【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及的是一种倒装芯片凸点的制备方法,特别是一种采用激光选择性回流制备倒装芯片凸点的方法,属于集成电路制造的电子封装领域。
技术介绍
倒装芯片技术允许面积排列的内连接,具有高I/O数、高密度、高电气性能以及高硅片利用率等优点;而且,当锡球回流时,焊锡内的表面张力将自我纠正芯片的微小不对准,这个自我对准特性带来非常高的制造装配合格率。目前采用的凸点制作技术主要有蒸镀焊料合金、电镀凸点技术、钉头法、模板印刷法、激光植球等。其中的电镀法最大的优点是可以做到比较小的节距(或者间距),其缺点是比较费时,而且不是所有的焊料都可进行电镀;模板印刷法的基本工艺为首先,将晶圆放置在托盘上,通过传送带传送至网板印刷机;接着,将焊膏涂敷到网板上之后,印刷机的视像系统就查找所有的参考点,在整个网板表面清洁地擦拭焊膏,将其注入所有的开孔中;最后,托盘和晶圆从印刷机中传送出来。模板印刷法不需要蒸镀所需的昂贵设备与精确的金属模板,也不需要电镀凸点技术中必需的厚膜光刻技术,可以同时实现晶片上所有引出端的凸点制作,该方法工艺简单、操作方便、适用于各种凸点焊料,被认为是一种低成本凸点制作 ...
【技术保护点】
一种倒装芯片凸点的选择性激光回流制备方法,其特征在于包括如下步骤:1)将金属模板(4)置于待制备凸点的芯片(5)之上,并调节金属模板(4)的位置与芯片(5)对准,然后将焊膏(6)填入金属模板(4)上的所有开孔内,保持金属模板(4)与 芯片(5)接触,金属模板(4)上的开孔中心距离最小为130μm;2)采用激光发生器(1)作为凸点制备的激光源,激光发生器(1)所产生的激光经过准束后,再经扫描器的镜片偏转、反射,聚焦到金属模板(4)的开孔内,激光光斑半径约15μm, 开孔内的焊膏在激光作用下回流成金属凸点(7),而开孔内未被激光扫描到的焊膏(6)依然 ...
【技术特征摘要】
1.一种倒装芯片凸点的选择性激光回流制备方法,其特征在于包括如下步骤1)将金属模板(4)置于待制备凸点的芯片(5)之上,并调节金属模板(4)的位置与芯片(5)对准,然后将焊膏(6)填入金属模板(4))上的所有开孔内,保持金属模板(4)与芯片(5)接触,金属模板(4)上的开孔中心距离最小为130μm;2)采用激光发生器(1)作为凸点制备的激光源,激光发生器(1)所产生的激光经过准...
【专利技术属性】
技术研发人员:叶献方,丁汉,熊振华,
申请(专利权)人:上海交通大学,
类型:发明
国别省市:31[中国|上海]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。