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用于湿处理盘形物体的装置及方法制造方法及图纸

技术编号:3196223 阅读:176 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种用于湿处理平板状基材的装置,其包括:一保持及旋转该基材的转盘(2);将液体分配于该基材的至少一表面(W)上的至少一个分配器(3);一液体收集器(4),其沿圆周方向围绕该转盘,用于收集旋转时该基材甩出的液体,并具有至少两个收集层(L1、L2)分开地收集在不同收集器(41、42)的液体;大体上沿旋转轴线(A)使该转盘(2)相对于液体收集器(4)移动的提升装置;至少两个排气层(E1、E2)用来分开地收集该液体收集器(4)内部(40)的气体,以及至少一排气影响装置(71),其与所述至少两个排气层中的至少一个排气层相关,用来选择性地改变所述至少两个排气层(E1、E2)的至少一个排气层中的气流状态。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于湿处理平板状基材,例如半导体晶片、平板显示器或光碟等的装置和方法。该装置包括一用来保持及旋转该基材的转盘,用于将液体分配到该基材的至少一表面上的至少一分配器,一沿圆周方向围绕该转盘的液体收集器,其用于收集旋转时由该基材甩出的液体。该液体收集器具有至少两个收集层。所述收集层中的每一收集层可分别收集不同收集器中的液体。该装置还包含提升装置及分开收集液体收集器内部的气体的至少两个排气层,所述提升装置用于大体上沿旋转轴线相对于液体收集器移动转盘。收集该液体收集器内部的气体可以防止当该基材甩出液体时产生水气的沉积。这种液体收集器通常称为“杯”,即使其并不一定有一封闭的底。该液体收集器的另一常用名称为“腔室”,即使其并非在所有侧面都封闭。
技术介绍
这种装置在该领域中是公知的,并在美国专利4903717中进行了详细的描述。该专利披露了每一收集层的每一收集器都连接于一共同的排气口。因此,每一收集层同时用作排放层。因此当该共同的排气口打开时,气体就会被各排放层由该液体收集器的内部吸出。在处理过程中,可能会出现该转盘平面下方的气体压力比周围气体压力更低的情况。因此,应该被甩进一特定收集层中的液体可能会被部分地吸入该选定的收集层下方的收集层中。如果液体X被送至应该收集不同的液体Y的错误的收集层中,则液体X将污染液体Y。在最坏的情况下,液体X与Y将会互相反应而产生危险或易燃的反应产物。如果液体Y被回收以便处理尽可能多的基材,则可能发生另一种不想要的结果。液体Y被液体X污染可能会导致其后所处理的基材的破坏。在这种情况下,另一种结果可能是该液体Y有效期限的显著减少。
技术实现思路
因此,本专利技术的一个目的是避免液体被部分地吸入实际上并非被选择来收集该液体的收集层中。本专利技术的另一个目的是减少必要的排气流。这不仅是因为单位时间的高排气体积会提高处理成本,而且也因为过高的排气将过多的液体吸入排气口中,这些会造成较高的液体消耗量及清洁所排放的空气较费力的缺点。本专利技术通过提供一种用于湿处理平板状基材的装置来实现这些目的,该装置包含一转盘,其用于保持及旋转该基材;至少一分配器,其用于将液体分配在该基材的至少一表面上;一液体收集器,其沿圆周方向围绕该转盘用来收集旋转时该基材甩出的液体,并且其具有至少两个收集层用来将液体分开地收集在不同的收集器中;提升装置,所述提升装置用于沿旋转轴线使转盘相对于液体收集器移动;至少两个排气层,用于分开地收集该液体收集器内部的气体;至少一排气影响装置,其是与所述至少两个排气层中的至少一个排气层相关,用来选择性地改变所述至少两个排气层中的至少一个排气层的气流状态。该分配器可配置为多种形式,例如使得液体喷射在基材上,或以连续无湍流的方式在该基材上流动。该分配器也可被设置成当处理时朝向基材的较低表面,因此朝向上方,或处理时朝向基材的较高表面,因此朝向下方。在这两种情况下,该分配器可以被设置成在处理过程中水平地移动。还有可能使用两种结构的分配器,这样就允许将液体同时使用在基材的两个表面上。例如,该转盘可为一真空吸盘,一伯努利吸盘,一仅抓住基材边缘(仅接触边缘式即ECO)的吸盘,或这些类型的组合。每一排气层都包含有向内开放的吸孔。所述吸孔可以是呈环状设置的多个喷嘴。另一可能性是形成一环形的缝隙状喷嘴。在任一种情况下,都能提供一环状集气室以便沿圆周方向使同一排气层中的气流状况相同,这是有利的。本专利技术的一个优点是能显著地减小排气体积,并可避免两相邻收集层之间的交叉污染。可选择地,该装置设有排气影响装置,这些排气影响装置是流量控制调节阀,例如蝶形阀。这样不仅能关闭一排气层,也能精确地减少每一排气层中的气流。在一较佳的装置中,该至少一排气影响装置是一隔离阀,由此使所述至少两个排气层中的一个封闭。这种构造允许更容易地进行控制。在另一实施例中,该装置包含控制装置,由此使所述至少一个排气影响装置能依据该转盘与液体收集器的相对位置来被控制。虽然其可通过将排气影响装置与提升装置直接连接而以机械方式来简单地完成,但这通常由一电脑来进行。在后者的情况下,该电脑会接收由提升装置处直接得来的与该转盘和液体收集器的相对位置有关的信息,或电子检测器可检出该位置。若至少一个排气层的吸孔连接于两收集层的其中之一,则该收集层同时会起排气层的作用。该气体由液体收集器的内部被吸入该收集层中,并在其中与液体分开。另一实施例具有所述至少两个排气层中的至少一个排气层,其设置在一收集层的上方或下方。在这种情况下,该收集层仅收集液体而不会抽吸气体。其优点是该气体和液体在被收集之后并不需要被分开。本专利技术的另一方面是一种在用来湿式处理平板状基材的装置中控制气流的方法。该装置包含一用于保持及旋转该基材的转盘,用于将液体分配于该基材的至少一表面上的至少一个分配器,一液体收集器,其沿圆周方向围绕该转盘,用于收集旋转时该基材甩出的液体。该液体收集器包含至少两个收集层来分开地收集液体。该装置还包括提升装置和至少两个排气层,所述提升装置用于大体上沿着旋转轴线使该转盘相对于液体收集器移动,所述至少两个排气层用于分开地收集该液体收集器内部的气体。该方法的特征在于,在所述排气层的至少两个排气层中可选择地产生不同的气流状态。在一种实施例中,该不同的气流状态是以一种方式来选择的,即使靠近该基材的上方和下方处的旋转基材能达到大体上相同的气体压力。附图说明本专利技术的进一步的详细内容和优点可从一优选实施例的详细说明中了解到。图1为本专利技术第一实施例的截面示意图。图2为本专利技术第二实施例的截面示意图。具体实施例方式图1示出一装置1,其包含一转盘2,该转盘2用于保持并旋转一基材W。该基材W具有一第一侧W1及一第二侧W2。该转盘连接于一齿轮马达单元5,从而可绕其轴线A来旋转。分配臂3用来将液体分配在该基材W的第一表面W1上。一杯状的液体收集器4沿圆周方向围绕着该转盘2。该液体收集器安装在一框架上(未示出)。设置提升装置H以改变该转盘相对于液体收集器的位置。因此该转盘2可被提升至三个收集层L1、L2、L3的每一个处。每个收集层L1、L2、L3都包括一环状槽41、42、43以便将甩出的液体收集在其中。一附加的挡泥板(未示出)可被用于各收集层中,以允许甩出液体以一锐角冲击到它,之后再被引导至该环状槽。各环状槽41、42、43连接于一导管81、82、83,被收集的液体可由导管排出。排出的液体可立即被重新使用而分配于基材上,或被当作废液来收集。各收集层L1、L2、L3用来收集不同的液体。L1用于收集冲洗液(例如去离子水[DI-water]),L2用于收集酸液,L3用于收集基液(basic liquid)。图中的虚线表示平面,该基材被放置这些平面上,用于将液体甩入不同的收集层中。在各收集层L1、L2、L3上方,将一排气层E1、E2、E3与该收集层大体上平行地设置。该排气层以虚线表示。各排气层包含多个向内开放、呈环状排列的吸孔21、22、23。多个吸孔21、22或23的各阵列分别连接于一分开的环状集气室11、12、13。该各集气室经由一管路61、62、63被抽气。在各管路61、62、63中由一阀71、72、73来控制。在所示实施例中,阀为蝶形阀。这将会带来优点,即该阀并不需要被完全关闭,但可几乎关本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种用于湿处理平板状基材(W)的装置(1),其包括:用于保持及旋转该基材的转盘(2);将液体分配在所述基材的至少一个表面(W)上的至少一个分配器(3);液体收集器(4),其沿圆周方向围绕着该转盘以收集旋转时由该基材甩出的液体,并具有至少两个收集层(L1、L2)来将液体分开地收集于不同的收集器(41、42)中;使转盘(2)大体上沿旋转轴线(A)相对于液体收集器(4)移动的提升装置(H);分开地收集该液体收集器(4)的内部(40)的气体的至少两个排气层(E1、E2);至少一个排气影响装置(71),其与所述至少两个排气层中的至少一个排气层相关,用来选择性地改变所述至少两个排气层(E1、E2)中的至少一个排气层中的气流状态。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】AT 2003-3-20 A 444/20031.一种用于湿处理平板状基材(W)的装置(1),其包括用于保持及旋转该基材的转盘(2);将液体分配在所述基材的至少一个表面(W)上的至少一个分配器(3);液体收集器(4),其沿圆周方向围绕着该转盘以收集旋转时由该基材甩出的液体,并具有至少两个收集层(L1、L2)来将液体分开地收集于不同的收集器(41、42)中;使转盘(2)大体上沿旋转轴线(A)相对于液体收集器(4)移动的提升装置(H);分开地收集该液体收集器(4)的内部(40)的气体的至少两个排气层(E1、E2);至少一个排气影响装置(71),其与所述至少两个排气层中的至少一个排气层相关,用来选择性地改变所述至少两个排气层(E1、E2)中的至少一个排气层中的气流状态。2.如权利要求1所述的装置,其中,所述至少一个排气影响装置(71)是一流量控制调节阀,例如一蝶形阀。3.如权利要求1所述的装置,其中,所述至少一个排气影响装置(71)为一隔离阀,由此可以使所述至少两个排气层的其中之一被关闭。4.如权...

【专利技术属性】
技术研发人员:KH霍恩瓦尔特
申请(专利权)人:SEZ股份公司
类型:发明
国别省市:AT[奥地利]

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