图形曝光方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术的目的是提供一种通过方向性高的照明光可高效进行无掩模曝光的无掩模曝光方法及无掩模曝光装置，同时，提供一种可使阻焊膜的曝光效率提高的无掩模曝光方法及无掩模曝光装置。设有出射波长为４０５ｎｍ的激光（１ａ）的蓝紫半导体激光器（１２Ａ）和出射波长为３７５ｎｍ的激光（１ｂ）的紫外线半导体激光器（１２Ｂ），使激光（１ａ）、（１ｂ）的光轴同轴，照射到基板（８）上。这时，用激光（１ａ）、（１ｂ）多次照射基板（８）上的同一地点，使激光（１ａ）、（１ｂ）的强度偏差平均化。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及使激光器在要曝光的基板上聚光扫描而描绘图形的图形曝光方法及图形曝光装置，特别涉及将从多个激光器输出的多束激光照射到基本上，同时曝光多个地点的图形曝光方法及装置。
技术介绍
为了在印刷基板、液晶显示的TFT基板、滤色器基板或等离子显示等的基板(下称基板)上曝光图形，一直以来是，制作成为图形底板的掩模，通过使用该掩模的掩模曝光装置来曝光基板。但是，在基板尺寸近年来逐渐增大的同时，基板的设计、制作所要求的时间逐渐变短。而且，在设计基板时，由于使设计失误为零非常困难，所以，因重新设计必须再次制作掩模的情况多。此外，根据基板种类，多品种数量少生产的情况多，对于多数的品种，屡次制作该掩模导致了成本提高和交货期延迟。因此，强烈需要不需掩模的无掩模曝光。作为进行无掩模曝光的第一方法，有使用液晶或DMD(Digital MirrorDevice)等二维空间调制器来产生二维图形，用投影镜头将其曝光于基板上的方法(专利文献1特开平11-320968号公报)。根据该方法，可进行比较细微的图形的描绘。此外，作为第二方法，有在使用输出大的激光器和多角棱镜来扫描激光的同时使用EO调制器或AO调制本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种图形曝光方法，使从光源出射的出射光和工件相对移动，通过上述出射光使上述工件的规定位置曝光，其特征在于，准备出射光的波长为不同的多个光源，通过打开关闭上述光源，将波长为不同的多束光照射到上述工件的同一点上。

【技术特征摘要】
JP 2005-3-24 2005-0872401.一种图形曝光方法，使从光源出射的出射光和工件相对移动，通过上述出射光使上述工件的规定位置曝光，其特征在于，准备出射光的波长为不同的多个光源，通过打开关闭上述光源，将波长为不同的多束光照射到上述工件的同一点上。2.根据权利要求1所述的图形曝光方法，其特征在于，上述光源是半导体激光器。3.根据权利要求2所述的图形曝光方法，其特征在于，通过四个或以上的不同的半导体激光器曝光上述工件的同...

【专利技术属性】
技术研发人员：押田良忠，内藤芳达，铃木光弘，山口刚，丸山重信，
申请(专利权)人：日立比亚机械股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]