改进的图形发生器反射镜结构制造技术

本发明专利技术涉及到一种用来在对辐射敏感的工件上产生诸如光掩模、显示屏或微光学器件之类的图形的装置。此装置包含辐射源和具有多个调制元件／象素的空间调制器。它还包含将驱动信号馈送到调制器的电子数据处理和发送系统、用来移动所述工件的精密机械系统、以及对工件的运动、到调制器的信号馈送和辐射的强度进行协调以便将分图形顺序产生的分图象缝合成所述图形的电子控制系统。根据本发明专利技术，驱动信号能够将调制元件设定到多于２的多个状态。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及到在诸如半导体器件和显示器的光掩模之类的光敏表面上印制精度极高的图形。还涉及到半导体器件图形、显示屏、集成光学器件以及电子互连结构的直接写入。而且能够应用于诸如保密印刷之类的其它类型的精密印刷。应该广义地理解印刷这个术语，它意味着光刻胶和照相乳胶的曝光以及借助于光或热激发的烧蚀或化学过程而在诸如干法印相纸之类的其它光敏媒质上的光作用。光不局限于可见光，而是包括从红外(IR)到远紫外UV的广阔范围的波长。特别重要的是从370nm(UV)，通过远紫外(DUV)、真空紫外(VUV)和超紫外(EUV)直至几毫微米波长的紫外范围。在本申请中，EUV被定义为从100nm以下直至有可能以光的形式来处理的辐射的范围。EUV的典型波长为13nm。IR被定义为780nm直至大约20微米。另一方面，本专利技术涉及到空间光调制器以及采用这种调制器的投影显示器和印相机的技术。确切地说，借助于模拟调制技术，改进了这种调制器的灰度性质、通过焦点的图象稳定性和图象均匀性以及数据处理。模拟调制的最重要的应用是用来在诸如具有地址网格亦即比空间光调制器象素产生的网格精细得多的用以规定图形中的边沿位置增本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用在光投影系统中的空间强度光调制方法，包括：提供独立可寻址的反射镜元件的规则网格，所述反射镜元件具有旋转动作，其中网格中的反射镜元件被排列成使得第一反射镜元件具有旋转动作基本上不同的相邻的第二反射镜元件；驱动反射镜元件以 形成图形；以及将来自反射镜元件的辐射投射到像平面上以再现该图形。

【技术特征摘要】
SE 1998-3-2 9800665-31.一种用在光投影系统中的空间强度光调制方法，包括提供独立可寻址的反射镜元件的规则网格，所述反射镜元件具有旋转动作，其中网格中的反射镜元件被排列成使得第一反射镜元件具有旋转动作基本上不同的相邻的第二反射镜元件；驱动反射镜元件以形成图形；以及将来自反射镜元件的辐射投射到像平面上以再现该图形。2.根据权利要求1的方法，其中所述网格是Cartesian网格。3.根据权利要求1的方法，其中所述反射镜元件通过施加模拟电压而变形。4.根据权利要求1的方法，其中所述网格具有多行的象素，并且一行中的反射镜元件按相同方向旋转，并且其中相邻行中的反射镜元件按相反的方向旋转。5.根据权利要求1的方法，其中所述网格由相同的四象素组组成，其中每一个组具有在四个不同方向旋转的象素，并且每一组中在各方向上的矢量和为零。6.根据权利要求1的方法，其中所述象素由相同的反射镜元件组组成，其中一组具有含四个不同旋转动作的反射镜元件，并且用于同等地驱动该组中的反射镜元件的方向矢量的矢量和基本上为零。7.根据权利要求1的方法，其中所述反射镜网格在集成电路的顶部形成。8.权利要求1的方法，其中所述投射步骤包括在被所述网格的反射镜元件反射之后，辐射穿过用于对辐射进行Fourier滤波的光学系统。9.一种用在从反射镜元件将辐射投射到像平面上以再现图形的光学投影系统中的空间强度光调制器，包括独立可寻址反射镜的规则网格，所述反射镜元件具有旋转动作，其中网格中的反射镜元件被排列成使得第一反射镜元件具有旋转动作基本上不同的相邻的第二反射镜元件。10.根据权利要求9的装置，其中所述网格是Cartesian网格。11.根据权利要求9的装置，还包括连接到可寻址反射镜元件的模拟电压源，以驱动反射镜单元。12.根据权利要求9的装置，其中所述网格由相同的四象素组组成，其中每一个组具有在四个不同方向旋转的象素，并且每一组中在各方向上的矢量和为零。13.根据权利要求9的装置，其中所述网格由相同的反射镜元件组组成，其中一组具有含四个不同旋转动作的反射镜元件，并且用于同等地驱动该组中的反射镜元件的方向矢量的矢量和基本上为零。14.一种用在光学投影系统中的空间强度光调制方法，包括以下步骤提供独立可寻址的反射镜元件的规则网格，所述反射镜元件具有旋转动作，其中网格中的反射镜元件被排列成使得对于一组同等地驱动的相邻反射镜元件方向矢量的矢量和基本上为零；驱动反射镜元件以形成图形；以及将来自反射镜元件的辐射投射到像平面上以再现该图形。15.根据权利要求14的方法，其中所述网格是Cartesian网格。16.根据权利要求14的方法，其中所述反射镜元件通过施加模拟电压而变形。17.根据权利要求14的方法，其中所述组具有2乘2象素的尺寸。18.根据权利要求14的方法，其中所述网格具有多行的象素，并且一行中的反射镜元件按相同方向旋转，并且其中相邻行中的反射镜元件按相反的方向旋转。19.根据权利要求14的方法，其中所述网格由相同的四象素组组成，其中每一个组具有按四个不同方向倾斜的象素，并且在每一组中各方向上的矢量和为零。20.根据权利要求14的方法，其中所述网格由相同的四象素组组成，其中每一个组具有在四个不同方向旋转的象素，并且每一组中在各方向上的矢量和为零。21.根据权利要求14的方法，其中所述反射镜网格在集成电路的顶部形成。22.根据权利要求14的方法，其中所述投射步骤包括在被所述网格的反射镜元件反射之后，辐射穿过用于对辐射进行Fourier滤波的光学系统。23.根据权利要求14的方法，其中所述组包括三个最近...

【专利技术属性】
技术研发人员：托布约姆桑德斯特罗姆，
申请(专利权)人：微激光系统公司，
类型：发明
国别省市：SE[瑞典]