磁光设备制造技术

磁光设备，包括磁光读取和／或写入头和用于产生激光束（１）的装置，所述磁光读取和／或写入头具有线圈（５），其中，所述激光束在操作过程中穿过线圈（５）中的孔径（１２），其特征在于，所述线圈座包括位于线圈的中心位置或在所述线圈的中心位置附近的具有凹口深度（ｈ）的凹口，从盘的方向看过去，透镜（４）在线圈的后面延伸，与所述线圈部分重叠。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种磁光设备，包括在线圈座上具有线圈的磁光读取和/或写入头以及用于产生激光束的装置，其中所述激光束在操作过程中穿过所述线圈。首段中所描述类型的系统的一种实施例公开于US 6069853A中。在这种设备中，光记录技术应用于磁光头中，所述磁光头在操作过程中靠近盘上的记录层。偏振光用于在盘上进行读取和/或写入。所述激光束穿过线圈，所述线圈例如一体形成于滑块或致动器上。新一代的光记录盘具有更高的数据容量和更小的位尺寸。每一代新记录设备都趋于减小光学读出的波长，增大光学拾取单元(OPU)的数值孔径(NA)。焦距和工作距离减小，倾斜余量变得更加受限。对于下一代光存储系统而言，物镜的数值孔径将上升到NA＝0.85，甚至NA＝0.95，以提高分辨能力。尽管物镜区域增加重量，但是，日益增长的对高数据率和短存取时间的要求迫使物镜的总质量区域缩小。当NA保持恒定时，仅可以在焦距和自由工作距离(FWD)减小的情况下实现所述效果。可以采用薄膜技术制造所述包含线圈的头。所述线圈形成在薄片(例如玻璃)的顶部，嵌入到氧化物(例如Al2O3)中。头与盘之间的自由工作距离(FWD)小于20微米，并且本文档来自技高网...

【技术保护点】
磁光设备，包括磁光读取和／或写入头和用于产生激光束（１）的装置，所述磁光读取和／或写入头具有包括线圈（５）的线圈座（６，９），其中，所述激光束在操作过程中穿过线圈（５）中的孔径（１２），所述线圈座包括位于线圈的中心位置或在所述线圈的中心位置附近的具有凹口深度（ｈ）的凹口，并且从盘的方向看过去，透镜（４）在线圈的后面延伸，从而与所述线圈至少部分重叠。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】EP 2003-6-25 03101884.91.磁光设备，包括磁光读取和/或写入头和用于产生激光束(1)的装置，所述磁光读取和/或写入头具有包括线圈(5)的线圈座(6，9)，其中，所述激光束在操作过程中穿过线圈(5)中的孔径(12)，所述线圈座包括位于线圈的中心位置或在所述线圈的中心位置附近的具有凹口深度(h)的凹口，并且从盘的方向看过去，透镜(4)在线圈的后面延伸，从而与所述线圈至少部分重叠。2.根据权利要求1所述的磁光设备，其特征在于，所述凹口被限...

【专利技术属性】
技术研发人员：RJM沃勒斯，MB范德马克，B范索梅伦，F滋普，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]