；一冷却单元，其安装在所述的冷却液存储槽上，用于冷却所提供的工作流体；和一加压单元，其用于在所述的顶表面冷却期间对所述的液体冷却液加压。5.根据权利要求3所述的系统，其中所述的辅助冷却系统包括一第一冷却液存储槽，其用于存储所述的液体冷却液；和一第一冷却系统，其安装在用于冷却所提供的工作流体的第一冷却液...

【专利技术属性】
技术研发人员：李瞳雨，李晋成，金商甲，申东和，金兑圭，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]