全息记录装置以及全息记录方法制造方法及图纸

技术编号:3078605 阅读:187 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
全息记录装置以固定的入射角(θs)向全息记录介质(B)照射记录光(S),并且在可变地控制对全息记录介质(B)的入射角(θr)的情况下向所述记录光(S)的照射部位(p)照射参考光(S),从而对全息图进行复用记录,其中包括:至少一个可变反射单元(10),其通过反射将参考光(R)引向照射部位(p),并绕预定轴(x)摆动,以使该参考光(R)的入射角(θr)改变;以及遮光单元(11),其与可变反射单元(10)一体地摆动,并部分地遮挡参考光,以使得所述参考光(R)的入射角(θr)越大,该参考光(R)的光束直径就越小。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及通过固定入射角的记录光与可变入射角的参考光之间的干 涉来复用记录全息图的。
技术介绍
在专利文献1中公开了一种以往的全息记录方法。在该文献所公开的 方法中,向全息记录介质垂直照射记录光,并同时在通过控制多镜面反射镜(多重^:,一)的倾斜来改变向该记录光的照射部位的入射角的情况下 照射参考光。多镜面反射镜将被支持部件支持的部分作为支点而倾斜,支 持部件被构成为相对于全息记录介质进行平行移动的结构。参考光根据多 镜面反射镜的倾斜来改变向全息记录介质的入射角,此时,通过多镜面反 射镜相对于全息记录介质进行平行移动来使参考光定位于照射部位。根据 这样的结构,在照射部位通过记录光和参考光之间的干涉而复用记录与它 们的交叉角相应的全息图。专利文献1:日本专利文献特开2005-234145号公报。 但是,在上述已有的全息记录方法中,在针对全息记录介质的参考光 的入射角变大时,根据照度余弦法则,参考光的照射宽度变大,从而与记 录光不重叠的部分也必然增大。即,在作为复用记录了全息图的单位记录 区域的、照射部位的两端部形成仅被多余的参考光曝光的不需要的曝光部 分,该不需要的曝光部分根据参考光的入射角而变大。因此,为了不使仅 被参考光曝光的不需要的曝光部分重叠,必须将相邻的单位记录区域间的 间隔取得较大,从而存在难以提高记录密度的问题。
技术实现思路
本专利技术就是基于上述问题完成的。本专利技术的目的在于,提供一种能够縮小复用记录全息图的单位记录区域的间隔来提高记录密度的全息记录装 置以及全息记录方法。为了解决上述问题,本专利技术采取了以下手段。本专利技术的第一方面提供一种全息记录装置,其向全息记录介质照射记 录光,并且在可变地控制向所述全息记录介质的入射角的情况下向所述记 录光的照射部位照射参考光,并通过这些记录光和参考光之间的干涉而在 所述照射部位上复用记录全息图,所述全息记录装置的特征在于,包括 至少一个可变反射单元,所述至少一个可变反射单元通过反射将所述参考光引向所述照射部位,并绕预定的轴摆动,以使所述参考光的入射角改 变;以及遮光单元,所述遮光单元与所述可变反射单元一体地摆动,并部 分地遮挡所述参考光,以使得所述参考光的入射角越大,所述参考光的光 束直径就越小。优选使所述参考光沿固定的方向并以固定的光束直径向所述可变反射 单元入射,并在被所述可变反射单元反射后穿过所述遮光单元照射在所述 照射部位。优选包括用固定的反射面反射来自所述可变反射单元的所述参考光的 固定反射单元,所述参考光沿固定的方向并以固定的光束直径向所述可变 反射单元入射,并且在被所述可变反射单元反射之后被所述固定反射单元 再次反射,之后穿过所述遮光单元照射在所述照射部位上。优选包括作为可变反射单元的第一及第二可变反射单元、以及固定反 射单元,该固定反射单元通过固定于这些第一及第二可变反射单元之间的 固定的反射面来反射所述参考光;所述参考光沿固定的方向并以固定的光 束直径向所述第一可变反射单元入射,并且在刚要被所述第一可变反射单 元反射之前以及刚被反射之后穿过所述遮光单元被引向所述固定反射单 元,之后,在被所述固定反射单元反射后进一步被所述第二可变反射单元 反射,由此被照射到所述照射部位上。本专利技术的第二方面提供一种全息记录方法,该方法向全息记录介质照 射记录光,并且在可变地控制对所述全息记录介质的入射角的情况下向所 述记录光的照射部位照射参考光,并通过这些记录光和参考光之间的干涉而在所述照射部位上复用记录全息图,所述全息记录方法的特征在于,当 在可变地控制所述参考光的入射角的情况下将所述参考光引向所述照射部 位时,部分地遮挡所述参考光,以使得该参考光的入射角越大,参考光的 光束直径就越小。附图说明图1是示出应用了本专利技术的全息记录装置的一个实施方式的立体图2是用于示出图1所示全息记录装置的主要部分的截面图3是用于说明图1所示全息记录装置的光学作用的截面图4是用于说明图1所示全息记录装置的光学作用的截面图5是用于说明没有主要构成部件时的光学作用的参考例的截面图6是示出应用了本专利技术的全息记录装置的其他实施方式的截面图7是用于说明图6所示全息记录装置的光学作用的截面图8是用于说明图6所示全息记录装置的光学作用的截面图9是示出应用了本专利技术的全息记录装置的其他实施方式的截面图IO是用于说明图9所示全息记录装置的光学作用的截面图11是用于说明图9所示全息记录装置的光学作用的截面图。具体实施例方式下面,参考附图对本专利技术的优选实施方式进行详细说明。 如图l所示,本专利技术一个实施方式的全息记录装置A对于圆盘形的全 息记录介质B,以向预定的方向倾斜地构成固定的入射角(参考图2 等)的方式照射记录光S,并且以与该记录光S相反的方向倾斜的状态对 入射角进行可变控制来向记录光S的照射部位p照射参考光R,并通过这 些记录光S与参考光R之间的干涉来复用记录全息图。全息记录装置A包括记录光用的光学系统和参考光用的光学系统,记 录光用的光学系统用于照射记录光S,参考光用的光学系统用于向全息记 录介质B可变地控制入射角地来照射参考光R。除图示之外,还设有用于 发射激光束的光源、用于将激光束分离为记录光S和参考光R的分束器、以及用于将激光束转换为平行光的准直透镜等。记录光用的光学系统包括空间光调制器2、变焦透镜3、分束器4、以及记录光用的物镜5。参考光 用的光学系统包括记录用的可变反射部件(可变反射单元)10、遮光部件 (遮光单元)11、重放用的可变反射部件12、以及使它们一体地进行摆动 的摆动单元20。摆动单元20包括U字型的臂部件21以及驱动马达22。 记录用的可变反射部件10以及遮光部件11被固定在配置于全息记录介质 B上侧的臂部件21的一端。重放用可变反射部件12被固定在配置于全息 记录介质B下侧的臂部件21的另一端。臂部件21通过驱动马达22而围 绕沿全息记录介质B的径向大致平行的预定的轴x进行摆动。这些记录光 用的光学系统以及参考光用的光学系统被安装在可在全息记录介质B的径 向往复移动的移动头(省略图示)上。如图2所示,全息记录介质B例如具有如下结构,g卩具有作为中间 层的光敏聚合物记录层90,并在该记录层90的两侧层叠了透光性的覆盖 层91、 92。在本实施方式中,例如记录层90的厚度为lmm左右,覆盖层 91、 92为0.5mm左右。当进行记录时,从全息记录介质B的上方照射记 录光S和参考光R。当进行重放时,从全息记录介质B的下方只照射参考 光R。从图外的光源射出的激光束通过没有图示的准直透镜转换成平行光, 然后经分束器被分离为记录光S和参考光R。记录光S被引向空间光调制 器2,另外参考光R被引向记录用的可变反射部件IO或重放用的可变反射 部件12。空间光调制器2例如由透过型液晶器件构成,其根据要记录的信息来 将入射的记录光S调制成二维像素图案的光。从空间光调制器2射出的记 录光S经变焦透镜3被引向分束器4,并最终经过记录光用的物镜5以固 定的入射角0照射在全息记录介质B上。在本实施方式中,作为一个示例 而将记录光的入射角0s设定为28deg。如图2所示,记录用的可变反射部件10以及重放用的可变反射部件 12分别具有平面状的反射面10a、 12a,并且彼此成为一体地绕预本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种全息记录装置,其向全息记录介质照射记录光,并且在可变地控制向所述全息记录介质的入射角的情况下向所述记录光的照射部位照射参考光,并通过这些记录光和参考光之间的干涉而在所述照射部位上复用记录全息图,所述全息记录装置的特征在于,包括:  至少一个可变反射单元,所述至少一个可变反射单元通过反射将所述参考光引向所述照射部位,并绕预定的轴摆动,以使所述参考光的入射角改变;以及 遮光单元,所述遮光单元与所述可变反射单元一体地摆动,并部分地遮挡所述参考光,以使得所述参考光的入射 角越大,所述参考光的光束直径就越小。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1. 一种全息记录装置,其向全息记录介质照射记录光,并且在可变地控制向所述全息记录介质的入射角的情况下向所述记录光的照射部位照射参考光,并通过这些记录光和参考光之间的干涉而在所述照射部位上复用记录全息图,所述全息记录装置的特征在于,包括至少一个可变反射单元,所述至少一个可变反射单元通过反射将所述参考光引向所述照射部位,并绕预定的轴摆动,以使所述参考光的入射角改变;以及遮光单元,所述遮光单元与所述可变反射单元一体地摆动,并部分地遮挡所述参考光,以使得所述参考光的入射角越大,所述参考光的光束直径就越小。2. 如权利要求1所述的全息记录装置,其中,所述参考光沿固定的方向并以固定的光束直径向所述可变反射单元入 射,并且在被所述可变反射单元反射后穿过所述遮光单元照射在所述照射 部位。3. 如权利要求1所述的全息记录装置,其中,包括用固定的反射面反射来自所述可变反射单元的所述参考光的固定 反射单元,所述参考光沿固定的方向并以固定的光束直径向所述可变反射 单元入射,并且在被所述可变反射单元反射之后被所述固定反射...

【专利技术属性】
技术研发人员:宇野和史手塚耕一吉川浩宁岩村康正山影让
申请(专利权)人:富士通株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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