【技术实现步骤摘要】
半导体集成电路及其布局方法、以及标准单元
本专利技术涉及以标准单元(standard cell)方式实现的半导体集成电路及其布局方法。
技术介绍
近年来,人们对于多媒体用半导体集成电路等,谋求高速且低耗电量,并谋求电路面积的减小。为了使半导体集成电路高速运行,存在使晶体管的阈值电压降低的方法。越是降低阈值电压,晶体管的导通电流就越增加,就越能驱动更大的负载,结果,各个晶体管、半导体集成电路整体将高速运行。但是,低阈值电压导致漏电流的增加,成为使耗电量降低的障碍。作为降低漏电流的方法,有在不需要使其高速运行时主要利用电路结构动态地提高阈值电压从而降低漏电流的方法,和在不使用电路时切断对晶体管的供给电源的方法等。但是,对于断续地运行的元件、和寄存器等要保持存储内容的存储元件,是无法切断电源的。因此,存在对每个NAND(与非门)电路等标准单元附加切断漏电流的开关的方法。即,与通常的逻辑电路等以串联的方式插入高阈值电压的开关用晶体管。这样,能够保持接通半导体集成电路的电源的状态,并对每个标准单元有选择地控制是否切断漏电流,因此,能够谋求有效地降低耗电量(例如参照《与漏电流较量》,日经电子学,日经BP社,2004年4月26日,第872号,pp.110-119)。基于标准单元方式的半导体集成电路,是将标准单元配置在半导体基板上,按照规格进行标准单元间的布线而得到的半导体集成电路,能够在短时间内构成功能不同的各种各样的电路。对于具有开关的标准单元,以2输入NAND单元为例进行说明。-->图3是具有开关的2输入NAND单元的门级电路图。图4是图3的2输入NAND单元的晶 ...
【技术保护点】
一种半导体集成电路,其特征在于:包括第1标准单元,具有第1逻辑电路和控制对上述第1逻辑电路的电流供给的第1开关;第2标准单元,具有第2逻辑电路和控制对上述第2逻辑电路的电流供给的第2开关;其中,上述第1开关,作为上述 第2开关被上述第2标准单元所共用。
【技术特征摘要】
JP 2004-12-2 350343/20041.一种半导体集成电路,其特征在于:包括第1标准单元,具有第1逻辑电路和控制对上述第1逻辑电路的电流供给的第1开关;第2标准单元,具有第2逻辑电路和控制对上述第2逻辑电路的电流供给的第2开关;其中,上述第1开关,作为上述第2开关被上述第2标准单元所共用。2.根据权利要求1所述的半导体集成电路,其特征在于:上述第1开关位于上述第2逻辑电路一侧。3.根据权利要求1所述的半导体集成电路,其特征在于:上述第1开关是晶体管。4.根据权利要求3所述的半导体集成电路,其特征在于:构成上述第1开关的晶体管的栅极宽度,大于等于构成上述第1标准单元和第2标准单元的其他晶体管的栅极宽度。5.根据权利要求3所述的半导体集成电路,其特征在于:构成上述第1开关的晶体管的源区,被作为上述第2开关的晶体管所共用。6.根据权利要求3所述的半导体集成电路,其特征在于:构成上述第1开关的晶体管的栅电极,被作为上述第2开关的晶体管所共用。7.根据权利要求3所述的半导体集成电路,其特征在于:构成上述第1开关的晶体管的栅电极,具有与上述第1标准单元和上述第2标准单元之间的边界线正交的方向上的直线部分。8.根据权利要求3所述的半导体集成电路,其特征在于:构成上述第1开关的晶体管的漏区,被作为上述第2开关的晶体管所共用。9.根据权利要求3所述的半导体集成电路,其特征在于:-->构成上述第1开关的晶体管的阈值电压,高于构成上述第1标准单元和第2标准单元的其他晶体管的阈值电压。10.一种半导体集成电路,其特征在于:包括第1标准单元,具有第1逻辑电路和控制对上述第1逻辑电路的电流供给的第1晶体管;第2标准单元,具有第2逻辑电路和控制对上述第2逻辑电路的电流供给的第2晶体管;其中,上述第1晶体管的源区作为上述第2晶体管的源区被上述第2标准单元所共用,上述第1晶体管的栅电极作为上述第2晶体管的栅电极被上述第2标准单元所共用。11.根据权利要求10所述的半导体集成电路,其特征在于:上述第1晶体管的栅电极,具有与上述第1标准单元和上述第2标准单元之间的边界线正交的方向上的直线部分。12.根据权利要求10所述的半导体集成电路,其特征在于:上述第1晶体管的阈值电压,高于构成上述第1标准单元和第2标准单元的其他晶体管的阈值电压。13.一种标准单元,其特征在于:包括逻辑电路;晶体管,控制对上述逻辑电路的电流供给;其中,上述晶体管的栅电极,具有与构成上述逻辑电路的晶体管的栅电极正交的方向上的直线部分。14.根据权利要求13所述的标准单元,其特征在于:上述晶体管的栅电极,仅具有与构成上述逻辑电路的晶体管的栅电极正交的方向上的直线部分。15.一种半导体集成电路的布局方法,其特征在于,包括:对具...
【专利技术属性】
技术研发人员:农添三资,矢野纯一,
申请(专利权)人:松下电器产业株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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