【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及经由投影光学系统和液体来曝光基片的曝光装置以及使用该曝光装置的器件制造方法。
技术介绍
以往，在用于制造半导体元件或液晶显示元件等的光刻工序中，使用经由投影光学系统将形成于掩模或者中间掩模(下面统称为“掩模”)的图案(下面也称之为“中间掩模图案”) 转印到涂布了抗蚀剂等的晶片或者玻璃平板等基片(下面适当地统称为“基片”)上的曝光装置。作为这样的曝光装置，主要使用所谓的光刻机等静态曝光型曝光装置或者所谓的扫描光刻机等扫描曝光型曝光装置。在这样的曝光装置中，需要以高的分辨力忠实地在基片上投影被形成于中间掩模的图案。为此，有人提出通过使用如下述公开专利文献1所披露的波面像差测量技术来调整投影光学系统，以便能够测量投影光学系统残存的诸像差，并获得期望的图像性能或光学特性的方法。另一方面，近年来，为了适应器件图案的更进一步的高集成化，人们希望投影光学系统也进一步的高分辨率化。使用的曝光波长越短、或投影光学系统的数值口径越大，则投影光学系统的分辨率就越高。为此，曝光装置所使用的曝光波长正在逐年地短波长化，投影光学系统的数值口径也在不断增大。而且，虽然现在的...
【技术保护点】
一种曝光装置，通过用液体充满载物台装置所保持的基片和投影光学系统之间，并经由上述投影光学系统和上述液体在上述基片上投影图案像来曝光上述基片，其特征在于：上述载物台装置具有用于设置可在该载物台装置上装卸的检测装置的设置部；和配 置成在上述设置部上设置了上述检测装置之际位于上述检测装置的检测光的光路上的透光性部件。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2003-10-31 371780/20031.一种曝光装置，通过用液体充满载物台装置所保持的基片和投影光学系统之间，并经由上述投影光学系统和上述液体在上述基片上投影图案像来曝光上述基片，其特征在于上述载物台装置具有用于设置可在该载物台装置上装卸的检测装置的设置部；和配置成在上述设置部上设置了上述检测装置之际位于上述检测装置的检测光的光路上的透光性部件。2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于上述设置部以及上述透光性部件被设置在上述载物台装置的周缘部。3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于上述透光性部件具有使上述液体停留在该透光性部件的上面的凹凸部。4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于上述透光性部件的上面具有疏液性。5.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于上述载物台装置的上面和上述透光性部件的上面在上述投影光学系统的光轴方向上被设定在大致相同的位置。6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于上述透光性部件的上面在上述投影光学系统的光轴方向上被设定在与上述载物台装置所保持的基片的上面大致相同的位置。7.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于上述透光性部件是构成上述检测装置的光学元件的一部分。8.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于上述透光性部件包含透镜。9.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于上述检测装置在上述透光性部件的上面充满了液体的状态下进行检测。10.一种曝光装置，利用曝光光在上述基片上形成规定的图案，其特征在于，包括可相对于上述曝光光的光轴进行移动的载物台装置；被设置于上述载物台装置、且其上部被供给液体的透光性部件；在进行检测时可配置在上述透光性部件的下部的检测装置。11.根据权利要求10所述的曝光装置，其特征在于上述检测装置可在上述载物台装置进行装卸。12.根据权利要求10所述的曝光装置，其特征...
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