形成单元标识的方法、具有单元标识的显示基板和设备技术

一种单元标识形成方法，包括：在基板上形成金属层；在金属层上涂覆光致抗蚀材料，以形成光致抗蚀膜；通过包括与单元标识图案相对应的阻光图案的掩模来对光致抗蚀膜进行曝光；对曝光的光致抗蚀膜进行显影；使用显影的光致抗蚀膜来蚀刻金属层，以形成包括单元标识图案的金属图案；以及将激光束照射到单元标识图案的符号上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种形成单元标识的方法。更具体地，本专利技术涉及一 种形成单元标识的方法、具有该单元标识的显示基板和具有该单元标 识的显示设备。
技术介绍
液晶显示器(LCD)设备具有单元标识，单元标识可用于跟踪LCD 面板的历史。需要单元标识来分析LCD面板的缺陷，并针对售后服务进1亍足艮^。典型地，在大屏幕LCD面板的母板上使用2至8个单元标识。在LCD 面板的生产过程中，与曝光光致抗蚀膜的时间相比，单元标识的形成 时间较短。小屏幕LCD面板的母板上的单元标识的数目范围可以在几十 至几百内，因此LCD面板的产距时间(tack time)增加了单元标识的 形成时间。随着母板尺寸增大，单元标识的形成时间也增加。为了减少产距时间，省略单元标识的形成。在省略单元标识的形 成时，不容易分析LCD面板的缺陷，并且难以为了售后服务而跟踪LCD 面板的历史。因此，需要一种能够提高生产率的单元标识形成方法。
技术实现思路
根据本专利技术实施例的单元标识形成方法包括在基板上形成金属 层；在金属层上涂覆光致抗蚀材料，以形成光致抗蚀膜；通过包括与 单元标识图案相对应的阻光图案的掩模来对光致抗蚀膜进行曝光；对 曝光的光致抗蚀膜进行显影；使用显影的光致抗蚀膜来蚀刻金属层， 以形成包括单元标识图案的金属图案；以及将激光束照射到单元标识 图案的符号上。根据本专利技术另 一实施例的单元标识形成方法包括在基板上涂覆 光致抗蚀材料，以形成光致抗蚀膜；通过包括与单元标识图案相对应 的刻线的掩模来对光致抗蚀膜进行曝光；对曝光的光致抗蚀膜进行显 影；在显影的光致抗蚀膜上沉积金属层；除去显影的光致抗蚀膜，以 形成包括单元标识图案的金属图案；以及将激光束照射到单元标识图 案的符号上。根据本专利技术另一实施例的显示基板包括基底基板和单元标识。基 底基板具有显示区域和外围区域，显示区域用于显示图像。单元标识 形成在外围区域中，并包括单元阵列，包括多个符号；以及标记， 标记在单元阵列的符号中的至少一个上。根据本专利技术另一实施例的显示设备包括基底基板、单元标识、 相对基板和液晶层。基底基板具有显示区域和外围区域，显示区域用 于显示图像。单元标识形成在外围区域中，并包括单元阵列，包括 多个符号；以及标记，标记在单元阵列的符号中的至少一个上。相对 基板与显示基板组合。液晶层置于基底基板和相对基板之间。附图说明通过参考附图来详细描述本专利技术的示例实施例，本专利技术将变得显 而易见，附图中图l是示出了根据本专利技术一个示范性实施例的单元标识的平面图2是示出了图1所示的单元标识的放大平面图； 图3A是示出了根据本专利技术另一示范性实施例的包括单元标识图案的显示基板的平面图3B是示出了包括形成在图3A所示的单元标识图案上的标记的显示基板的平面图4是示出了根据本专利技术一个示范性实施例的显示设备的截面图5至7是示出了图4所示的单元标识的形成方法的截面图；以及 图8至10是示出了根据本专利技术另一个示范性实施例的单元标识形成方法的截面图。 具体实施例方式下面参考附图来更全面地描述本专利技术，附图中示出了本专利技术的实 施例。然而，本专利技术可以以多种不同的形式来体现，并且不应该理解 为受限于这里所给出的实施例。相反，提供实施例以使本公开彻底且 完善，并且向本领域技术人员完全传达本专利技术的范围。在附图中，为 了清楚起见，可放大层和区域的大小以及相对大小。下面，参考附图来详细描述本专利技术。图1是示出了根据本专利技术示范性实施例的单元标识的平面图。图2是示出了图l所示的单元标识的放大平面图。参考图1和2，在基板上限定显示区域80和外围区域85。图像显 示在显示区域80中。外围区域85环绕显示区域80。单元标识20和30位于外围区域85中，并且包括与生产线21、 商标23、生产年份31、生产月份33、生产件数35、单元在母板上的 位置27等有关的信息。生产线21、商标23以及单元在母板上的位置 27的信息是在生产过程期伺不会改变的稳定部分20。可通过自动化的 光刻工艺来形成稳定部分20。生产年份31、生产月份33以及生产件数35的信息是在生产过程 期间改变的暂态部分30，例如在不同的基板中是不同的。在图1和2 中，在每个生产过程期间，由激光器50形成暂态部分30。图3A是示出了根据本专利技术另一示范性实施例的包括单元标识图 案的显示基板的平面图。图3B是示出了包括形成在图3A所示的单元 标识图案上的标记的显示基板的平面图。参考图3A和图3B，在基板上限定显示区域180和外围区域185。 图像显示在显示区域180中。外围区域185围绕显示区域180。形成在外围区域185中的单元标识201包括单元标识图案100和 标记在单元标识图案100上的标记200。单元标识图案100可以是稳定部分120或暂态部分110。稳定部 分120在生产过程期间不会改变。暂态部分110在每个生产过程期间 由标记200进行标记。稳定部分120显示与生产线121、商标123、单元在母板中的位置 127 (未示出)等有关的信息。暂态部分110包括多个单元标识阵列101、 103和105。例如，暂 态部分110可包括与生产年份相对应的单元标识阵列101、与生产月 份相对应的单元标识阵列103、与生产件数相对应的单元标识阵列105 等。每个单元标识阵列101、 103和105包括单元标识的每个部分所需 的值的总范围。例如，对应于生产年份的单元标识阵列101可包括多 个符号，例如涵盖所有可能的生产年份的数字。在另一示例中，对应 于生产月份的单元标识阵列103包括对应于十二个月的十二个字符。在相应的生产过程期间，将产生自激光器150的激光束照射到每 个单元标识阵列101、 103和105的符号的相应一个上，从而在每个单 元标识阵列101、 103和105的相应符号上形成标记200。因此，形成 了包括单元标识图案IOO和标记200的单元标识201。例如，单元标 识201可对应于6-G-001-A-13符号。单元标识图案100可形成在基板中的作为非显示区域的外围区域 185中。单元标识图案100可通过各种金属图案化方法来形成。单元 标识图案100可由显示区域180中与栅极金属图案相同的层形成。单 元标识图案100可由显示区域180中与数据金属图案相同的层形成。 单元标识图案100可通过多种方法由多个层形成。在图l和2中，稳定部分20可通过用于形成栅极金属层的光刻工 艺被同时形成。然而，可在每个生产工艺期间使用激光器50来形成暂 态部分30的所有符号，因此会增加生产时间。在图3A和3B中，例如，通过使用例如每个单元标识阵列101、 103和105上的点，对标记200进行标记，来形成单元标识201的暂 态部分110。因此，可减少生产时间。图4是示出了根据本专利技术一个示范性实施例的显示设备的截面图0参考图4，显示设备包括基底基板400、单元标识201、相对基板 300、密封剂510和液晶层500。图4的单元标识201与图3A和3B的基本相同。齿此，将相同的附图标记用于指代与图3A和3B所述相同或类似的部分，并省略关于这些组件的进一步解释。像素阵列410形成在基底基板400的像素区域180中。像素阵列410包括多个薄膜晶体管(TFT)(未示出)、与TFT电连接的栅极和数据线(未示出)、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种单元标识形成方法，包括：在基板上沉积金属以形成金属层；在金属层上涂覆光致抗蚀材料，以形成光致抗蚀膜；通过包括与单元标识图案相对应的阻光图案的掩模来对光致抗蚀膜进行曝光；对曝光的光致抗蚀膜进行显影；使用显影的光致抗蚀膜来蚀刻金属层，以形成包括单元标识图案的金属图案；以及将激光束照射到单元标识图案的符号上。

【技术特征摘要】
KR 2006-11-10 2006-01108371.一种单元标识形成方法，包括在基板上沉积金属以形成金属层；在金属层上涂覆光致抗蚀材料，以形成光致抗蚀膜；通过包括与单元标识图案相对应的阻光图案的掩模来对光致抗蚀膜进行曝光；对曝光的光致抗蚀膜进行显影；使用显影的光致抗蚀膜来蚀刻金属层，以形成包括单元标识图案的金属图案；以及将激光束照射到单元标识图案的符号上。2. 根据权利要求l所述的方法，还包括去除光致抗蚀膜。3. 根据权利要求l所述的方法，其中，单元标识图案包括单元阵列。4. 根据权利要求1所述的方法，其中，单元标识图案包括多个单 元阵列，并且单元阵列分别与生产年份、生产月份以及生产件数相对 应。5. —种单元标识形成方法，包括 在基板上涂覆光致抗蚀材料，以形成光致抗蚀膜； 通过包括与单元标识图案相对应的刻线的掩模来对光致抗蚀膜进行曝光；对曝光的光致抗蚀膜进行显影； 在显影的光致抗蚀膜上沉积金属以形成金属层； 除去显影的光致抗蚀膜，以形成包括单元标识图...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑基勳，梁容豪，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]