【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术大体而言涉及一种孔径光阑组件,更具体的,涉及一种能够处理高功率激光束而不改变其形状或维数的孔径光阑。
技术介绍
使用普通的光源,由光源所发出的光通常是低能的。在光刻技术或者度量衡学中,准分子激光器可以用作光源,并且通常,从激光中输出的辐射穿过辐射束不规则性照明器,以使光强度在特殊区域(例如,SLM区域)上均匀分布。来自高功率激光束源的能量可能太高,以致为了设定光束形状而不能使用简单的阻塞(block)孔径装置。这样简单的阻断孔径可以被加热,并且鉴于此,可以改变其维数和/或外形。简单阻断孔径的另一个问题在于,由于来自高功率激光束的加热作用,孔径光阑的材料可能会开始融化并且再沉积在其中配置有孔径光阑的光学系统的其他部件上。其他现有技术的孔径光阑通常可以是包括若干孔径部件的巨型结构,这是一个问题。因此,需要一种用于能够处理从激光束中切断的功率的紧凑而有效的解决方案的技术。
技术实现思路
因此,本专利技术的目的是提供一种用于高功率激光束的孔径光阑组件,其克服或者至少降低了上述问题中的至少一个。其中,这个目的对应于通过用于电磁辐射系统的孔径光阑组件而获得的本专利技 ...
【技术保护点】
一种用于电磁辐射系统中的孔径光阑组件,其包括:-孔径光阑,由对所应用的电磁辐射至少部分透明的材料制成;-所述孔径光阑的至少一部分形成在孔径的边界,以使电磁辐射偏转到所述透明材料中。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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