【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种记录介质，更具体地讲，涉及一种通过使用物光束和参考光束的干涉条纹来将数据记录在上面的全息记录介质。
技术介绍
最近，相移型光盘或磁光型光盘被广泛用作信息记录介质。为了增加这样的光盘的记录密度，需要减小光束点的直径和相邻轨道或相邻位之间的距离。尽管光盘的记录密度已增加，但是用于将数据记录在表面上的光束的衍射极限在物理上限制了光盘的记录密度。因此，需要包括深度方向的三维复用记录来增加光盘的记录密度。因此，全息记录介质作为下一代计算机记录介质已吸引了公众的注意，该全息记录介质由于三维复用记录区域而具有大容量并且由于二维记录/再现方案而可在高速下使用。可通过在两片玻璃之间插入由光聚合物形成的记录/再现层来形成这样的全息记录介质。为了将数据记录在全息记录介质上，与将被记录的数据对应的物光束和参考光束被照射在全息记录介质上以形成干涉条纹。为了从全息记录介质再现数据，参考光束被照射到干涉条纹。由于多个二维数据记录在相同的区域，因此以与CD相同的形状形成的全息记录介质具有兆兆字节级的巨大的记录密度。就这一点，第2000-268380号日本公开专利公开了一种将...
【技术保护点】
一种全息记录介质，具有位于一个表面上的用于记录数据的记录／再现层和位于另一表面上的光学定位控制层。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】KR 2004-10-5 10-2004-0079206;JP 2004-2-18 041429/21.一种全息记录介质，具有位于一个表面上的用于记录数据的记录/再现层和位于另一表面上的光学定位控制层。2.一种全息记录介质，具有位于两个基底之间的记录/再现层和反射层，其中，用于光学定位控制的连续的或间断的凸单元或凹单元位于与反射层相邻的一个基底上，该基底具有面向反射层的平坦表面。3.如权利要求2所述的全息记录介质，其中，在通过与反射层相邻的基底的凸单元或凹单元来执行用于记录和再现操作的光学定位的同时，在记录/再现层上对数据进行记录和再现。4.如权利要求2所述的全息记录介质，其中，当执行移位复用记录时，用于定位控制的凸单元或凹单元的每一个的宽度与光束点的移位量相同。5.如权利要求2所述的全息记录介质，其中，当执行移位复用记录时，用于定位控制的凸单元和凹单元的宽度之和与光束点的移位量相同。6.如权利要求2所述的全息记录介质，其中，当执行移位复用记录时，通过将光束点的移位量乘以整数来确定用于定位控制的凸单元或凹单元的每一个的宽度。7.如权利要求2所述的全息记录介质，其中，当执行移位复用记录时，通过将光束点的移位量乘以整数来确定用于定位控制的凸单元和凹单元的宽度之和。8.如权利要求2所述的全息记录介质，其中，所述介质是盘形的。9.如权利要求2所述的全息记录介质，其中，所述介质是卡形的。10.一种介质，包括第一基底，信息记录/再现光学系统可设置于其上，所述信息记录/再现光学系统被物光束和参考光束照射；与第一基底相邻的记录/再现层，物光束和参考光束在该记录/再现层上形成干涉条纹；与记录/再现层相邻的第二基底，在该第二基底的一个表面上形成有凹单元或凸单元，用于提供定位信息；和覆盖层，与第二基底相邻，用于设置定位控制光学系统的位置以便检测定位信息并控制定位。11.如权利要求10所述的介质，还包括与记录/再现层相邻的反射层。12.如权利要求10所述的介质，其中，所述介质是盘形的，所述凹单元或凸单元是螺旋形或圆形。13.如权利要求10所述的介质，其中，所述定位控制光学系统将光束点照射到凹单元或凸单元上以便执行定位信息的检测和定位的控制。14.如权利要求10所述的介质，其中，所述覆盖层保护第二基底的凹单元或凸单元。15.如权利要求11所述的介质，还包括与反射层和第二基底相邻的中间层。16.如权利要求10所述的介质，其中，当执行移位复用记录操作时，能够在介质的径向上相对精确地记录/再现数据，并且当执行移位复用记录操作时，能够在该全息记录介质的切向上相对精确地记录/再现数据。17.如权利要求16所述的介质，其中，所述凹单元或凸单元的每一...
【专利技术属性】
技术研发人员：青木育夫，高桥义孝，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。