光学记录介质制造技术

一种用于对第一层以及ＲＯＭ再现层或热记录层执行全息记录并且容易地检测全息图的记录位置而没有减小记录容量的光学记录介质。所述光学记录介质包括一个具有全息记录层的表面和至少另一具有ＲＯＭ层或热层的表面，所述全息记录层用于通过照射物光束和参考光束而将物光束的信息记录为干涉条纹，在所述另一表面上形成有坑以存储信息而容易地检测记录的全息图的位置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种记录介质，更具体地讲，涉及一种具有全息记录层和传统的光学记录层的光学记录介质，在所述全息记录层上，通过使用物光束和参考光束，数据作为干涉条纹而被记录。
技术介绍
相移型或磁光型的可重写光盘被广泛用作信息记录介质。为了增加这样的光盘的记录密度，需要减小光束点的直径并且需要使相邻轨道或相邻位之间的距离更小。尽管光盘的记录密度已增加，但是用于将数据记录在光盘的记录表面上的光束的衍射极限在物理上限制了光盘的记录密度。因此，需要包括深度方向的三维复用记录来增加光盘的记录密度。全息记录介质作为下一代计算机记录介质已吸引了公众的注意，该全息记录介质由于三维复用记录区域而具有大容量并且由于二维记录/再现方法而可在高速下使用。可通过在两片玻璃之间插入由光聚合物形成的记录层来形成这样的全息记录介质。为了将数据记录在全息记录介质上，与将被记录的数据对应的物光束和参考光束被照射在全息记录介质上以形成干涉条纹。为了从全息记录介质再现数据，参考光束被照射到干涉条纹以提取与记录的数据相应的光学数据。由于多个二维数据记录在相同的区域，因此以与致密盘相同的形状形成的全息记录介质具有兆兆字节级的巨大的记录密度。另一方面，当在其上执行复用记录时，这种类型的介质需要非常精确的光学系统的控制，以便在介质上准确地检测位置。因此，第10-124872号日本公开专利公开了一种涉及在全息记录介质上排列地址信息的技术。然而，当使用这种技术时，用于记录位置信息(即，地址信息或数据)的区域和数据区域在相同的表面上形成，从而不可能在记录表面上执行全息复用技术并减小了记录容量。专利技术公开技术问题用于记录位置信息的区域和数据区域在相同的表面上形成，从而不可能在记录表面上执行全息复用技术并减小了记录容量。技术解决方案本专利技术的一方面提供了一种光学记录介质，所述光学记录介质允许在其记录表面上的全息记录和从其表面的数据再现，从而可方便地检测全息图的记录位置而没有减小记录容量。在下面的描述中将部分地阐明本专利技术另外的方面和/或优点，部分地，通过描述，其会变得明显，或者通过实施本专利技术可以了解。有益的效果根据本专利技术，可对单个光学记录介质执行全息记录和/或再现以及ROM记录和/或再现或者热记录和/或再现，并且可容易地检测全息记录层上的全息图的记录位置。附图说明通过下面结合附图对实施例进行的描述，本专利技术的这些和/或其他方面和优点将会变得清楚和更易于理解，其中图1A和图1B分别是根据本专利技术实施例的光学记录介质的剖视图和平面图；图2是根据本专利技术另一实施例的光学记录介质的剖视图；图3A和图3B分别是根据本专利技术另一实施例的光学记录介质的剖视图和平面图；和图4是根据本专利技术实施例的记录和/或再现设备的方框图。最佳方式根据本专利技术的一方面，提供了一种包括一个具有全息记录层的表面和另一具有ROM层的表面的光学记录介质，所述全息记录层用于通过照射物光束和参考光束而将物光束的信息记录为干涉条纹，在所述ROM层中形成有凹坑和凸坑。在本专利技术的一方面中，可选信息作为ROM信息被记录在全息记录介质上而没有减小其记录容量，并且位置确定控制可被精确地执行。在本专利技术的一方面中，ROM层具有光学记录介质的位置信息。在本专利技术的一方面中，位置信息作为ROM信息被预先地记录在全息记录介质上而没有减小全息记录容量，从而当执行全息记录/再现时对预定地址的访问可被精确地和迅速地执行。在本专利技术的一方面中，具有ROM层的表面由ROM类型光盘构成。在本专利技术的一方面中，可将可选信息记录在ROM层上，并且当执行全息记录/再现时对预定地址的访问可通过使用ROM类型光盘的地址信息来精确并迅速地执行。根据本专利技术的另一方面，提供了一种包括一个具有全息记录层的表面和另一具有热记录层的表面的光学记录介质，所述全息记录层用于通过照射物光束和参考光束而将物光束的信息记录为干涉条纹。在本专利技术的一方面中，通过执行热记录，可选信息被另外记录在全息记录介质上而没有减小全息记录容量。在本专利技术的一方面中，热记录层具有凹槽或凸槽。在本专利技术的一方面中，通过控制光学系统沿着凹槽或凸槽移动，光学系统的位置被精确地确定。在本专利技术的一方面中，凹槽或凸槽之间的距离等于沿凹槽或凸槽的垂直方向的位移复用记录的全息位移量的约数。在本专利技术的一方面中，因为凹槽或凸槽之间的距离由位移复用记录的全息位移量的约数来确定，所以当通过沿着槽移动光学系统来执行全息复用记录时可控制在光学记录介质的全部区域上的位移量。在本专利技术的一方面中，热记录层具有光学记录介质的位置信息。在本专利技术的一方面中，位置信息被记录在全息记录介质上而没有减小全息记录容量，因此当执行全息记录/再现时对预定地址的访问可被精确并迅速地执行。在本专利技术的一方面中，具有热记录层的表面由可记录光盘构成。在本专利技术的一方面中，可选信息被记录在热记录层上，并且当通过使用可记录类型光盘的地址信息来执行全息记录/再现时，对预定地址的访问可精确并迅速地执行。在本专利技术的一方面中，光学记录介质包括在全息记录层和ROM层之间插入的全反射层。在本专利技术的一方面中，可在没有全息记录层信号和ROM层信号之间的干涉的情况下执行记录/再现。在本专利技术的一方面中，光学记录介质包括在全息记录层和热记录层之间插入的全反射层。在本专利技术的一方面中，可在没有全息记录层信号和热记录层信号之间的干涉的情况下执行记录/再现。本专利技术的方式现在，将对本专利技术实施例进行详细的描述，其示例表示在附图中，其中，相同的标号始终表示相同的部件。下面将参照附图描述这些实施例以解释本专利技术。参照图1A和图1B，根据本专利技术实施例的光学记录介质1包括基底2、全息记录层3、全反射层4、保护层5、涂层(未显示)、粘合层(未显示)、和具有坑7的基底6。图1A中显示的光学记录介质的剖视图是沿图1B中显示的平面图的线A-A′截取的。光学记录介质1包括全息记录层3和由具有坑7的基底6组成的光学记录层。光学记录介质1的位置信息被记录在坑7中，并且用于记录全息图的位置或记录的全息图的位置可通过使用记录和/或再现设备的光学拾取器从基底6光学地读取光学记录介质1的位置信息来检测。根据本专利技术的一方面，记录在光学记录层的ROM单元中的信息除了位置信息外还包括可选信息。例如，ROM单元可包括复制保护数据和/或用户数据。ROM单元可由ROM类型光盘构成，例如，CD-ROM或DVD-ROM。在这种情况下，用于记录全息图或记录的全息图的位置信息可从CD-ROM或DVD-ROM的地址信息获得。全息记录层3使用诸如光聚合物或光折变晶体(photorefractive crystal)的光敏材料来记录由物光束和参考光束引起的干涉图样。物光束包括数据或其他信息。为了从全息记录介质再现数据，参考光束被照射到干涉条纹以提取与记录的数据相应的光学数据。另外，全反射层4反射从全息记录和/或再现设备(未显示)照射到全息记录层3的物光束和参考光束，并且防止物光束和参考光束到达ROM单元而破坏存储在ROM单元中的数据或信息。因此，全息记录层3和ROM单元可由全反射层4光学地分开。因此，物光束和参考光束不能干涉来自例如像图4中显示的那样的光学拾取器的检测光束，所述检测光束检测在ROM单元上以凹形状或凸形状排列的位置检测信息。结果，当与记录和/本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种与记录和／或再现设备一起使用的光学记录介质，该光学记录介质包括：光学记录介质的第一表面，具有全息记录层，通过将物光束和参考光束照射到所述全息记录层上，物光束的信息作为干涉条纹而被记录；和第二表面，具有在其上形成有坑的ＲＯ Ｍ层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2004-3-9 065841/2004;KR 2004-10-5 10-2004-007921.一种与记录和/或再现设备一起使用的光学记录介质，该光学记录介质包括光学记录介质的第一表面，具有全息记录层，通过将物光束和参考光束照射到所述全息记录层上，物光束的信息作为干涉条纹而被记录；和第二表面，具有在其上形成有坑的ROM层。2.如权利要求1所述的光学记录介质，其中，ROM层具有关于与全息记录层和/或ROM层相应的光学记录介质的位置信息。3.如权利要求1所述的光学记录介质，其中，具有ROM层的第二表面由ROM类型光盘构成。4.如权利要求1所述的光学记录介质，其中，所述坑是凹形状或凸形状的。5.如权利要求1所述的光学记录介质，其中，全反射层被插入全息记录层和ROM层之间。6.如权利要求1所述的光学记录介质，还包括第三表面，布置于第一表面和第二表面之间，用于反射光。7.一种与记录和/或再现设备一起使用的光学记录介质，该光学记录介质包括第一表面，具有全息记录层，通过照射物光束和参考光束，物光束的信息作为干涉条纹而被记录；和第二表面，具有热记录层。8.如权利要求7所述的光学记录介质，其中，热记录层具有凹槽或凸槽。9.如权利要求8所述的光学记录介质，其中，凹槽或凸槽之间的距离是沿凹槽或凸槽的垂直方向的位移复用记录的全息位移量的约数。10.如权利要求7所述的光学记录介质，其中，热记录层具有关于光学记录介质的位置信息。11.如权利要求7所述的光学记录介质，其中，具有热记录层的表面由可记录光盘构成...

【专利技术属性】
技术研发人员：青木育夫，高桥义孝，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]