光学信息记录介质用银合金反射膜,为此的银合金溅射靶,以及光学信息记录介质制造技术

技术编号:3055111 阅读:192 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种银合金反射膜被用于光学信息记录介质,并包含作为主成分的银、总共1-10原子%的至少一种稀土元素,和总共1-15原子%的选自In、Sn、Al和Mg中的至少一种,其中所述至少一种稀土元素与所述选自In、Sn、Al和Mg中的至少一种的总含量为5原子%或更高。该银合金反射膜优选还包含0.01-3原子%的Bi和Sb中的至少一种。银合金溅射靶具有与该银合金反射膜相同的组成。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学信息记录介质用银(Ag)合金反射膜,用于沉积该膜的Ag合金溅射靶,以及光学信息记录介质。更具体地说,本专利技术涉及这样的反射膜,其具有低导热系数、低熔化温度、高反射率和高耐腐蚀性,从而能在诸如CD、DVD、蓝光光盘和HD-DVD的光学信息记录介质制备后,典型地用激光标记该介质。本专利技术还涉及用于沉积该反射膜的溅射靶,以及具有该反射膜的光学信息记录介质。
技术介绍
光学信息记录介质(光盘)包括各种类型,归类为写/读系统的三种主要类型是只读、一次性写入和可重写光盘。在这些光盘中,只读光盘在制备光盘时将由凹陷和凸起坑形成的数据记录在诸如聚碳酸酯基材的透明塑料基材上,并在所记录数据上设置主要包含例如Al、Ag或Au的反射层,如图1所示。通过检测施加在光盘上的激光束的相差或反射系数差异来读取数据。某些光盘包括包含记录坑和布置在记录坑上的反射层的基材,以及带有记录坑和布置在该记录坑上的半反射层的另一种基材。将这两种基材层压,读取记录在两层上的数据。记录在这种记录/读取系统的一面上的数据是只读数据,它不能再写和改变,采用这种系统的光盘包括CD-ROM、DVD-ROM和DVD-Video。图1是只读光盘剖面结构的示意图。图1中的光盘包括聚碳酸酯基材1和5、半反射层(Au、Ag合金和Si)2、粘合剂层3和总反射层(Ag合金)4。这些只读光盘被大量制造,并通过用带有信息图案的压模按压制造光盘来记录信息。因此,ID不能有效赋予单个光盘。然而,光盘制备后单独具有用诸如标签闸门系统或色同步切断区(BCA)系统的专用系统形成的ID的只读光盘被标准化,典型地为了防止未授权拷贝,提高产品分销中的示踪能力,并提高产品的附加值。ID标记(记录)主要通过制造后在光盘上施加激光束,以熔化反射膜中的Al合金,并在膜中形成孔的方法进行。铝合金如根据日本工业标准(JIS)6061的Al-Mg合金被大量制造作为常用的结构材料,而且很便宜,因此广泛用作只读光盘的反射膜。相反,具有更高反射系数的Ag合金被广泛用于可记录的(一次性写入和可再写的)光盘。然而这些材料都具有高热导率,需要高的激光功率来标记,从而损坏包括聚碳酸酯基材和粘合剂层的基底材料。另外,它们的耐腐蚀性低,而且当激光标记后置于高温和高湿条件下时,激光标记形成的孔隙招致反射膜腐蚀。包含Ag合金的反射膜在高温下由Ag的热稳定性差而导致的Ag反射膜内聚而使反射系数降低。为了以较低功率进行激光刻录,反射膜必须具有较低的导热系数,此外还必须具有增大的光吸收系数(激光束吸收系数)和较低的熔化温度。日本公开(未审查)专利申请公布(JP-A)1992-252440(Hei 04-252440)公开了通过在Ag中结合Ge、Si、Sn、Pb、Ga、In、Tl、Sb或Bi来降低Ag合金的热导率的方法。JP-A 1992-28032(Hei 04-28032)公开了通过在Ag中结合Cr、Ti、Si、Ta、Nb、Pt、Ir、Fe、Re、Sb、Zr、Sn或Ni来降低Ag合金的热导率的方法。然而,根据这些技术得到的反射膜往往不能通过激光照射熔化和消除,且其中某些随着其热导率降低还表现出熔化温度提高。仍然没有提供满足作为激光标记用Ag合金的要求的银合金(Ag合金)。如上所述,为激光标记提供的Ag合金反射膜必须具有低热导率、低熔化温度和高耐腐蚀性。现有的只读光盘用反射膜采用JIS 6061系列的Al合金,但这些Al合金不满足激光标记对热导率和耐腐蚀性的要求。
技术实现思路
在这些情况下,本专利技术的一个目的是提供光学信息记录介质用Ag合金反射膜,它在用于只读光盘时容易用激光束标记。本专利技术另一个目的是提供一种包括该反射膜的光学信息记录介质,以及用于沉积该反射膜的溅射靶。在为了实现以上目的进行的深入细致的研究后,本专利技术人发现,包含Ag和特定含量的特定合金元素的Ag合金薄膜具有低导热系数、低熔化温度和高耐腐蚀性,并用作适合作为光学信息记录介质用反射膜的反射薄层(薄金属层),其能满意地进行激光标记。本专利技术已基于这些结论而得以完成,并实现了以上目的。因此,本专利技术涉及光学信息记录介质用Ag合金反射膜、光学信息记录介质,以及用于沉积该Ag合金反射膜的Ag合金溅射靶,并在第一方面提供了光学信息记录介质用Ag合金反射膜,在第二方面提供了光学信息记录介质,并且在第三方面提供了用于沉积该Ag合金反射膜的Ag合金溅射靶。具体而言,本专利技术在第一方面提供了一种光学信息记录介质用Ag合金反射膜,其包含作为主成分的Ag、总共1-10原子%的至少一种稀土元素和总共1-15原子%的选自In、Sn、Al和Mg中的至少一种,其中所述至少一种稀土元素与所述选自In、Sn、Al和Mg中的至少一种的总含量为5原子%或更高。在Ag合金反射膜中,该至少一种稀土元素可以是选自Nd、Gd和Y中的至少一种。该Ag合金反射膜可还包含0.01-3原子%的Bi和Sb中的至少一种。本专利技术在第二方面还提供了一种包含根据第一方面的Ag合金反射膜的光学信息记录介质。此外,本专利技术在第三方面提供了一种用于沉积光学信息记录介质用Ag合金反射膜的Ag合金溅射靶,其包含作为主成分的Ag、总共1-10原子%的至少一种稀土元素,和总共1-15原子%的选自In、Sn、Al和Mg中的至少一种,其中所述至少一种稀土元素与所述选自In、Sn、Al和Mg中的至少一种的总含量为5原子%或更高。在该Ag合金溅射靶中,该至少一种稀土元素可以是选自Nd、Gd和Y中的至少一种。该Ag合金溅射靶可还包含0.01-3原子%的Sb。该Ag合金溅射靶可还包含0.03-10原子%的Bi,以代替Sb或与Sb共存。根据本专利技术的光学信息记录介质用Ag合金反射膜在用于只读光盘时容易用激光束标记。根据本专利技术的光学信息记录介质包括该Ag合金反射膜,且在用于只读光盘时能合适地用激光束标记。通过采用根据本专利技术的Ag合金溅射靶,可沉积该Ag合金反射膜。本专利技术的其它目的、特征和优点将参考附图从以下优选实施方案的描述中凸现。附图说明图1是只读光盘的剖面结构示意图。具体实施例方式如上所述,为激光标记提供的Ag合金薄膜必须具有低的导热系数、低熔化温度和高耐腐蚀性。本专利技术制备了含Ag和各种元素的Ag合金溅射靶,用这些靶溅射制成了各种组成的Ag合金薄膜,测定了作为反射薄层的薄膜的组成和性能,并得到以下结论(1)-(2)。(1)通过在Ag中结合总共1-10原子%的至少一种稀土元素和总共1-15原子%的选自In、Sn、Al和Mg中的至少一种,其中所述至少一种稀土元素与所述选自In、Sn、Al和Mg中的至少一种的总含量为5原子%或更高,Ag合金薄膜可以具有降低的导热系数和提高的激光束吸收率,同时保持其用于光记录介质所需的满意的反射率。如果至少一种稀土元素的总含量小于1原子%(除非另有规定,“原子%”在下文也称为“%”),就没有效降低导热系数。如果它超过10%,所得薄膜就具有升高的熔化温度和降低的耐久性。如果选自In、Sn、Al和Mg中的至少一种的总含量低于1%,就没有效降低熔化温度。如果它超过15%,该反射膜对于从该光记录介质读出信息的激光束的反射率就降低,导致信号输出减弱。如果所述至少一种稀土元素与所述选自In、Sn、Al和Mg中的至少一种的总含量低本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种光学信息记录介质用Ag合金反射膜,其包含:作为主成分的Ag;总共1-10原子%的至少一种稀土元素;和总共1-15原子%的选自In、Sn、Al和Mg中的至少一种,其中所述至少一种稀土元素与所述选自In、Sn、Al和Mg中的至少一种的总含量为5原子%或更高。

【技术特征摘要】
JP 2005-7-22 2005-2132021.一种光学信息记录介质用Ag合金反射膜,其包含作为主成分的Ag;总共1-10原子%的至少一种稀土元素;和总共1-15原子%的选自In、Sn、Al和Mg中的至少一种,其中所述至少一种稀土元素与所述选自In、Sn、Al和Mg中的至少一种的总含量为5原子%或更高。2.权利要求1的Ag合金反射膜,其中所述稀土元素是选自Nd、Gd和Y中的至少一种。3.权利要求1的Ag合金反射膜,其还包含0.01-3原子%的Bi和Sb中的至少一种。4.一种包含权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:田内裕基中井淳一藤井秀夫
申请(专利权)人:株式会社神户制钢所
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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