液体供给单元和供给方法、处理基板的设备及处理方法技术

本发明专利技术提供一种液体供给单元和供给方法、处理基板的设备及处理方法。在液体供给单元中，通过使用提供到缓冲容器的气体压缓冲容器中存在的液体，液体从缓冲容器提供到外部单元。提供压强测量部件来测量缓冲容器内的压强，在缓冲容器的再填充期间当缓冲容器内的压强等于或大于预设参考压强时，气体通过排出管线从缓冲容器排出。

【技术实现步骤摘要】

这里公开的本专利技术的实施例涉及处理基板的装置和方法，更特别地，涉及通过用气体压緩沖容器而从緩冲容器提供化学品(chemical)的装置和方 法。
技术介绍
通常，半导体器件的制造包括许多工艺，例如离子注入、沉积、光刻和 蚀刻。在沉积工艺中，在晶片上沉积薄层。特别地，当具有比氮化硅层更大 的介电常数的绝缘金属氧化物层沉积在基板上时，可以采用溅射法。然而， 当采用賊射法时，难以形成精细图案，溅射工艺期间产生的许多颗粒会损坏 下面的基板。因此，在近来的方法中，使用有机金属化合物作为绝缘金属氧 化物层的前体通过化学气相沉积(CVD)形成绝缘金属氧化物层。在用于通过CVD沉积有机金属层的装置中，液态前体化学品储存在緩当储存在緩沖容器中的全部前体化学品被消耗时，沉积装置的操作暂停 以更换该緩冲容器或再填充该緩冲容器。在前一情况下，由于在緩沖容器的 更换期间沉积装置的操作暂停，所以沉积装置的开工率下降。在后一情况下，緩冲容器中能再填充的化学品的量随着再填充次数的增加而减小，因为緩冲 容器中的压强由于给气体加压而与再填充的次数成比例地增大。因此，随着再填充次数的增加，緩沖容器不得不更频繁地被再填充，这会由于缓冲容器 的高压强而花费大量时间来保持从緩沖容器到处理单元的恒定水平的化学 品供给速度。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种用于有效供给化学品的液体供给单元和液体 供给方法、用该液体供给单元处理基板的设备、以及处理基板的方法。本专利技术的实施例还提供一种用于向緩沖容器有效再填充化学品而不降低开工率的液体供给单元和方法、用该液体供给单元处理基板的设备、以及 处理基板的方法。本专利技术实施例的其它优点、目的和特征将通过下面的说明而对本领域技 术人员变得显然，或者可以通过实践本专利技术而领悟。在一个方面，液体供给单元包括緩沖容器，包括用于容纳液体的空隙空间(void space);液体输入管，液体从液体储存容器通过其被提供到该緩 沖容器；液体供给管，该緩冲容器中存在的液体通过其^^是供到预定单元； 气体输入管，加压气体从气体储存容器通过其纟皮提供到该纟爰冲容器以用于压出；以及排出管线(ventline)，连接到该緩冲容器以用于从该緩冲容器排放 力口压气体。该液体供给单元还可包括压强测量部件，其测量该緩沖容器中的压强。 该压强测量部件可以是安装在该排出管线处的压强计。该液体供给单元还可包括水平测量部件，其测量该i爰冲容器中存在的液 体的高度。该水平测量部件可包括下传感器，检测该緩沖容器中存在的液体的高 度以确定开始从液体储存容器向该緩冲容器供给液体的时间；以及上传感 器，检测该緩沖容器中存在的液体的高度以确定停止从液体储存容器向该緩 沖容器供给液体的时间。该液体供给单元还可包括安装在该排出管线处的泵，用于从该緩沖容器 排出加压气体。在另一个方面，用于处理基板的设备包括处理单元，包括工艺腔 (process chamber),基板在该工艺腔中被处理；緩冲容器，包括用于容纳液 体化学品的空隙空间；化学品输入管，液体化学品从液体储存容器通过其被 提供到该緩冲容器；化学品供给管，该緩冲容器中存在的该液体化学品通过 其被提供到该处理单元，该化学品供给管包括汽化器以汽化该液体化学品； 气体输入管，加压气体从气体储存容器通过其提供到该^_冲容器以用于压该 緩冲容器中存在的液体，从而通过该化学品供给管从该緩冲容器排出该液体化学品；以及排出管线，连接到该缓冲容器以用于从该緩沖容器排出所述加 压气体。该设备还可包括安装在该排出管线处的排出泵，用于从该緩沖容器排出加压气体。该设备还可包括工艺泵，其维持所述处理单元的工艺腔在预设压 强。该设备还可包括从所述化学品供给管分支出且连接到该排出泵的连接管。该设备还可包括压强测量部件，其测量该緩冲容器内的压强。该压强测 量部件可以是安装在该排出管线处的压强计。该设备还可包括下传感器，检测该緩冲容器中存在的液体化学品的高 度以确定开始从液体储存容器向该緩沖容器供给液体化学品的时间；以及上 传感器，检测该緩冲容器中存在的液体化学品的高度以确定停止从液体储存 容器向该緩冲容器供给液体化学品的时间。该设备还可包括压强测量部件，其测量该緩冲容器内的压强；下传感 器，检测该緩冲容器中存在的液体化学品的高度以确定开始从液体储存容器 向该緩沖容器供给液体化学品的时间；阅，分别安装在该化学品输入管、该 化学品供给管、该气体输入管、以及该排出管线处；以及控制器，接收来自 该下传感器和该压强测量部件的检测信号且控制所述阀的打开/关闭。在另一方面， 一种液体供给方法，通过使用提供到緩冲容器的气体压该 緩冲容器中存在的液体而从该緩冲容器向该缓沖容器外的单元提供液体，该液体供给方法包括如果该緩冲容器中存在的液体的量减少到低于参考水 平，则通过向该緩冲容器提供液体来再填充该緩沖容器；如果在重复该緩沖 容器的再填充时预设条件被满足，则通过排出管线从该緩冲容器排出气体。 该预设条件可包括压强条件，所述气体从该緩冲容器的排出可以在该緩 冲容器内的压强等于或大于参考压强时进行。所述气体从该緩沖容器的排出可使用连接到所述排出管线的减压部件 进行。在另一方面，处理基板的方法包括使用通过汽化从緩沖容器提供的液 体化学品而准备的汽化化学品在处理单元中对基板进行预定工艺；通过用提 供到该緩沖容器的气体压该緩冲容器中存在的液体化学品而从该緩冲容器 向该处理单元提供液体化学品；如果该緩冲容器中存在的液体化学品的量减 少到低于参考水平，则通过向该緩冲容器提供液体化学品来再填充该緩冲容 器；如果在重复该缓冲容器的再填充时预设条件被满足，则通过排出管线从 该緩冲容器排出气体。该预定工艺可以是用于在基板上沉积有机金属的沉积工艺，该化学品是该有机金属的前体。在该液体化学品被稳定地汽化后，汽化化学品可提供到该处理单元，不 稳定汽化的汽化化学品的初始量可通过连接到排出管线的泵被排出。该预设条件可包括该緩冲容器内的压强条件，气体从该緩冲容器的排出 可在该緩沖容器内的压强等于或大于第一参考压强时进4亍。在检测到该緩冲容器中存在的液体化学品的高度达到第一水平后，可测 量该緩沖容器内的压强，然后根据可根据所测量的压强进行气体从该緩沖容 器的排出。如果当检测到该缓沖容器中存在的液体化学品的高度达到第 一水平时 所述预定工艺在该处理单元中继续，则可根据该预定工艺完成后测量的该缓 冲容器内的压强进行气体从该緩冲容器的排出。气体从该緩冲容器的排出可包括打开安装在该排出管线处的阀预定时 间以从该緩冲容器排出气体；在关闭该阀之后测量该緩沖容器内的压强；如 果所测量的压强大于第二参考压强，再打开该阀预定时间，其中所述压强的 测量和所述阀的再打开被重复，直到该緩沖容器内的压强变得等于或小于该 第二参考压强。阀可安装在连接于液体储存容器和该緩沖容器之间的化学品输入管处， 当液体化学品从液体储存容器提供到该緩冲容器之后该阀关闭时，该阀和该 液体储存容器之间的部分化学品输入管可被填充有残留其中的液体化学品。附图说明附图被包括以提供对本专利技术实施例的进一步理解，附图并入本说明书中 且构成本说明书的一部分。附图示出本专利技术的示范性实施例和，且与说明书 一起用于说明本专利技术的原理，附图中图1示出根据本专利技术一实施本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种液体供给单元，包括：缓冲容器，包括用于容纳液体的空隙空间；液体输入管，液体通过该液体输入管从液体储存容器提供到该缓冲容器；液体供给管，该缓冲容器中存在的液体通过该液体供给管提供到预定单元；气体输入管，加压气体通过该气体输入管从气体储存容器提供到该缓冲容器以用于压该缓冲容器中存在的液体，从而通过该液体供给管从该缓冲容器排出液体；以及排出管线，连接到该缓冲容器以用于从该缓冲容器排出所述加压气体。

【技术特征摘要】
KR 2007-1-12 3838/071.一种液体供给单元，包括缓冲容器，包括用于容纳液体的空隙空间；液体输入管，液体通过该液体输入管从液体储存容器提供到该缓冲容器；液体供给管，该缓冲容器中存在的液体通过该液体供给管提供到预定单元；气体输入管，加压气体通过该气体输入管从气体储存容器提供到该缓冲容器以用于压该缓冲容器中存在的液体，从而通过该液体供给管从该缓冲容器排出液体；以及排出管线，连接到该缓冲容器以用于从该缓冲容器排出所述加压气体。2. 根据权利要求1所述的液体供给单元，还包括压强测量部件，其测 量该緩沖容器内的压强。3. 根据权利要求2所述的液体供给单元，其中所述压强测量部件是安 装于该排出管线处的压强计。4. 根据权利要求1所述的液体供给单元，还包括水平测量部件，其测 量该緩冲容器中存在的液体的高度。5. 根据权利要求4所述的液体供给单元，其中该水平测量部件包括 下传感器，检测该緩冲容器中存在的液体的高度以用于确定开始从所述液体储存容器向该緩冲容器供给液体的时间；以及上传感器，检测该緩沖容器中存在的液体的高度以用于确定停止从所述 液体储存容器向该緩沖容器供给液体的时间。6. 根据权利要求1所述的液体供给单元，还包括泵，安装于该排出管 线处以用于从该緩冲容器排出所述加压气体。7. —种用于处理基板的设备，包括处理单元，包括工艺腔，基板在该工艺腔中被处理； 緩冲容器，包括用于容纳液体化学品的空隙空间； 化学品输入管，液体化学品通过该化学品输入管从液体储存容器提供到 该緩沖容器；化学品供给管，该緩冲容器中存在的液体化学品通过该化学品供给管提供到该处理单元，该化学品供给管包括汽化器以汽化该液体化学品；气体输入管，加压气体通过该气体输入管从气体储存容器提供到该緩沖 容器以用于压该緩冲容器中存在的液体化学品，从而通过该化学品供给管从该緩沖容器排出液体化学品；以及排出管线，连接到该緩冲容器以用于从该緩冲容器排出所述加压气体。8. 根据权利要求7所述的设备，还包括排出泵，安装在该排出管线处 以用于从该緩沖容器排出所述加压气体。9. 根据权利要求8所述的设备，还包括工艺泵，其将所述处理单元的 工艺腔维持在预设压强。10. 根据权利要求9所述的设备，还包括连接管，其从所述化学品供给 管分支出来且连接到所述排出泵。11. 根据权利要求7所述的设备，还包括压强测量部件，其测量该缓沖 容器内的压强。12. 根据权利要求11所述的设备，其中所述压强测量部件是安装于该 排出管线处的压强计。13. 根据权利要求7所述的设备，还包括下传感器，检测该緩沖容器中存在的液体化学品的高度以用于确定开始 从所述液体储存容器向该緩冲容器供给液体化学品的时间；以及上传感器，检测该緩冲容器中存在的液体化学品的高度以用于确定停止 从所述液体储存容器向该緩沖容器供给液体化学品的时间。14. 根据权利要求7所述的设备，还包括 压强测量部件，其测量该緩冲容器内的压强；下传感器，检测该緩冲容器中存在的液体化学品的高度以用于确定开始 从所述液体储存容器向该緩沖容器供给液体化...

【专利技术属性】
技术研发人员：南太永，金兑壕，金镐旺，李相坤，安炳浩，金炯求，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]