【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术关于基板清洗装置、基板处理装置、及基板清洗装置的维护方法。本申请根据2021年9月10日于日本提出申请的日本特愿2021-147973号主张优先权，并将其内容援用至此处。
技术介绍
1、下述专利文献1中揭示了一种基板清洗装置，其适用于清洗半导体晶片、玻璃基板、液晶面板等要求高洁净度的基板。此基板清洗装置具备在中空轴体的外表面安装由海绵、刷具等构成的清洗构件而构成的清洗具(辊清洗构件)。
2、此清洗具通过框架支承该清洗具的两端。在框架的一端侧设有旋转保持部，该旋转保持部具备马达、将马达的旋转传递至清洗具的传动轴及支承传动轴的轴承。由此，使清洗具随着马达的旋转而旋转，能够由清洗具的周面对基板进行擦洗。
3、现有技术文献
4、专利文献
5、专利文献1：日本特开2000-301079号公报
6、专利技术要解决的课题
7、此外，上述以往技术的基板清洗装置中，一边对基板供给清洗液一边进行擦洗，为了避免清洗液沿着传动轴渗入马达侧，有时会在传动轴的周围设置接触式密封材。然而，若设置接触式密封材，则会因为与传动轴的接触而成为马达转矩的阻力。又，由接触式密封材所产生的磨损粉(微尘)会附着于基板等而成为缺陷来源。
技术实现思路
1、本专利技术是鉴于上述问题点而完成的，其目的在于降低辊清洗构件的旋转阻力，并抑制微尘的产生。
2、[解决课题的手段]
3、本专利技术的一方式的基板清洗装置具备：辊清洗构件，
4、上述基板清洗装置中，所述气体供给孔从轴向上包含所述多个凸部的形成区域的中央部的位置供给所述压缩气体。
5、上述基板清洗装置中，在所述固定部的内周面上，所述气体供给孔在与所述旋转部的周面的切线方向平行的方向上开口。
6、上述基板清洗装置中，所述气体供给孔朝向所述旋转部的中心轴开口。
7、上述基板清洗装置中，在所述固定部的内周面上，在与所述气体供给孔相反的一侧形成有将所述压缩气体排出的气体排气孔。
8、上述基板清洗装置中，在所述固定部的内周面上，在与所述气体供给孔的同一侧形成有将所述压缩气体排出的气体排气孔。
9、上述基板清洗装置中，所述固定部也可以具备：第一壁部，该第一壁部相比于所述多个凸部在轴向上配置于所述辊清洗构件侧，并且相比于所述多个凸部之中配置于所述辊清洗构件侧的端部的凸部的前端进一步往径向内侧延伸，且与所述旋转部的周面隔着间隙相对；及第二壁部，该第二壁部相比于所述第一壁部在轴向上配置于所述辊清洗构件侧，从轴向观察，覆盖所述第一壁部与所述旋转部的周面的间隙。
10、上述基板清洗装置中，在所述固定部的内周面上，在所述第一壁部与所述第二壁部之间形成有排水孔。
11、本专利技术的一方式的基板处理装置具备：研磨部，该研磨部研磨基板；及清洗部，该清洗部对在所述研磨部中研磨后的所述基板进行清洗，所述清洗部具备如权利要求1至8中任一项所述的基板清洗装置。
12、本专利技术的一方式的基板清洗装置的维护方法，该基板清洗装置具备：辊清洗构件，该辊清洗构件擦洗基板；及旋转保持部，该旋转保持部保持所述辊清洗构件的轴向上的端部，
13、所述旋转保持部具备：轴部，该轴部连接于所述辊清洗构件的轴向上的端部；壳体部，该壳体部包围所述轴部；轴承部，该轴承部配置于所述壳体部的内部，且对所述轴部进行轴支承；及非接触密封部，该非接触密封部配置于所述轴承部与所述辊清洗构件之间，且将所述轴部与所述壳体部的间隙密封，所述基板清洗装置的维护方法的特征在于，所述非接触密封部具备：旋转部，该旋转部安装于所述轴部，且在周面上在轴向上隔着间隔形成有多个凸部；及固定部，该固定部安装于所述壳体部，并且该固定部包围所述多个凸部，且在包围所述多个凸部的内周面形成有气体供给孔，该气体供给孔从比所述多个凸部之中配置于轴向两端部的凸部在轴向上靠内侧的位置供给压缩气体，在将所述固定部从所述壳体部拆下后，在拆下所述固定部的部位安装有包围所述旋转部的罩盖状态下进行维护。
14、专利技术效果
15、根据上述本专利技术的一方式，能够减少辊清洗构件的旋转阻力，抑制微尘的产生。
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1.一种基板清洗装置，其特征在于，具备：
2.如权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，
3.如权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于，
4.如权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于，
5.如权利要求1至4中任一项所述的基板清洗装置，其特征在于，
6.如权利要求1至4中任一项所述的基板清洗装置，其特征在于，
7.如权利要求1至6中任一项所述的基板清洗装置，其特征在于，
8.如权利要求7所述的基板清洗装置，其特征在于，
9.一种基板处理装置，其特征在于，具备：
10.一种基板清洗装置的维护方法，该基板清洗装置具备：
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种基板清洗装置，其特征在于，具备：
2.如权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，
3.如权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于，
4.如权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于，
5.如权利要求1至4中任一项所述的基板清洗装置，其特征在于，
【专利技术属性】
技术研发人员：末政秀一，宫崎充，高桥正三，井上拓也，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：
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