基板处理设备制造技术

一种基板处理设备（１）具有第一抛光单元（４００Ａ）和第二抛光单元（４００Ｂ），用于抛光基板的外围部分。两个抛光单元（４００Ａ，４００Ｂ）中的每一个都包括用于抛光基板外围部分的斜边抛光装置（４５０Ａ，４５０Ｂ）和用于抛光基板凹口的凹口抛光装置（４８０Ａ，４８０Ｂ）。基板处理设备（１）具有在两个抛光单元（４００Ａ，４００Ｂ）之间形成的维护空间（７）。两个抛光单元（４００Ａ，４００Ｂ）中的斜边抛光装置（４５０Ａ，４５０Ｂ）面对维护空间（７），以从维护空间（７）触及。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种基板处理设备，包括：至少两个抛光单元，所述两个抛光单元中的每一个都包括选自斜边抛光装置和凹口抛光装置中的至少一个，用于抛光基板外围部分；和维护空间，形成于所述两个抛光单元之间；其中，在所述两个抛光单元每一个中的所 述选自斜边抛光装置和凹口抛光装置中的至少一个面对所述维护空间，以适于被从所述维护空间触及。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：高桥圭瑞，白樫充彦，伊藤贤也，井上和之，山口健二，関正也，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：JP[日本]