【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种提高芯片亮度的方法,倒装焊芯片(8)的电极与硅热沉芯片(9)贴合,其特征在于,在倒装焊芯片(8)的蓝宝石衬底(10)的表面(11)上制作光子晶体,其方法为:(1)首先在倒装焊芯片(8)的蓝宝石衬底(10)的表面(11)上贴一层0.2微米-0.8微米厚的保护膜层;(2)然后在保护膜层上涂布光刻胶,用激光曝光机对光刻胶曝光;(3)在光刻胶的保护下通过电感偶合式反应离子刻蚀机刻蚀保护膜层,达到在蓝宝石衬底的表面形成光子晶体结构(13),即圆柱形小岛的间距a为0.4微米-1.2微米,圆柱体的高b为0.2微米-0.8微米,圆柱体的直径c为0.2微米-1.0微米;或晶体结构(14),即圆柱形洞的间距f为0.4微米-1.2微米,圆柱形洞的深度e为0.2微米-0.8微米,圆柱形洞的直径d为0.2微米-1.0微米。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:冯雅清,叶国光,梁伏波,朱思远,黄力伟,
申请(专利权)人:上海蓝宝光电材料有限公司,
类型:发明
国别省市:31[中国|上海]
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