玻璃基体的镀层方法、磁盘基板及制法、垂直磁记录介质技术

本发明专利技术提供一种对玻璃基体进行镀层的方法，其可利用无电解镀层法，在由玻璃材料制成的基体上，密合性良好地、均匀地形成甚至膜厚为１μｍ以上的镀膜。在由玻璃材料制成的基体上，依次至少实施玻璃活化处理（Ｓ２）、硅烷偶联剂处理（Ｓ３）、Ｐｄ催化处理（Ｓ４）、Ｐｄ结合处理（Ｓ５）后，利用无电解镀层（Ｓ６）形成膜厚为０．０２μｍ～０．５μｍ的预镀膜并在２００℃以上３５０℃以下的温度下实施退火处理（Ｓ７），在该预镀膜上实施无电解镀层（Ｓ８）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在由玻璃材料制成的基体上进行镀层的方法、使用该镀层方法的垂直磁记录介质用磁盘基板的制造方法、利用该制造方法制造的垂直磁记录介质用磁盘基板、和使用该磁盘基板的垂直磁记录介质，尤其适用于安装在硬盘装置中的垂直磁记录介质。
技术介绍
近年来，大多使用硬盘装置作为计算机或数字家电产品等的存储装置。作为安装在该硬盘装置中的磁记录介质的磁盘(硬盘)，在纵向磁记录方式(longitudinal magnetic recording system)的情况下，通常，利用无电解镀层法，在盘状非磁性基板的表面上形成Ni-P层，对该Ni-P层的表面进行必要的平滑化处理和结构化处理(texturingtreatment)等后，利用溅射法等，在其表面上依次进行非磁性金属底层、强磁性合金薄膜的磁记录层、和保护层等的成膜而制成。以往，使用铝合金作为非磁性基板的材料，但随着硬盘装置的高容量化、小型化的发展，要求磁盘平坦度高、直径小、厚度薄。由于以往的铝合金基板难以满足这些市场要求，因此使用玻璃作为基板材料。此时，为了得到良好特性的磁盘，希望在玻璃基板的表面上形成Ni-P层、从而得到具有与铝合金基板同本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种对玻璃基体进行镀层的方法，其特征在于：在由玻璃材料制成的基体上，依次至少实施玻璃活化处理、硅烷偶联剂处理、Ｐｄ催化处理、Ｐｄ结合处理后，利用无电解镀层法形成膜厚为０．０２μｍ～０．５μｍ的预镀膜并在２００℃以上３５０℃以下的温度下实施退火处理，在该预镀膜上实施无电解镀层。

【技术特征摘要】
JP 2005-4-8 2005-1120571.一种对玻璃基体进行镀层的方法，其特征在于在由玻璃材料制成的基体上，依次至少实施玻璃活化处理、硅烷偶联剂处理、Pd催化处理、Pd结合处理后，利用无电解镀层法形成膜厚为0.02μm～0.5μm的预镀膜并在200℃以上350℃以下的温度下实施退火处理，在该预镀膜上实施无电解镀层。2.一种垂直磁记录介质用磁盘基板的制造方法，其特征在于在盘状的玻璃基板上，依次至少实施玻璃活化处理、硅烷偶联剂处理、Pd催化处理、Pd结合处理后，利用无电解镀层法形成膜厚为0.02μm～0.5μm的预镀膜并在200℃以上350℃以下的温度下实施退火处理，利用无电解镀层法在该预镀膜上形成软磁性镀膜。3.一种垂直磁记录介质用磁盘基板，其特征在于，具有盘状的玻璃基板；由在所述玻璃基板上形成的硅烷偶联剂构成的密合层；由在所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：栗原大，郑用一，矶亚纪良，
申请(专利权)人：富士电机电子技术株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]