曝光装置及器件制造方法制造方法及图纸

液压静力衬垫（３２）和液压静力衬垫（３４）保持晶片（Ｗ）和其上安置该晶片的台（ＴＢ）。液压静力衬垫（３２）将轴承表面和晶片（Ｗ）之间在投影光学系统（ＰＬ）的光轴方向上的距离维持在预定值。另外，因为液压静力衬垫与静压气体轴承不同，液压静力衬垫利用在轴承表面和支撑物体（衬底）之间的不可压缩的流体（液体）的静压，所以轴承的刚度很高而且在轴承表面和衬底之间的距离维持稳定和恒定。此外，液体（如纯水）的粘滞度比气体（如空气）高，在振荡阻尼方面也比气体好。因此，在不一定必须布置焦点位置探测系统的情况下，可以实现转印到晶片（衬底）上的图案基本上没有散焦。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】曝光装置及器件制造方法
本专利技术涉及曝光装置和器件制造方法，更具体涉及一种用在制造电子器件如半导体器件、液晶显示器等的光刻工艺中的曝光装置以及利用该曝光装置的器件制造方法。
技术介绍
在用于制造电子器件如半导体器件(集成电路)、液晶显示器等的光刻工艺中使用投影曝光装置，该投影曝光装置把形成在掩模或分划板(以下统称“分划板”)上的图案的图像经投影光学系统转印到表面涂覆有抗蚀剂(感光剂)的感光衬底(以下称作“衬底”或“晶片”)如晶片、玻璃板等上。作为这类投影曝光装置，传统上频繁地使用步进-重复法(所谓的步进仪)的缩小投影曝光装置。但是，近来通过同步扫描分划板和晶片进行曝光的步进-扫描法(所谓的扫描步进仪)的投影曝光装置也受到了关注。当使用的曝光光的波长(以下也称作“曝光波长”)变短或者当投影光学系统的数值孔径(NA)变大时，曝光装置中配备的投影光学系统的分辨率变高。因此，由于集成电路越来越精细，所以投影曝光装置中采用的曝光波长每年在变短，连带着投影光学系统的数值孔径的增大。当前主要采用的曝光波长为KrF准分子激光的248nm，但实际使用中也采用ArF准分子激光的193nm的较短波长。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光装置，该曝光装置用能量束照射图案，并通过投影光学系统将所述图案转印到衬底上，所述曝光装置包括：安置衬底的台，该台能够在保持所述衬底的同时二维移动；和布置在所述投影光学系统的像平面侧上的液压静力轴承单元，所述单元包括至 少一个液压静力轴承，所述至少一个液压静力轴承在面对安置在所述台上的所述衬底的轴承表面和所述衬底之间的空间中供给液体，从而通过所述液体的静压维持在所述轴承表面和所述衬底的表面之间的距离。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2003-6-19 174259/20031.一种曝光装置，该曝光装置用能量束照射图案，并通过投影光学系统将所述图案转印到衬底上，所述曝光装置包括：安置衬底的台，该台能够在保持所述衬底的同时二维移动；和布置在所述投影光学系统的像平面侧上的液压静力轴承单元，所述单元包括至少一个液压静力轴承，所述至少一个液压静力轴承在面对安置在所述台上的所述衬底的轴承表面和所述衬底之间的空间中供给液体，从而通过所述液体的静压维持在所述轴承表面和所述衬底的表面之间的距离。2.如权利要求1所述的曝光装置，其中在所述投影光学系统和所述衬底的表面之间的空间中恒定地存在折射率高于空气的高折射率流体的状态下，所述能量束经过所述图案、所述投影光学系统和所述高折射率流体对所述衬底进行曝光。3.如权利要求2所述的曝光装置，其中所述高折射率流体是液体。4.如权利要求3所述的曝光装置，其中用于所述液压静力轴承的液体用作所述高折射率流体，以填充在所述投影光学系统和所述台上的所述衬底之间的空间。5.如权利要求1所述的曝光装置，其中所述至少一个液压静力轴承布置在所述投影光学系统的光轴方向上恒定地维持与所述投影光学系统的位置关系的状态下。6.如权利要求1所述的曝光装置，其中构成所述投影光学系统的最接近所述衬底的光学部件具有在光瞳面侧上的球形表面和在像平面侧上的平面表面。-->7.如权利要求6所述的曝光装置，其中构成所述投影光学系统的最接近所述衬底的所述光学部件的像平面侧上的所述平面表面基本上与所述液压静力轴承的所述轴承表面共面。8.如权利要求1所述的曝光装置，其中所述液压静力轴承单元向在所述至少一个液压静力轴承的所述轴承表面和所述衬底之间的空间供给所述液体，并且还利用负压把在所述轴承表面和所述衬底之间的所述空间中的液体排出到外部。9.如权利要求8所述的曝光装置，其中所述至少一个液压静力轴承布置在包围所述图案的在所述衬底上的投影区域的状态下。10.如权利要求9所述的曝光装置，其中所述至少一个液压静力轴承是单个轴承，该单个轴承具有的轴承表面包围所述图案的在所述衬底上的所述投影区域。11.如权利要求9所述的曝光装置，其中在所述液压静力轴承的所述轴承表面上多路形成多个环形槽，所述多个环形槽包含供液槽和排液槽中的至少各一个。12.如权利要求11所述的曝光装置，其中所述多个槽包括供液槽和如下排液槽中的至少各一个排液槽，所述排液槽分别形成在所述供液槽的外侧和内侧。13.如权利要求1所述的曝光装置，其中所述台具有表面位置能够移动的板，所述板布置在安置所述衬底的安置区域周围。-->14.如权利要求13所述的曝光装置，其中在所述台和所述板之间的空间中布置弹性件。15.如权利要求1所述的曝光装置，其中构成所述投影光学系统的最接近所述衬底的光学部件是具有第一部分元件和第二部分元件的分划透镜，其中第一部分元件的像平面侧是平面表面，第二部分元件通过形成在所述第一部分元件的外表面上的流体层与所述第一部分元件接合，所述第二部分元件具有位于所述投影光学系统的光瞳面侧上的曲面外表面。16.如权利要求15所述的曝光装置，其中所述第二部分元件固定在所述投影光学系统的镜筒上，并且所述第一部分元件由所述液压静力轴承保持在所述轴承表面和所述平面表面基本上彼此共面的状态下。17.如权利要求1所述的曝光装置，其中构成所述投影光学系统的最接近所述衬底的光学部件具有在像平面侧上的平面表面，并且被保持在所述轴承表面与所述平面表面基本上彼此共面的状态下。18.如权利要求9所述的曝光装置，所述曝光装置还包括：布置在所述液压静力轴承中的间隙传感器，该间隙传感器在至少一个测量点处测量在所述轴承和所述衬底的所述表面之间的距离，其中所述液压静力轴承单元根据所述间隙传感器的测量值调节用于排出所述液体的负压和用于供给所述液体的正压中的至少一个。19....

【专利技术属性】
技术研发人员：蛯原明光，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：JP[日本]