【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种信息记录磁盘驱动装置,尤其涉及一种用于磁盘驱动装置 的磁头折片组合上的微致动器。
技术介绍
一种常用的信息存储装置是磁盘驱动装置,其利用磁介质存储数据并通过 一个位于该磁介质上的可移动的读/写头选择性地从磁盘中读取或写入磁盘数据。消费者一直期望这类磁盘驱动装置的存储容量更大,读写操作更快、更准 确。因此,磁盘驱动器制造商一直致力于开发高存储容量的磁盘驱动器,例如 通过用较窄轨道宽度和/或较窄轨道间距来增加磁盘的磁轨密度。然而,磁轨密 度的增加需要磁盘驱动器的磁性读/写头的位置控制性能相应改善,以便在使用 高密度磁盘时能够实现快速而准确的读/写操作。随着磁轨密度的增加,借助传 统技术来将读/写头快速并且准确地定位于存储介质的特定磁轨上变得越来越 困难。因此,为了利用轨道密度不断增大所带来的益处,磁盘驱动器制造商一 直在寻找能改善读/写头位置控制性能的方法。一种经常被磁盘驱动器制造商所使用的、能够改善在高密度磁盘上所使用的读/写头位置控制性能的方法是采用一个副致动器(secondary actuator),即微 致动器。该微致动器与主致动器共同使用,以便使读/写头获得快速而准确的位 置控制。包含微致动器的磁盘驱动器被称为双致动器系统。过去业界已经开发了各种各样的双致动器系统,用于提高存取速度及微调 读/写头在高密度存储介质特定磁轨上的位置。这类双致动器系统通常包括一主 音圏马达致动器(VCM)及一个副微致动器,比如压电元件微致动器。该音圈马 达致动器由一伺服控制系统所控制,该伺服控制系统旋转承载读/写头的驱动臂,从而将读/写头定位于存储介质 ...
【技术保护点】
一种用于磁头折片组合的微致动器,包括:金属框架,所述金属框架包括:顶支撑板,其具有一个用于支持磁头的顶面;底支撑板,其具有适于安装到悬臂件上的底面;以及分别与顶支撑板和底支撑板相互连接的一对侧臂,所述每个侧臂包括一个适于安装压电元件的外表面;其特征在于:所述顶面、底面和/或所述外表面上包括一个局部蚀刻槽口。
【技术特征摘要】
1.一种用于磁头折片组合的微致动器,包括金属框架,所述金属框架包括顶支撑板,其具有一个用于支持磁头的顶面;底支撑板,其具有适于安装到悬臂件上的底面;以及分别与顶支撑板和底支撑板相互连接的一对侧臂,所述每个侧臂包括一个适于安装压电元件的外表面;其特征在于所述顶面、底面和/或所述外表面上包括一个局部蚀刻槽口。2. 根据权利要求1所述的微致动器,其特征在于所述局部蚀刻槽口分布 在每个侧壁的外表面上。3. 根据权利要求1所述的微致动器,其特征在于所述局部蚀刻槽口分布 在所述底支撑板的底面上。4. 根据权利要求1所述的微致动器,其特征在于所述局部蚀刻槽口分布 在所述顶支撑板的顶面上。5. 根据权利要求1所述的微致动器,其特征在于所述局部蚀刻槽口分布 在每个侧壁的外表面、底支撑板的底面以及顶支撑板的顶面上。6. 根据权利要求1所述的微致动器,其特征在于所述局部蚀刻槽口为若 千个相互间隔分布的局部蚀刻槽口 。7. 根据权利要求6所述的微致动器,其特征在于所述每个局部蚀刻槽口 呈圆孔状。8. 根据权利要求6所述的微致动器,其特征在于所迷局部蚀刻槽口的形 状为正方形或矩形。9. 根据权利要求6所述的微致动器,其特征在于所述若干个局部蚀刻槽 口分布在每个侧臂的外表面、底支撑板的底面和/或顶支撑板的顶面上。10. 根据权利要求1所述的微致动器,其特征在于所述局部蚀刻槽口的深 度为l-20tim。11. 根据权利要求1所述的微致动器,其特征在于所述局部蚀刻槽口具有 增加表面粗糙度的结构,从而增强安装强度。12. 根据权利要求1所述的微致动器,其特征在于所述局部蚀刻槽口呈长 线型。13. 根据权利要求12所述的微致动器,其特征在于所述局部蚀刻槽口沿 每个侧臂的顶部边缘分布。14. 根据权利要求12所述的微致动器,其特征在于所述局部蚀刻槽口沿 每个侧臂的底部边缘分布。15. 根据权利要求12所述的微致动器,其特征在于所述局部蚀刻槽口沿 每个侧臂的顶部边缘和底部边缘分布。16. —种磁头折片组合,包括 微致动器;,兹头;以及 用于支撑微致动器和磁头的悬臂件;其中,所述微致动器包括金属框架, 所述金属框架包括顶支撑板,其具有一个用于支持石兹头的顶面;底支撑板,其具有适于安装到悬臂件上的底面;以及分别与顶支撑板和底支撑板相互连接的一对侧臂,所述每个侧臂包括一个 适于安装压电元件的外表面;其特征在于所述顶面、底面和/或所述外表面上包括一个局部蚀刻槽口。17. 根据权利要求16所述的磁头折片组合,其特征在于所述局部蚀刻槽 口分布在每个侧壁的外表面上。18. 根据权利要求16所述的磁头折片组合,其特征在于所述局部蚀刻槽 口分布在所述底支撑板的底面上。19. ...
【专利技术属性】
技术研发人员:姚明高,谢怡如,
申请(专利权)人:新科实业有限公司,
类型:发明
国别省市:HK[中国|香港]
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